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전계전자방출 현상의 원리와 활용 원문보기

인포메이션 디스플레이 = Information display, v.11 no.4, 2010년, pp.28 - 40  

이명복 ((재)대구테크노파크 나노융합실용화센터) ,  이성호 ((재)대구테크노파크 나노융합실용화센터) ,  송규호 ((재)대구테크노파크 나노융합실용화센터) ,  최경모 (영진사이버대학 컴퓨터공학과)

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문제 정의

  • 본 논문에서는 지금까지 광범위하게 연구되어온 전계 전자방출현상에 대한 원리를 포함한 초기 평면 다이오드 구조에 대한 FN모델의 이론적인 관계와 CNT등을 포함 하는 날카로운 팁에 기반한 냉음극의 필요성 등에 대해 기술함으로 일반 독자의 이해를 제고함과 동시에 새로운 활용 분야 등을 개척하고자 하는 신진연구자를 위해 MIV 구조 전계방출현상에 기반한 전자냉각의 원리에 대해서도 기술하고자 한다.
  • 본 원고에서 전계방출디스플레이(FED) 기술의 핵심이라 할 수 있는 전계방출현상의 근본원리에 대한 이해도를 제고하고자 초기 평행판에 대한 FN모델의 이론적인 도출과 Aspect ratio가 1000이 넘는 CNT와 같은 나노신소재를 포함하는 방출팁에 기반한 냉음극의 필요성 등에 대하여 해석적 모델링관점에서 논의하였다. 결론적으로 1960년대 초반에 큰 반향을 일으켰던 FED가 상용화 단계로 넘어가기 위해서는 장수명의 안정적으로 동작하는 냉음극용 재료와 구조 및 제조기술 등이 선결되어야 하므로 향후에는 보다 더 다양한 전계전자방출 메카니즘을 이해하고 새로운 분야로 활용하기 위한 보다 폭넓은 연구가 이루어져야 할 것으로 판단된다.
  • 더불어 효과적인 전자냉각소자를 구현 하기 위해서는 반드시 평면구조의 전계전자방출 소자기술이 확보되어야만 한다는 사실을 감안할 때 전계방출을 위한 임계전기장의 세기가 3-5 V/μm인 평면구조 냉음 극소자기술의 확보가 연구의 출발점이 될 것으로 예상된다. 이러한 이해의 토대위에 본 연구에서는 앞선 연구자들이 제시한 재료구조와 전혀 다른 Al2O3/ITO-coated glass 구조를 이용하여 평행판 전계방출소자를 제작하고 특성평가를 통하여 위에서 제시된 전자냉각소자로의 응용을 위한 초석을 놓고자 하였다.
  • 특별히 CNT와 같이 직경이 1~10 nm 범위로 가늘고긴 나노와이어를 이용한 냉음극원에서 길이나 일함수 변화에 의한 영향보다는 팁 반경 R에 대한 의존도가 상대적으로 높은 것으로 알려져 있어 팁 반경의 가우스형 (Gaussian) 통계분포를 고려하여 각 팁에서 방출되는 전류들을 적분하여 해석적인 모델을 도출하고 그 활용성에 대하여 논하고자 한다. 팁 반경 R의 Gaussian 분포는 아래 식(6)과 같으므로,

