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NTIS 바로가기韓國電磁波學會論文誌 = The journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science, v.22 no.2, 2011년, pp.199 - 207
A Ku-band low noise amplifier has been designed and fabricated by using 0.25 um SiGe BiCMOS process. The developed Ku-band LNA RFIC which has been designed with hetero-junction bipolar transistor(HBT) in the BiCMOS process have noise figure about 2.0 dB and linear gain over 19 dB in the frequency ra...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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위상 배열 안테나용 다기능 RFIC에서 요구되는 높은 안정성과 이득 특성을 만족하면서 전력 특성과 저잡음 특성을 동시에 만족하기 위해서는 캐스코드 증폭기 구조가 최적의 구조로 판단되는 근거는 무엇인가? | 또한, 컬렉터 전압을 높일 수 있기 때문에 증폭기의 전력 특성인 P1 dB 성능의 향상이 가능하다[8],[10]. 참고문헌에 따르면 X-대역에서 동작하는 저잡음 증폭기의 경우 직렬 피드백을 가지는 캐스코드 형태의 증폭기가 잡음 특성과 안정도 특성, 그리고 입력 매칭 특성을 동시에 만족할 수 있는 최선의 구조라고 평가하고 있다[10]. 특히 캐스코드 구조의 BiCMOS HBT의 경우 1 nH 이하의 비교적 작은 인덕턴스를 이용하여 높은 안정도를 유지하면서 높은 이득, 그리고 저잡음 특성을 구현할 수 있는 장점이 있다고 분석되었다. 따라서 위상 배열 안테나용 다기능 RFIC에서 요구되는 높은 안정성과 이득 특성을 만족하면서 전력 특성과 저잡음 특성을 동시에 만족하기 위해서는 캐스코드 증폭기 구조가 최적의 구조로 판단되었다. | |
본 논문에서 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 어떤 소자를 이용하여 설계되었는가? | 25 um SiGe BiCMOS 공정을 이용하여 Ku-대역 저잡음 증폭기가 설계 및 제작되었다. 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 BiCMOS 공정의 HBT 소자를 이용하여 설계되었으며, 9~14 GHz 대역에서 2.05 dB 이하의 잡음 지수 특성과 19 dB 이상의 이득 특성을 가지고 있다. | |
본 논문에서 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 주파수에 따라 어떤 특성을 갖는가? | 25 um SiGe BiCMOS 공정을 이용하여 Ku-대역 저잡음 증폭기가 설계 및 제작되었다. 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 BiCMOS 공정의 HBT 소자를 이용하여 설계되었으며, 9~14 GHz 대역에서 2.05 dB 이하의 잡음 지수 특성과 19 dB 이상의 이득 특성을 가지고 있다. 제조 공정과 관련되어 제공된 PDK의 부정확성 및 부족한 인덕터 라이브러리를 보완하기 위하여 p-tap 값 최적화와 인덕터의 EM 시뮬레이션 기법 등을 활용하였다. |
F. Ellinger, H. Jackel, "Low-cost BiCMOS variable
V. J. Patel et al., "X-Band low noise amplifier using
K. B. Schad, U. Erben, E. Sonmez et al., "A Ku band
D. Ma, F. F. Dai, R. C. Jaeger, and J. D. Irwinl,
E. Ragonese, A. Scuderi, and G. Palmisano, "A
A. Babakhani, Xiang Guan, A. Komijani, A. Natarajan,
Q. Liang, G. Niu, J. D. Cressler, and S. Taylor, "On
S. P. Voinigescu et al., "A comparison of Si CMOS,
Beom Kyu Ko, Kwyro Lee, "A comparative study on the various monolithic low noise amplifier circuit topologies for RF and microwave applications", IEEE Journal of Solid- State Circuits, vol.
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