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NTIS 바로가기한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.47 no.6 = no.331, 2010년, pp.479 - 484
Microstructural and mechanical properties of the TiN films deposited on Si substrates under various substrate bias voltages by a reactive magnetron sputtering have been studied. It was found that the crystallographic texture, microstructural morphology and mechanical property of the TiN films were s...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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(-)전하를 띤 스퍼터된 원자의 포격이 성막중의 막 안에 손상을 입혀 형성되는 다수의 결함은 무엇으로 인해 증가하며 그 영향은 무엇인가? | 본 연구에서는 (-)전하를 띤 스퍼터된 원자의 포격이 성막중의 막 안에 손상을 입혀 다수의 결함이 막 안에 형성되었다고 사료된다. 이러한 결함의 밀도는 고 에너지의 스퍼터된 원자 때문에 증가하게 되며 성막 중 기판 위에 반복적인 핵생성을 유발시킨다. 불순물들은 입계에 석출하게 되고, Zener drag12)로 인해 입성장은 제한되기 때문에 이는 나노결정 TiN 막의 형성 및 유지에 매우 유리하다. | |
TiN 막이 하드 코팅 및 장식용 코팅산업분야에서 광범위하게 사용되고 있는 이유는? | TiN 막은 기계적 경도, 내마모 및 내식성이 우수할 뿐만 아니라 질소함량에 따라 다양한 색상표현이 가능하기 때문에 하드 코팅 및 장식용 코팅산업분야에서 광범위하게 사용되고 있다.1,2) 특히 미세구조에 따른 TiN 막의 기계적, 열적 및 물리적 특성과의 상호관계가 크게 주목 받고 있다. | |
마그네트론 스퍼터법에서 최종적으로 얻어지는 코팅 막의 미세구조 및 성질에 큰 영향을 미치는 증착변수에는 어떠한 것들이 있는가? | 기존의 마그네트론 스퍼터법에서는 기판온도, 공정압력, 타겟 파워, 기판 바이어스와 포격입자의 에너지 및 flux 등과 같은 증착변수가 최종적으로 얻어지는 코팅 막의 미세구조 및 성질에 큰 영향을 미친다고 알려져 있다. 두께가 수십 나노미터인 TiN 막의 경우, 일반적으로 (200)면으로 우선배향 된다고 보고되고 있으나, 막의 두께가 수백 나노 미터 이상으로 두꺼워지면 (111)면으로 우선배향성이 전이 된다고 알려져 있다. |
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저자가 APC(Article Processing Charge)를 지불한 논문에 한하여 자유로운 이용이 가능한, hybrid 저널에 출판된 논문
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