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1 wt.% Bi 함유 무연황동의 인장강도와 내식특성에 대한 연구
Characteristics of Tensile Strength and Corrosion Resistance of Lead- free Brass Containing 1 wt.% of Bi 원문보기

열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment, v.24 no.3, 2011년, pp.133 - 139  

주영석 (부경대학교 공과대학 금속공학과) ,  이상봉 ((주)에쎈테크) ,  김시영 (부경대학교 공과대학 기계시스템공학과) ,  주창식 (부경대학교 공과대학 화학공학과) ,  정병호 (부경대학교 공과대학 금속공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This study has been investigated for tensile properties with lead-free brass containing 1 wt.% of Bi. And also characteristic of corrosion resistance was analyzed by polarization test. An increase of tempering temperature was found to tend to decrease tensile strength, and percentage of elongation w...

주제어

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제안 방법

  • 750℃에서 열간압출한 1 wt.%의 Bi 함유 무연 황동을 이용, 85NC에서 수냉 후 템퍼링 온도에 따른 인장강도와 100~500℃의 고온인장강도를 각각 측정하여 인장특성을 조사하였으며, 또 분극시험에 의한 내식 특성을 조사한 결과 다음과 같은 결론을 얻었다.
  • 따라서 본 연구에서는 국내 개발 무연황동의 인장 및 내식 특성에 대한 기초자료를 얻기 위해 절삭성 [11] 및 열간가공성 [12]을 고려하여 Bi 첨가량의 하한선 [13J으로 제시되고 있는 약 Iwt.%의 Bi를 첨가한 무연황동을 이용, 템퍼링에 따른 인장강도와 승온에 따른 인장강도를 측정하고, 또 분극시험에 의한 내식특성도 아울러 조사하였다.
  • 5% NaCl과 IN I&SOe로, 유지온도는 30℃로 모두 일정하게 하였고, 탈기는 질소 가스를 사용하였다. 균일부식과 공식시험은 모두 약 30분간 개방회로 상태에서 안정화시킨 후 개방회로전위보다 약간 낮은 전위로부터 20mV/min의 일정 주사속도로 동전위 분극시험을 실시하였다. 균일부식 시험에서는 lafel 법을 이용한 부식전류 밀도 와 부식전위 Ey을 측정 하였으며, 공식시험에서는 공식전위 Ep를 측정하였다.
  • 그리고 부식시험 후 탈아연 현상은 표면에서 내부의 약 100까지 Zn 성분을 EDXS. 선분석하여 비교하였다.
  • % Pb 함유 쾌삭황동의 화학조성을 나타내었다. 템퍼링 열처리는 8501에서 가열 후 수냉하고 100~500℃까지 100℃ 간격으로 염 욕에서 실시하였으며, 템퍼링 온도에 따른 인장강도는 KS 10호를 가공하여 측정하였다. 그리고 고온 인장강도는 100~500℃까지 100℃ 간격으로 측정하였다.
  • 1은 고온인장 시험편의 형상 및 치수를 나타내며, 인장강도는 승온속도 10℃/min, 유지시간 5분, 인장속도 1 X 10-3/sec로 측정하였다. 한편, 결정입계의 Bi film을 확인하기 위한 시험편은 300에서 2시간 가열 후 수냉하였으며, 모든 미세조직은 FeCl3 5g+ 에탄올 50ml의 혼합용액으로 엣칭 후 관찰하였다. 전기화학적 분극시험은 EG & G 사의 Model 2734 Potentiostat/Gal.

대상 데이터

  • 전기화학적 분극시험은 EG & G 사의 Model 2734 Potentiostat/Gal.,anostat를 이용, 기준전극은 포화 감홍전극(SCE), 보조전극은 고밀도 탄소봉을 사용하였다. 공식시험과 균일부식 시험에 사용한 전해질 용액은 각각 pH 6의 3.
  • ,anostat를 이용, 기준전극은 포화 감홍전극(SCE), 보조전극은 고밀도 탄소봉을 사용하였다. 공식시험과 균일부식 시험에 사용한 전해질 용액은 각각 pH 6의 3.5% NaCl과 IN I&SOe로, 유지온도는 30℃로 모두 일정하게 하였고, 탈기는 질소 가스를 사용하였다. 균일부식과 공식시험은 모두 약 30분간 개방회로 상태에서 안정화시킨 후 개방회로전위보다 약간 낮은 전위로부터 20mV/min의 일정 주사속도로 동전위 분극시험을 실시하였다.
  • 실험에 사용한 시험편들은 저주파유도로에서 용해하고 750℃에서 열간압출한 봉재를 사용하였다. Table 1에 1 wt.

이론/모형

  • 균일부식과 공식시험은 모두 약 30분간 개방회로 상태에서 안정화시킨 후 개방회로전위보다 약간 낮은 전위로부터 20mV/min의 일정 주사속도로 동전위 분극시험을 실시하였다. 균일부식 시험에서는 lafel 법을 이용한 부식전류 밀도 와 부식전위 Ey을 측정 하였으며, 공식시험에서는 공식전위 Ep를 측정하였다. 그리고 부식시험 후 탈아연 현상은 표면에서 내부의 약 100까지 Zn 성분을 EDXS.
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참고문헌 (20)

  1. Huang Jin-song et al. : The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 19 (2006) 1486-1493. 

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  6. O-Hyun Kwon et al. : J. Kor. Inst. Met. & Mater., 38 (2000) 1657-1663. 

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  12. 高昌植 : 非鐵金屬材料, 光林社 (1979) 221-234. 

  13. Eric H. Yoon : Fundamentals of Copper & Copper Alloys, DCLAB (2001) 115-282. 

  14. D. A. Porter et al. : Phase Transformations in Metals and Alloys (1981) 349-357. 

  15. John T. Plews et al. : Advanced Materials & Process, 10 (1991) 23-27. 

  16. Y.H. Jang et al : Metallurgical and Materials Transaction, 36A (2005) 1060-1065. 

  17. B. Joseph et al. : Scripta Materials, 40 (1999) 893- 897. 

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  19. Rabab M et al. : Electrochemica Acta, 49 (2004) 5139-5150. 

  20. S. J. You et al. : Materials Science and Engineering, A345 (2003) 207-214. 

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