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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.9 no.1, 2010년, pp.55 - 59
정혁 (한양대학교 대학원) , 안진홍 ((주)에이치시티) , 안강호 (한양대학교 기계공학과)
In this study, we developed nonvolatile residue (NVR) real-time monitoring system to measure the nonvolatile residue particle in ultra pure water (UPW). This device has a capability of measuring 4 different channels, i.e., 10 nm, 30 nm, 50 nm, and 100 nm. Until now, the light scattering method to de...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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현재까지 반도체 생산 현장 등에서 초 순수물에 포함되어 있는 입자를 측정하는 계측 장비로 어떤 방식을 적용하고 있는가? | 또한 반도체뿐만 아니라 LCD 제조 공정에서도 particle 관리가 중요한 생산 관리 항목으로 대두되고 있는 실정이다. 그러나 현재까지 반도체 생산 현장 등에서 초 순수물에 포함되어 있는 입자를 측정하는 계측 장비로는 laser scattering 방식을 적용하고 있지만 50 nm미만의 초 미세 입자 측정에 그 한계를 나타내고 있다. 또한 laser scattering 방식은 비휘발성 잔류 물질을 측정할 수 없는 단점을 가지고 있다. | |
RAE type’s UPW입자 계수기의 필요성을 요약하면? | RAE type’s UPW입자 계수기의 필요성으로 다음으로 요약할 수 있다. 첫째로 반도체에서 사용하는 UPW내, 비휘발성 불순물에 대한 측정 및 크기 분포에 대한 객관화된 자료가 없으며, 둘째로 기존 liquid particle counter의 경우, 50 nm 이상으로 그 이하의 크기 및 관리에 대한 평가가 미흡하며, 셋째로 UPW내에 존재하는 비휘발성 잔류 물질의 경우, 세정 후 wafer표면에 존재하며 따라서 RAE type의 UPW입자 계수기를 이용한 미세 입자 크기 및 개수를 모니터링하는 것이 필요하다. | |
laser scattering 방식이 50 nm미만의 초 미세 입자 측정에 한계를 나타내는 것 이외에 또 다른 단점은? | 그러나 현재까지 반도체 생산 현장 등에서 초 순수물에 포함되어 있는 입자를 측정하는 계측 장비로는 laser scattering 방식을 적용하고 있지만 50 nm미만의 초 미세 입자 측정에 그 한계를 나타내고 있다. 또한 laser scattering 방식은 비휘발성 잔류 물질을 측정할 수 없는 단점을 가지고 있다. ITRS 2005에 따르면 2009년 현재 입자 크기 관리는 약 25 nm이며 2012년에는 약 18 nm로 전망하고 있다(Fig. |
P. McMurry, "The History of Condensation Nucleus Counters," Aerosol Science and Technology, V33, No.4, 2000, pp297-322.
David B. Blackford, "The measurement of nonvolatile residue in high-purity water," Journal of Process Analytical, V4, No.3,4, 1998-99, pp. 92-98.
T. Niida, Y. Kousaka, S. Oda, and Tanaka, "Nonvolatile residue analysis by aerosolizing ultrapure," 4th symposium on Aerosol Science and Technology, Nagoya, JAPAN, August 1986.
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