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NTIS 바로가기인포메이션 디스플레이 = Information display, v.12 no.5, 2011년, pp.27 - 32
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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스퍼터링 시스템은 어떻게 구분되는가? | 디스플레이 제조 장치 중에 가장 보편적인 응용 분야를 가지고 있는 스퍼터링 시스템은 자성 물질에 쓰이는 이극형(diode type), 일반적인 마그네트론 타입, 부가적인 플라즈마 발생원을 갖는 타입으로 구분할 수 있다. 마그네트론의 방전 특성 상 특정한 가스 압력에서는 자기장의 구조에 의하여 방전 전압과 전류 특성이 결정되는데 기판에 입사하는 입자들의 에너지와 방향성의 조절을 위한 추가적인 knob이 필요한 경우 특별히 사용할 수 있는 옵션이 많지 않다. | |
용량성 결합 플라즈마는 어떠한 방식인가? | 직접 전극이 플라즈마에 노출되는 방식인 용량성 결합 플라즈마는 이미 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD)나 건식 식각(dry etch)에 널리 사용되고 있다. 초대형 기판에서 발생되는 정상파 효과 등을 제외하면 가장 균일도 확보가 용이한 플라즈마원이며 구조 또한 단순해서 큰 기술적 문제없이 현재까지 사용되고 있다. | |
용량성 결합 플라즈마의 단점 및 그 원인은? | 초대형 기판에서 발생되는 정상파 효과 등을 제외하면 가장 균일도 확보가 용이한 플라즈마원이며 구조 또한 단순해서 큰 기술적 문제없이 현재까지 사용되고 있다. 단점은 기판에 입사하는 이온의 에너지를 독립적으로 조절하기 어렵고 전자-중성의 충돌 과정을 통해서 에너지를 전달하므로 압력을 일정값 이하로 낮추기 어렵다는 것인데, 인가 고주파의 주파수와 그 압력에서의 전자-중성 충돌 주파수가 일치할 때 가장 높은 에너지 전달 효율을 갖기 때문이다. 그러나 전술한 바와 같이 대형 기판에서는 40 MHz 이상의 주파수에서 흔히 발생되는 정상파 효과 때문에 균일한 고밀도 플라즈마를 얻기 어려운 단점이 있다. |
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