가설 설정

  • Fower-Nordheim의 전계전자방출 모델은 일정한 일함수, Φ를 갖는 [그림 4]와 같이 일정간격 d인 평판의 금속 표면에 인가되는 DC전압 V(V)를 가정하고 있으며 전자 전송에 따른 주울-열(Joule Heating) 발생을 고려하여 진공으로 방출되는 전자전류 I (A) 를 전기장 #의 함수로 수식적으로 풀어 낸 것이다.
  • 금속과 같은 도체를 중심으로 열전자방출이 관측된 1800년대 후반~1900년대 초반에는, 개스의 열역학적 운동이론을 모방한, 자유전자개스(Free Electron Gas)로 가정하여 도체의 표면에 존재하는 전위장벽(Potential Barrier) 즉, 일함수(Work Function)를 능가하는 외부 열로부터 충분한 운동에너지를 얻은 전자들이 전위장벽을 뛰어넘어 외부로 방출되는 것으로 이해하였다. 대표적인 연구사례로 1928년 노벨상을 수상한 O.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
전계전자방출을 처음 발견한 연구는? 이에 반하여 실온(Room Temperature)의 도체재료 표면에 높은 전기장을 인가하여 전자를 방출하는 전계방출은 냉음극(Cold Cathode)로 알려져 있다. 전계전자방출은 1897년 진공용기의 내부에 설치된 2개의 백금전극 사이에 인가된 전기장에 의해 발생되는 아킹(Arcking)현상 연구에서 처음 발견하였고[2], 이후에 1923년에 Schottky가 처음으로 근사적인 이론모델을 제시하였으며[3], 1928년에 O.W.
금속 재료가 열음극이라 불리는 이유는? 25의 값으로 알려져 있다. 금속 재료의 경우 Φ는 대략 4~5 eV의 값을 가지므로 충분한 전자밀도를 얻기 위해서는 가열온도, T ≥ 2,000 k 이상이 되어야 하기 때문에 열음극(Hot Cathode)이라 불린다.
금속성 기판에서 외부전계 방출을 위해 인가되는 전계의 세기가 6-7 MV/cm(=600-700 μm) 정도로 매우 커야하는 이유는? 난해한 과제중의 하나는 금속성 기판에서 외부전계 방출을 위해 인가되는 전계의 세기가 6-7 MV/cm(=600-700 μm) 정도로 매우 커야만 한다는 것이다. 그 이유는 바로 일반적인 금속들의 표면전위장벽(일함수)이 대략 4.5 eV 정도로 매우 높기 때문이다. 이러한 높은 전위장벽을 페르미준위 근처의 자유전자들이 투과할 수 있도록 만들 수 있는 방법은 바로 표면전위장벽의 높이를 낮추거나 전위장벽의 유효투과폭을 감소시키는 것이고 높은 전계를 금속-진공 계면에 인가함으로 성취될 수는 있으나 현실적으로 그 응용가치 등의 관점에서 현실화되지 못하였다.
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참고문헌 (22)

  1. See the Webpage: http://en.Wikipedia.org/ wiki/Owen _Williams_Richardson ; O.W. Richardson, Nobel Lecture, pp.224-236, December, 12, 1928. 

  2. See : 엄금용, 디스플레이공학, p.20, 기전연구사, 2008. 

  3. W.H. Schottky, Z. f. Physik, 14, 80(1928). 

  4. O. W. Richardson, Proceedings of Royal Society of London, A 117, 719(1928). 

  5. Houston, Z. f. Physik, 47, 33(1928). 

  6. R. H. Fowler and L. Nordheim, Proceedings of Royal Society of London, A 119, 173(1928). 

  7. K.R. Shoulders, Adv. Comput., 2, 135(1961). 

  8. C.A. Spindt, J. Appl. Phys., 29, 3504(1968). 

  9. A. Ghis, R. Meyer, P. Lambaud, F. Levy, T. Leroux, IEEE Trans. Electron Dev., 38, 2320(1993). 

  10. 박근용, 전자부품뉴스 매거진; 전계방출 디스플레이 기술 및 특허동향, p.110, 2007년 4월호. 

  11. G.D. Mahan and L.M. Woods, Phys. Rev. Lett., 80, 4016(1998). 

  12. A. Shakouri, C. LaBounty, J. Piprek, P. Abraham, and J.E. Bowers, Appl. Phys. Lett., 74, 88(1999). 

  13. A.N. Korotkov and K.K. Likharev, Appl. Phys. Lett., 75, 2491(1999) 

  14. A.N. Korotkov and K.K. Likharev, Physica B, 284, 2030(2000). 

  15. M.B. Lee, S.H. Hahm, J.H. Lee, and Y.H. Song, Appl. Phys. Lett., 86, 123511(2005). 

  16. O. Yamashita, K. Satou, and S. Tomiyoshi, J. Appl. Phys., 95, 8233(2004). 

  17. S. Yamaguchi, T. Yamaguchi, K. Nakamura, Y. Hasegawa, H. Okumura, and K. Sato, Rev. Sci. Instrum., 75, 207(2004). 

  18. D. Nicolaescu, J. Vac. Sci. Technol., B11(2), 392 (1993). 

  19. D. Nicolaescu, J. Vac. Sci. Technol., B12(2), 759 (1994). 

  20. M. B. Lee, J. H. Lee, K. R. Kwon, S. H. Hahm, J. H. Lee, Field Emission Workshop '02, 강릉, 관동대학교, 2002년 7월 25-27일 

  21. M. B. Lee, J. H. Lee, K. R. Kwon, S. H. Hahm, J. H. Lee, and J. H. Lee, Proceedings of the 2nd International Meeting on Information Display, pp.1039-1040, Exhibition & Convention Center, Daegu, Korea, August 21-23, 2002. 

  22. S.M. Sze and K.K. Ng, Physics of Semiconductor Devices, 3rd ed. by John Wiley and Sons, pp.227- 233, 2007. 

저자의 다른 논문 :

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