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양극산화 알루미늄막을 이용한 나노패턴 성형용 금형제작에 대한 연구
A Study on the Fabrication of Nano-Pattern Mold Using Anodic Aluminum Oxide Membrane 원문보기

소성가공 = Transactions of materials processing : Journal of the Korean society for technology of plastics, v.19 no.2 = no.116, 2010년, pp.73 - 78  

오정길 (한국생산기술연구원 융합생산기술연구부) ,  김종선 (한국생산기술연구원 금형기술지원센터) ,  강정진 (한국생산기술연구원 융합생산기술연구부) ,  김종덕 (한국생산기술연구원 금형기술지원센터) ,  윤경환 (단국대학교 기계공학과) ,  황철진 ((주)마이크로몰드 부설연구소)

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Recently, many researches on the development of super-hydrophobic surface have been concentrated on the fabrication of nano-patterned products. Nano-patterned mold is a key to replicate nano-patterned products by mass production process such as injection molding and UV molding. The present paper pro...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구는 소수성표면에 적용할 수 있는 나노패턴 성형을 위해서 양극산화알루미늄(AAO)을 전주하여 니켈 금형으로 복제하였으며, 이를 통해 값싸고 대량생산기술 적용이 가능한 나노패턴 금형을 제작할 수 있음을 보였다.
  • 본 연구에서는 초소수성표면 및 반사방지표면에 필요한 나노패턴 성형을 위해서 양극산화알루미늄을 전주하여 니켈 금형으로 복제하였으며, 이를 통해 값싼 나노패턴 금형을 제작하고 대량생산기술에 적용하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
초소수성 표면을 갖기 위해서는 무엇이 필요한가? 이러한 기능 중에 최근 초소수성(super-hydrophobic) 기능을 가지는 표면 제작에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 초소수성 표면을 가지기 위해서는 낮은 표면에너지를 갖는 물질과 높은 형상비의 나노 패턴 혹은 마이크로와 나노 크기가 혼합된 패턴이 필요하다[1,2].
나노패턴 금형을 제작하는 대표적 기술은 무엇인가? 초소수성 기능을 갖는 제품을 사출성형(injection molding), UV 성형(UV-molding)으로 대량생산하기 위해서는 나노패턴 금형이 필요하며, 나노패턴 금형을 제작하는 대표적인 기술이 전주공정(electroforming)이다[3]. 전주공정으로 금형을 제작하기 위해서는 피전착체인 나노패턴 마스터(master)가 필요하며, 마스터를 제작하는 방식은 주로 전자빔리소그래피(E-beam lithography)를 사용하고 있으나 공정시간이 길고 고가의 공정비용 및 장비 유지비용의 문제점을 가지고 있다[4].
양극산화알루미늄은 어떤 특정의 배열을 가지는가? 일반적인 산화알루미늄은 특정한 배열을 가지지 않으나, 양극산화법으로 제작된 산화알루미늄은 Fig. 1과 같이 벌집모양의 일정한 나노 크기의 구멍(nano-hole)들을 갖는다. 이러한 양극산화알루미늄은 제작공정이 쉽고 비용이 저렴하며 단일 패턴으로 패턴의 직경과 깊이의 조절이 가능하다[5].
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참고문헌 (9)

  1. A. Tuteja, W. Choi, M. Ma, J. A. Mabry, S. A. Mazzella, G. C. Rutledge, G. H. Mckinley, R. E. Cohen, 2007, Designing Superoleophobic Surfaces, Science, Vol. 318, pp. 1618-1622. 

  2. X. Feng, L. Jang, 2006, Design and Creation of Superwetting/Antiwetting Surfaces, Adv. Mater., Vol. 18, pp. 3063-3078. 

  3. T. Hart, A. Watson, 2007, Electroforming, Metal Finishing, Vol. 105, pp. 331-341. 

  4. W. Menz, J. Mohr, O. Paul, 2004, Microsystem Technology, Germany : WILEY-VCH. 

  5. D. N. Lee, J. H. Lee, I. K. Kang, 1973, The Structure of Porous Anodic Oxide Films on Aluminum, Korea Institute of Science and Technology, pp. 348-354. 

  6. T. H. Kim, Y. E. Yoo, Y. H. Seo, H. J. Lee and Y. W. Park, A study on high aspect ratio of plastic nano hire molding, Journal of Korean Society of 

  7. A. YIN, M. Tzolov, D. Cardimona, L. Guo, J. Xu, 2007, Fabrication of highly ordered anodic aluminum oxide template on silicon substrates, IET Circuits Devices Syst., Vol. 1, pp. 205-209. 

  8. S. H. Hong, J. H. Lee, H. Lee, 2007, Fabrication of 50nm patterned nickel stamp with hot embossing and electroforming process, Microelectronic Eng., Vol. 84, pp. 977-979 

  9. H. S. Lee, D. S. Kim, T. H. Kwon, 2007, UV nano embossing for polymer nano structures with nontranspatent mold insert, Microsyst. Tech., Vol. 13, pp. 593-599. 

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