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[국내논문] 과열 수증기를 이용한 세정 시스템 설계
Cleaning System Design using Supper Heating Steam 원문보기

電子工學會論文誌. Journal of the institute of electronics engineers of Korea. IE. 산업전자, v.48 no.2, 2011년, pp.47 - 51  

조도현 (인하공업대학 디지털전자과)

초록
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본 논문은 LCD등에 사용되는 유리기판 가공 과정에서 표면에 발생하는 이물질을 제거하기 위한 세정 시스템을 제안한다. 이 세정 공정 시스템은 알카리 전해수의 화학적 세정과 과열 수증기 시스템의 물리적 세정방법을 사용한 세정, 린스, 건조 공정으로 구성된다. 또한 세정 시스템에서 사용되는 알카리 전해수의 화학적 세정효과를 실험을 통해, 알카리 전해수의 세정 효과와 과열 수증기 시스템의 제거효과를 보인다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this paper, we propose the cleaning process system to remove micro-particles, various impurities, unnecessary residues, etc. for liquid crystal display manufacturing processes. This system is structured with cleaning, rinse and drying process using the chemical cleaning of alkaline water and the ...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 논문에서는 이러한 복잡한 세정시스템을 과열수증기를 사용하여 액정 가공 과정에서 발생하는 액정표면에 증착된 유리파편과 유기성 이물질을 효과적으로 제거하면서 세정단계를 단순화할 수 있는 세정시스템을 제안하고자 한다.
  • 본 논문에서는 이를 위하여 부분적인 실험공정 구현하여 통하여 알카리 전해수의 세정효과를 검증하고 과열 수증기에 의한 미립자 불순물 제거 효과를 보였다. 앞으로 SHS를 실제 생산공정 규모에 적용이 가능하도록 시스템을 구현하여 세정시스템을 구축하고자 한다.
  • 본 본문에서는 알카리 전해수를 사용하는 세정방식을 적용하면서 더욱 효과적으로 표면의 이물질을 제거 할 수 있는 과열 수증기(SHS, Supper Heating Steam)를 이용한 세정 시스템을 통하여 효과적인 화학적 세정과 물리적 세정을 통합하는 세정 방법을 제안하고자 한다.
  • 본 논문에서는 이를 위하여 부분적인 실험공정 구현하여 통하여 알카리 전해수의 세정효과를 검증하고 과열 수증기에 의한 미립자 불순물 제거 효과를 보였다. 앞으로 SHS를 실제 생산공정 규모에 적용이 가능하도록 시스템을 구현하여 세정시스템을 구축하고자 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
세정은 무엇인가? 세정은 액정기판의 표면의 오염과 표면이나 패턴 등에 견고하게 부착되어 있는 가공과정에서 발생한 미세 유리파편(glass chip)과 같은 미립자(particle)를 사전에 제거하여 불량이 발생하지 않도록 하는 공정이다. 증착될 박막의 접착력 강화와 TFT 특성 향상을 목적으로 하며 넓은 의미에서는 에칭(etching)공정 후의 감광막 제거 공정도 포함하기도 한다.
정제수를 사용한 세정방법의 문제를 해결하기 위해 무엇을 도입했는가? [5] 그러나 정제수를 사용한 세정방법은 계면활성제 등의 약품을 사용하여 세정효과를 높이게 되는데 이 계면활성제는 세정 후 표면에 잔류하여 제품의 품질에 영향을 주는 경우가 많아 세정 후에 표면을 많은 양의 DI수(deionizing water)로 린스(rinse)공정을 처리해야 했다.[6] 이를 보완하기 위하여 수년 전으로부터 계면활성제를 포함하지 않는 세정제로서 떠오르는 알카리 전해수(alkaline water)를 사용한 세정방식을 도입하게 되었다.[4]
LCD 제조 공정에 적용되는 세정 방법은 무엇이 있는가? LCD 제조 공정에 적용되는 세정 방법은 물리적 세정, 화학적 세정, 건식 세정으로 분류할 수 있다.
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참고문헌 (8)

  1. T. H. Kuehn, D. B. Kittelson, Y. Wu and R. Gouk,"Particle removal from semiconductor wafers by megasonic cleaning", Journal of Aerosol Science, Vol. 27, pp. 427-428, 1996. 

  2. 박용준, "반도체 및 TFT-LCD용 세정액", 한국과학기술정보연구원 기술뉴스브리프. 

  3. 홍민성, 송봉섭, 김종민, "TFT LCD 세정 공정 개선에 관한연구", 조선대학교 기계기술연구 제8권 제1호 (2005. 9) pp.109-121, 2005. 

  4. 峠有利子, "アルカリ電解水による機能性ガラスの洗?方式(特集工業用洗??置の動向)",日本産業洗?協議?, 産業洗淨技術情報誌, Industrial cleaning(4), 13-16, 2009-09. 

  5. Koji Yamanaka,* Takashi Imaoka, "Electrolyzed Water as the Novel Cleaning Media in Ultra-Large-Scale Integration and Liquid-Crystal Display Manufacturing", Japan Langmuir, 1999, 15 (12), pp 4165-4170, 1999. 

  6. Edwin S. Kolic, "Water-electroloysis Dells Using Hydrogen- Diffusion Cathodes", Bttlele Memorial Institute, 1969. 

  7. M. Iguchi, H. Ueda and T. Uemura, "Bubble and liquid flow characteristics in a vertical bubbling jet", International Journal of Multiphase Flow, Vol. 21, pp. 861-873, 1995. 

  8. Mustafa Kemal Kulekci, "Processes and apparatus developments in industrial waterjet applications", International Journal of Machine Tools and Manufacture, Vol. 42, pp. 1297-1306, 2002. 

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