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NTIS 바로가기한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.10 no.10, 2009년, pp.2572 - 2576
주영철 (순천향대학교 기계공학과) , 신휘철 (순천향대학교 기계공학과) , 강명구 ((주)쎄믹스)
The wafer prober is used in mass production process of semiconductor chips. The chuck in wafer prober must have a uniform temperature distribution when the chuck is heated or cooled. The temperature distribution of prober chuck is measured by using a thermocouple when the chuck is cooled. The temper...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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웨이퍼 프로버란 무엇인가? | 반도체 양산공정에 사용되는 웨이퍼 프로버(wafer prober)는 웨이퍼 상에 구성된 수많은 반도체 칩 회로의 이상 유무를 순차적으로 검사하기 위해 핀(probe)을 웨이퍼 패드에 반복적으로 접촉시켜주는 장치로서, 반도체 소자의 제조공정 중 없어서는 안 되는 필수적인 장비중의 하나이다[1]. 이 장비에서 척은 웨이퍼를 기계적으로 지지하여주고 웨이퍼의 온도를 시험온도인 -50℃ ∼ 150℃ 내외로 균일하게 가열․냉각해 주는 역할을 한다. | |
프로버 척의 온도분포 해석 결과 1사분면에서 냉점이 존재하는 이유는? | 그림 2(b)의 측정치가 척의 모서리 부분을 제외한 값이라는 것을 고려하면 해석결과와 측정결과가 일치한 분포를 보인다. 1사분면에서 냉점이 존재하는 이유는 그 아래 부분의 유로에 냉각수 입구부분에서 갓 들어온 차가운 냉각수가 흐르기 때문이다. 또한 척의 바깥쪽에 온도가 높은 영역이 나타나는데 이는 그 아래쪽의 냉각수 회로에 흐르는 냉각수의 온도가 많이 올라 큰 냉각효과를 내지 못하기 때문인 이유와 척의 옆면에서 대기 중으로 열전달이 일어나 중심부보다 열전달이 큰 두 가지 요인이 있다고 사료된다. | |
웨이퍼 프로버 장비에서 척의 온도분포와 평편도에 대한 요구조건이 매우 엄격한 이유는 무엇인가? | 이 장비에서 척은 웨이퍼를 기계적으로 지지하여주고 웨이퍼의 온도를 시험온도인 -50℃ ∼ 150℃ 내외로 균일하게 가열․냉각해 주는 역할을 한다. 이 경우 웨이퍼 상의 모든 소자가 균일온도에서 측정되어야 하기 때문에 척의 온도분포와 평편도에 대한 요구조건이 매우 엄격하여 척 전체 표면의 온도가 항상 ±1.5℃ 이내의 차이를 보여야 하며, 가열 또는 냉각상태에서도 평편도가 ±8μm 이내에 유지되어야 한다. |
Richard C. Jaeger, 반도체 공정개론 (이상열 역), 교보문고, 2005.
Incropera, DeWitt, Bergmann, and Lavine, Fundamentals of Heat and Mass Transfer, 6th ed, John Wiley & Sons, 2007.
http://www.matweb.com/
http://www.mmm.co.jp/emsd/product
W. Kays and M. Crawford, Convective Heat and Mass Transfer, 2nd ed, Mc-Graw Hill, 1980.
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