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NTIS 바로가기한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.23 no.3, 2012년, pp.97 - 102
주원돈 (삼성전자(주)) , 이지훈 (한국산업기술대학교 나노-광공학과) , 채성민 (한국산업기술대학교 나노-광공학과) , 김혜정 (한국산업기술대학교 나노-광공학과) , 정미숙 (한국산업기술대학교 나노-광공학과)
In general, one of the methods used to measure distortion is to use the full image of the regular pattern. However, because of low accuracy, this method is mainly used for an optical system such as a camera.. In order to measure distortion with high accuracy less than 1um, one can use the method of ...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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노광 광학계의 중요한 특징은 무엇인가? | 노광장치에서 광학계는 마스크의 패턴을 웨이퍼에 정해진 배율로 노광을 통해 전사시키는 역할을 한다. 노광 광학계의 중요한 특징은 마스크 패턴을 기판에 고해상도로 결상시킴이 요구 될 뿐아니라 마스크패턴을 왜곡없이 기판에 형성함이 매우 중요하다. 따라서 광학계의 왜곡의 측정 방법에 대한 연구는 매우 중요하다고 생각된다. | |
노광장치에서 광학계의 역할은? | 최근 노광장치의 국산화에 따라 노광 광학계에 대한 개발의 필요성이 증가하고 있다. 노광장치에서 광학계는 마스크의 패턴을 웨이퍼에 정해진 배율로 노광을 통해 전사시키는 역할을 한다. 노광 광학계의 중요한 특징은 마스크 패턴을 기판에 고해상도로 결상시킴이 요구 될 뿐아니라 마스크패턴을 왜곡없이 기판에 형성함이 매우 중요하다. | |
레이저엔코더를 이용한 스테이지스테이지를 이용하여 마스크의 규칙적인 패턴의 위치를 정확히 측정하는 방법의 단점은? | 실시간으로 왜곡을 측정하는 방법으로 레이저엔코더를 이용한 스테이지를 이용하여 마스크의 규칙적인 패턴의 위치를 정확히 측정하는 방법이 있다. 그러나 이러한 경우 스테이지의 성능 및 주변 환경 조건이 매우 중요하고 측정장비를 갖추기 위해서는 많은 비용이 요구된다. 따라서 노광을 하지 않고 저비용으로 간단하게 측정을 할 수 있는 측정 시스템이 필요하다고 판단하여 연구를 진행하게 되었다. |
F. Hong, X. Mujun, and W. Zhiqian, "The research on distortion measurement and compensation technology in photoelectricity measurement system," in Proc. 2010 International Conference on Computer, Mechatronics, Control and Electronic Engineering (CMCE) (Changchun, China, Aug. 2010), vol. 4, pp. 383-388.
D. W. Park and S. G. Woo, "Method for measuring distortion of exposure equipment," Patent No. 100604944, 19 July 2006.
J. Lin, M. Xing, D. Sha, D. Su, and T. Shen, "Distortion measurement of CCD imaging system with short focal length and large-field objective," Optics and Lasers in Engineering 43, 1137-1144 (2005).
J. Hou, H. Li, Z. Zheng, and X. Liu, "Distortion correction for imaging on non-planar surface using freeform lens," Opt. Comm. 285, 986-991 (2012).
K. H. Hong, "Astigmatism, field curvature, and distortion," Geometrical Optics Rev. 1, 140-141 (2011).
J. Greivenkamp, "Distortion," Field Guide to Geometrical Optics, 80 (2004).
P. L. Reu, R. L. Engelstad, and E. G. Lovell, "Mask distortion issues for next-generation lithography," Microelectronic Engineering 69, 420-428 (2003).
J. Canny, "A computational approach to edge detection," IEEE Transactions on Pattern Analysis and Machine Intelligence 8, 679-698 (1986).
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