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NiFe/Cu/NiFe/IrMn 스핀밸브 박막소자의 자화 용이축에 따른 형상 자기이방성
Shape Magnetic Anisotropy on Magnetic Easy Axis of NiFe/Cu/NiFe/IrMn Spin Valve Thin Film 원문보기 논문타임라인

韓國磁氣學會誌 = Journal of the Korean Magnetics Society, v.20 no.2, 2010년, pp.35 - 40  

최종구 (상지대학교 대학원 동서의료공학과) ,  곽태준 (상지대학교 보건과학대학 한방의료공학과) ,  이상석 (상지대학교 대학원 동서의료공학과) ,  심정택 (상지대학교 이공과대학 응용물리전자학과)

초록
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NiFe/Cu/NiFe/IrMn 스핀밸브 박막소자에 대해 자화 용이축에 의존하는 형상 자기이방성을 조사하였다. Ta(5 nm)/NiFe(8 nm)/Cu(2.3 nm)/NiFe(4 nm)/IrMn(8 nm)/Ta(2.5 nm) 다층박막을 증착할 때 350 Oe의 자기장으로 인가한 자화 용이축을 폭 방향 또는 길이 방향으로 설정하여 $1\;{\mu}m\;{\times}\;18\;{\mu}m$의 소자를 제작하였다. 2단자 방법으로 소자의 자기저항 곡선으로부터 자장감응도를 측정하고 자화 용이축에 따른 형상 자기이방성을 비교하였다. 측정한 소자 길이 방향의 센싱전류와 고정층의 자화 용이축이 소자 폭방향 각도가 GMR-SV 소자를 바이오센서로 활용하는데 중요한 요인임을 확인하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The GMR-SV (giant magnetoresistance-spin valve) device depending on the micro patterned features according to two easy directions of longitudinal and transversal axes has been studied. The GMR-SV multilayer structure was Ta(5 nm)/NiFe(8 nm)/Cu(2.3 nm)/NiFe(4 nm)/IrMn(8 nm)/Ta(2.5 nm). The applied an...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구는 나노자성 감지 GMR-SV 바이오센서로 이용하기 위해 제작한 소자의 고감도 기능을 향상시키는 방법에 대해 실험적인 결과를 바탕으로 제시하는 것이다[9, 10]. 즉 자성다층박막에서 고정층은 폭 방향으로 자화 용이축을, 자유층은 길이 방향으로 형상 자기이방성을 갖도록 유도하여 그 자기저항 특성을 관찰하여 비교 분석하였다.
  • 즉, GMR-SV 다층박막을 증착할 때 형성된 일축 이방성인 자기장의 용이축과 수직으로 90°가 되도록 소자를 길이 방향으로 패턴닝하는 것이 중요하다. 본 연구에서 자장민감도를 감소시키면서 소자의 폭 방향을 고정층의 용이축 방향으로, 소자의 길이 방향을 자유층의 용이축 방향으로 유도하는 이유는 GMR-SV 다층박막 구조에서 자유층의 보자력이 최소화로 나타난 0 Oe 근방에서 외부에 따른 미세 자기장이 증감함에 따라 선형적으로 반응하는 최적 조건을 얻기 위함이었다. GMR-SV 소자가 극미세 자기장 검출용 바이오 소자로 사용될 때 갖추어야 할 주요 특성으로는 선형적인 민감도와 큰 출력값 등을 보유하는 것이다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
전형적인 바이오센서의 구성은? GMR-SV 소자는 나노공학 및 생명공학의 기술과 의학 및 생물학의 학제간 융합연구가 발전하여 DNA(deoxy nuclei acid) 분자 칩(chip)이나 고감도 생체센서로 활용하기까지 이르렀다[1, 2]. 생체분자로부터 나오는 생체신호를 검출하기 위해 개발된 전형적인 바이오센서(biosensor)는 생물학적 인지시스템과 물리화학적 신호변환기(transducer)를 조합하여 특이한 분자 종을 선택적으로 반응하여 분석하는 핵심소자들로 구성되어 있다[3, 4].
GMR-SV 박막 증착 시 자성 고정층의 용이축 방향을 어떻게 해야하는 것이 중요한가? 일축 방향 자기장 하에서 자화 용이축에 의존하는 형상 자기이방성에 대해 실험한 결과로 알 수 있는 것은 자성 고정층의 용이축 방향을 GMR-SV 바이오센서의 폭 방향으로 정하고 자성 자유층은 형상 자기이방성에 의해 설정되는 길이 방향으로 용이축 방향을 정하는 것이 소자를 개발 하는데 가장 이상적인 요건이다. 즉, GMR-SV 다층박막을 증착할 때 형성된 일축 이방성인 자기장의 용이축과 수직으로 90°가 되도록 소자를 길이 방향으로 패턴닝하는 것이 중요하다. 본 연구에서 자장민감도를 감소시키면서 소자의 폭 방향을 고정층의 용이축 방향으로, 소자의 길이 방향을 자유층의 용이축 방향으로 유도하는 이유는 GMR-SV 다층박막 구조에서 자유층의 보자력이 최소화로 나타난 0 Oe 근방에서 외부에 따른 미세 자기장이 증감함에 따라 선형적으로 반응하는 최적 조건을 얻기 위함이었다.
GMR-SV 소자의 활용 현황은? GMR-SV(Giant magnetoresistance-spin valve) 소자를 이용한 바이오센서는 분자수준 크기의 특이 종을 선택함에 있어서 자성신호를 측정하여 생물학적 또는 화학적 분자의 운동을 관찰하는데 용이할 수 있다. GMR-SV 소자는 나노공학 및 생명공학의 기술과 의학 및 생물학의 학제간 융합연구가 발전하여 DNA(deoxy nuclei acid) 분자 칩(chip)이나 고감도 생체센서로 활용하기까지 이르렀다[1, 2]. 생체분자로부터 나오는 생체신호를 검출하기 위해 개발된 전형적인 바이오센서(biosensor)는 생물학적 인지시스템과 물리화학적 신호변환기(transducer)를 조합하여 특이한 분자 종을 선택적으로 반응하여 분석하는 핵심소자들로 구성되어 있다[3, 4].
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참고문헌 (13)

