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NTIS 바로가기Journal of information display, v.10 no.3, 2009년, pp.117 - 120
Kim, Do-Kyung (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University) , Jeong, Woong-Hee (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University) , Bae, Jung-Hyeon (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University) , Kim, Hyun-Jae (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University)
A new crystallization method for amorphous silicon, called selective area heating (SAH), was proposed. The purpose of SAH is to improve the reliability of amorphous silicon films with extremely low thermal budgets to the glass substrate. The crystallization time shortened from that of the convention...
A. Nakamura, F. Emoto, E. Fujii, A. Yamamoto, Y. Uemoto, K. Senda, and G. Kano, J. Appl. Phys. 66, 4248 (1989)
X. Zhang, T. Zhang, M. Wong, and Y. Zohar, J. MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS Vol. 7, 356 (1998)
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Samara L. Firebaugh, Klavs F. Jensen, and Martin A. Schmidt, J. MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS Vol. 7, 1057 (1998)
D. K. Kim, W. H. Jeong, C. H. Lee, T. H. Jeong, K. H. Kim, T. H. Hwang, N. S. Roh, and H. J. Kim, J. Molecular Crystals and Liquid Crystals (2009) in press
J. M. Owens, D. Han, B. Yan, J. Yang, K. Lord, and S. Guha, in Proc. Mater. Res. Soc. Symp. (2003), p.762
J. Viatella, R.K. Singh, Materials Science and Engineering, B47, 78 (1997)
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