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펄스 레이져 증착법으로 성장한 ZnO 박막의 마이크로 PL 특성 분석
Investigation on the Micro-photoluminescence of ZnO Thin Films Grown by Pulsed Laser Deposition 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.22 no.9, 2009년, pp.756 - 759  

이득희 (한국과학기술연구원 에너지재료연구단) ,  임재현 (한국과학기술연구원 에너지재료연구단) ,  김상식 (고려대학교 전기전자전파공학부) ,  이상렬 (한국과학기술연구원 에너지재료연구단)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We described the growth of undoped ZnO thin films and their optical properties changing with a various growth temperature. The undoped ZnO thin films were grown on $c-Al_2O_3$ substrates using pulsed laser deposition (PLD) at room temperature, 200, 400, and $600^{\circ}C$, resp...

주제어

AI 본문요약
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제안 방법

  • FE-SEM 분석을 통해 ZnO 박막의 성장 온도에 따른 표면 형상을 관찰하였으며, 구조적 특성 분석을 위해 XRD 분석이 이루어졌다. 첨가적으로, 결정립계가 undoped ZnO 박막의 광학적 특성에 미치는 영향의 확인을 위해 325 nm의 파장을 갖는 He-Cd laser를 여기광원으로 이용하여 상온 PL 및 ii-PL 측정을 하였다.
  • 성장하였다. X-ray diffraction (XRD) 측정과 photoluminescence (PL) 측정을 통해 성장 된 ZnO 박막의 구조적, 광학적 특성을 관찰하였다. 또한, micro-PL (p-PL) 측정을 통해 결정립계가 ZnO 박막의 광학적 특성에 미치는 영향을 확언하였다.
  • X-ray diffraction (XRD) 측정과 photoluminescence (PL) 측정을 통해 성장 된 ZnO 박막의 구조적, 광학적 특성을 관찰하였다. 또한, micro-PL (p-PL) 측정을 통해 결정립계가 ZnO 박막의 광학적 특성에 미치는 영향을 확언하였다.
  • 타겟 화학조성비의 균일한 증착과 균질한 박막의 성장을 위해 박막 성장 시 타겟과 기판 홀더를 함께 회전시켜 주었다. 박막의 성장은 10분 동안 이루어졌으며 동일한 조건에서 성장 온도가 각각 상온, 200도, 400도, 그리고 600 도에서 ZnO 박막 성장이 이루어졌다.
  • 본 연구에서는 PLD 성장 방법을 이용하여 ZnO 박막을 각각 상온, 200도, 400도, 그리고 600도에서 성장하였다. 성장 온도에 따른 박막의 구조적, 광학적 특성 변화를 확인하였다.
  • 본 연구에서는 PLD 성장 방법을 이용하여 다양한 성장 온도에서 c-plane 사파이어 기판 위에 ZnO 박막을 성장하였다. X-ray diffraction (XRD) 측정과 photoluminescence (PL) 측정을 통해 성장 된 ZnO 박막의 구조적, 광학적 특성을 관찰하였다.
  • 본 연구에서는 PLD 장비를 사용하여 c-plane 사파이어 기판 위에 ZnO 박막을 성장하였다. 1 inch 디스크형의 ZnO 타겟을 사용하였으며 기판은타겟 표면과 수직한 방향으로 4.
  • 성장 온도에 따른 박막의 구조적, 광학적 특성 변화를 확인하였다. ZnO 박막의 성장온도에 따른 XRD ZnO (002) 피크의 FWHM 확인 및 상온 PL exciton 발광 피크 확인 결과, 상대적으로 고온에서 성장한 샘플이 우수한 결정성을 갖는 박막의 성장이 이루어짐을 확인할 수 있었다.
  • 첨가적으로, 결정립계가 undoped ZnO 박막의 광학적 특성에 미치는 영향의 확인을 위해 325 nm의 파장을 갖는 He-Cd laser를 여기광원으로 이용하여 상온 PL 및 ii-PL 측정을 하였다.
  • 5 x 10 1 Torr로 유지하였다. 타겟 화학조성비의 균일한 증착과 균질한 박막의 성장을 위해 박막 성장 시 타겟과 기판 홀더를 함께 회전시켜 주었다. 박막의 성장은 10분 동안 이루어졌으며 동일한 조건에서 성장 온도가 각각 상온, 200도, 400도, 그리고 600 도에서 ZnO 박막 성장이 이루어졌다.

대상 데이터

  • 1 inch 디스크형의 ZnO 타겟을 사용하였으며 기판은타겟 표면과 수직한 방향으로 4.5 cm 거리에 위치시켰다. 355 nm 파장을 갖는 Nd:YAG lasei■을 타겟에 조사하였으며 에너지 밀도는 1.
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참고문헌 (6)

  1. S. Chang, Y.-W. Song, S. Lee, S. Y. Lee, and B.-K. Ju, 'Efficient suppression of charge trapping in ZnO-based transparent thin film transistors with novel $Al_2O3/HfO_2/Al_2O_3$ structure', Appl. Phys. Lett., Vol 92, Iss. 19, p. 192104, 2008 

  2. S. Masuda, K. Kitamura, Y. Okumura, S. Miyatake, H. Tabata, and T. Kawai, 'Transparent thin film transistors using ZnO as an active channel layer and their electrical properties', J. Appl. Phys., Vol. 93, Iss. 3, p. 1624, 2003 

  3. 황현석, 여동훈, 김종희, 송준태, 'Ga이 첨가된 ZnO 박막의 가스센서로의 응용 연구', 전기전자재료학회논문지, 21권, 6호, p. 499, 2008 

  4. S. Y. Lee, Y.-W. Song, and K. A. Jeon, 'Synthesis and analysis of resistance- controlled Ga-doped ZnO nanowires', J. Cryst. Growth, Vol. 310, Iss. 20, p. 4477, 2008 

  5. $\ddot{U}$ . $\ddot{O}$ zg $\ddot{u}$ r, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Do $\check{g}$ an, V. Avrutin, S.-J. Cho, and H. Morkoc, 'A comprehensive review of ZnO materials and devices', J. Appl. Phys., Vol. 98, Iss. 4, p. 041301, 2005 

  6. S. P. Chang, R. W. Chuang, S. J. Chang, Y. Z. Chiou, and C. Y. Lu, 'MBE n-ZnO/MOCVD p-GaN heterojunction light-emitting diode', Thin Solid Films, Vol. 517, Iss. 17, p. 5054, 2009 

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