  1. D. A. Baker, Nature 405, 39 (2000). 

  2. G. Li, S. Sun, R. J. Wilson, R. L. White, N. Pourmand, and S. X. Wang, Sens. Acut. A 126, 98 (2006). 

  3. D. L. Graham, H. A. Feliciano, P. P. Fretias, L. A. Clarke, and M. D. Amaral, Sens. Acut. B 107, 936 (2005). 

  4. S. H. Park, K. S. Soh, M. C. Ahn, D. G. Hwang, and S. S. Lee,J. Kor. Magn. Soc. 16, 157S (2006). 

  5. S. S. Lee, S. H. Park, and K. S. Soh, Sae Mulli 52, 564 (2006). 

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    또한 GMR 자기센서를 이용한 DNA 식별 꼬리표(tag)를 개발하는 연구도 하고 있어서 수십 개 미만의 분자를 식별할 수 있는 의료용 바이오칩 센서(bio-chip sensor)가 국내·외 여러 연구팀에서 개발되고 있다[5-7].

  6. B. M. de Boer, J. A. H. M. Kahlman, T. P. G. H. Jansen, H.Duric, and J. Veen, Biosens. Bioelectron. 22, 2366 (2006). 

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    또한 GMR 자기센서를 이용한 DNA 식별 꼬리표(tag)를 개발하는 연구도 하고 있어서 수십 개 미만의 분자를 식별할 수 있는 의료용 바이오칩 센서(bio-chip sensor)가 국내·외 여러 연구팀에서 개발되고 있다[5-7].

  7. J. H. Min, A. Y. Song, Y. K. Kim, and J. H. Wu, J. Kor. Magn. Soc. 19, 34 (2009). 

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    또한 GMR 자기센서를 이용한 DNA 식별 꼬리표(tag)를 개발하는 연구도 하고 있어서 수십 개 미만의 분자를 식별할 수 있는 의료용 바이오칩 센서(bio-chip sensor)가 국내·외 여러 연구팀에서 개발되고 있다[5-7].

  8. D. K. Wood, K. K. Ni, D. R. Schmidt, and A. N. Cleland, Sens. Acut. A 120, 1 (2005). 

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    앞으로 자성비드에 코팅된 Streptavidin 입자와 바이오-틴(tin)의 강한 결합력을 이용하여 자성센싱소자의 장점과 우수한 특성을 지닌 나노 바이오 소자를 개발하여 생체재료로 사용하게 될 것으로 기대된다[8].

  9. S. S. Lee, D. G. Hwang, J. K. Kim, and K. Rhie, J. Korean Phys. Soc. 40, 484 (2002). 

  10. D. W. Kim, J. H. Lee, M. J. Kim, and S. S. Lee, J. Magnetics14, 80 (2009). 

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    광 리소그래피 공정으로 1 µm의 폭 크기와 20 µm의 길이를 갖는 GMR-SV 소자를 제작하기 위해 먼저 금속 그림자 마스크(shadow mask)없이 증착한 시료에 PR(Photoresistance) 영역을 남기도록 하였으며, 전자 사이클로트론 공명 장치(Electron Cyclotron Resonance; ECR)를 이용한 Ar+ 이온밀링으로 식각을 하였다[10-12].

  11. W. H. Lee, D. G. Hwang, and S. S. Lee, J. Magnetics 14, 18(2009). 

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    광 리소그래피 공정으로 1 µm의 폭 크기와 20 µm의 길이를 갖는 GMR-SV 소자를 제작하기 위해 먼저 금속 그림자 마스크(shadow mask)없이 증착한 시료에 PR(Photoresistance) 영역을 남기도록 하였으며, 전자 사이클로트론 공명 장치(Electron Cyclotron Resonance; ECR)를 이용한 Ar+ 이온밀링으로 식각을 하였다[10-12].

  12. S. H. Park, K. S. Soh, D. G. Hwang, J. R. Rhee, and S. S. Lee,J. Magnetics 13, 30 (2008). 

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    광 리소그래피 공정으로 1 µm의 폭 크기와 20 µm의 길이를 갖는 GMR-SV 소자를 제작하기 위해 먼저 금속 그림자 마스크(shadow mask)없이 증착한 시료에 PR(Photoresistance) 영역을 남기도록 하였으며, 전자 사이클로트론 공명 장치(Electron Cyclotron Resonance; ECR)를 이용한 Ar+ 이온밀링으로 식각을 하였다[10-12].

  13. J. G. Choi, I. S. Koh, Y. M. Gong, M. H. Kim, Y. S. Park, D. G.Hwang, and S. S. Lee, J. Kor. Magn. Soc. 19, 1 (2009). 

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