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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.9 no.1, 2010년, pp.5 - 10
석종원 (중앙대학교 기계공학부) , 이성훈 (중앙대학교 기계공학부 대학원) , 김필기 (중앙대학교 기계공학부 대학원)
Among a variety of cleaning processes, the cryogenic carbon dioxide (
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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공정변수 또는 주위 변수에 의해 부착되는 오염물은 LCD, PDP 등의 고밀도 회로에 어떤 영향을 미치는가? | 반도체 유관 부품이나 LCD(Liquid Crystal Display) 및 PDP(Plasma Display Panel) 등의 초소형전자공학(Microelectronics)에서 이들 회로가 고밀도로 집적됨에 따라 공정변수 또는 주위 변수에 의해 부착되는 오염물은 수율 및 품질 신뢰성에 결정적인 영향을 미친다[1,2]. 따라서 오염물 제거를 위한 세정은 제품의 품질 및 기능을 향상시키며 후속 공정을 원활히 수행하는데 필수적인 공정으로 대두되고 있다. | |
현재 반도체 산업에서 사용되는 오염물 제거를 위한 세정방법은 무엇이며, 어떤 문제가 있는가? | 따라서 오염물 제거를 위한 세정은 제품의 품질 및 기능을 향상시키며 후속 공정을 원활히 수행하는데 필수적인 공정으로 대두되고 있다. 그러나 현재 반도체 산업에서 오염물을 제거하는 고도 세정과정은 대부분 초순수 (Ultrapure Water; UPW)나 화학제 등을 사용하는 습식세정법이 주로 사용되고 있고, 이는 초순수 사용에 따른 에너지, 황산이나 불산 등 유해 화학물질 사용 등의 환경에 치명적인 기술적 문제들을 안고 있다. | |
오염물 제거를 위한 세정은 어떤 공정으로 대두되고 있는가? | 반도체 유관 부품이나 LCD(Liquid Crystal Display) 및 PDP(Plasma Display Panel) 등의 초소형전자공학(Microelectronics)에서 이들 회로가 고밀도로 집적됨에 따라 공정변수 또는 주위 변수에 의해 부착되는 오염물은 수율 및 품질 신뢰성에 결정적인 영향을 미친다[1,2]. 따라서 오염물 제거를 위한 세정은 제품의 품질 및 기능을 향상시키며 후속 공정을 원활히 수행하는데 필수적인 공정으로 대두되고 있다. 그러나 현재 반도체 산업에서 오염물을 제거하는 고도 세정과정은 대부분 초순수 (Ultrapure Water; UPW)나 화학제 등을 사용하는 습식세정법이 주로 사용되고 있고, 이는 초순수 사용에 따른 에너지, 황산이나 불산 등 유해 화학물질 사용 등의 환경에 치명적인 기술적 문제들을 안고 있다. |
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