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NTIS 바로가기大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A. A, v.33 no.8 = no.287, 2009년, pp.733 - 738
Mechanical properties of silicon nanowires are presented. In particular, predictions from the calculations based on different length scales, first principles calculations, atomistic calculations, and continuum nanomechanical theory, are compared for silicon nanowires. There are several elements th...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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실리콘 나노와이어의 표면 원자들에 이물질이나 산화막을 쉽게 생성되는 이유는? | 실험에서 만들어지는 실리콘 나노와이어의 표면 원자들은 반응성이 매우 높기 때문에, 이물질이나 산화막이 쉽게 생성된다. 이를 제거하기 위해 HF로 씻어내면 자연스럽게 수소 표면층이 생기게 되고, 이 상태의 나노와이어를 전산모사를 하기 위해서는 실리콘-수소 원자간 포텐셜(interatomic potential)이 필요하다. | |
실리콘(규소, Si) 소재 나노와이어가 많은 관심을 받아온 이유는? | 실리콘(규소, Si) 소재 나노와이어는 거시적인 구조물과는 전혀 다른 특성, 그리고 반도체 공정을 이용한 반도체기반 전자회로와의 집적 가능성등으로 인해 많은 관심을 받아왔으며, 반도체 소자부터 센서나 공진기 등의 transducers 에 이르기까지 기계적, 전기적 소자로서의 다양한 가능성이 활발히 연구되고 있다.(1~4) |
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Ramana Murty, M. V. and Atwater H. A., 1995, 'Empirical Interatomic Potentials for Si-H Interactions,' Phys. Rev. B, Vol. 51, No. 8, pp. 4889~4893
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McSkimin, H. J. and Andreatch, Jr., P., 1964, 'Elastic Moduli of Silicon vs Hydrostatic Pressure at $25.0^{\circ}C$
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