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[국내논문] 광경화성 아크릴레이트 복합체를 이용한 나노 임프린트 패턴 형성
Nanoimprinting Pattern Formation Using Photo-Curable Acrylate Composites 원문보기

폴리머 = Polymer (Korea), v.36 no.4, 2012년, pp.536 - 541  

김성현 (경희대학교 영상정보소재기술연구센터) ,  박선희 (경희대학교 영상정보소재기술연구센터) ,  문성남 (서울대학교 기계항공공학부) ,  이우일 (서울대학교 기계항공공학부) ,  송기국 (경희대학교 영상정보소재기술연구센터)

초록
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실리카 입자가 첨가된 광경화성 임프린트용 복합체를 제조하여 실리카 양에 따른 경화 특성과 전사된 수 백 나노미터 크기의 임프린트 패턴 형성에 관한 결함을 조사하였다. 상온에서 UV 경화한 임프린트 레진은 실리카 양이 증가할수록 탄성률이 커지고 수축률이 줄어드는 것을 알 수 있었다. 그러나 실리카 입자의 양이 7 wt% 이상인 경우 전사된 나노기둥끼리 서로 달라붙는 결함을 보이는데, 이는 실리카 입자가 광반응을 방해하여 임프린트 레진의 경화가 불완전하게 되면서 광경화된 레진의 점성이 증가했기 때문이다. 임프린트 레진에 실리카 입자를 충전제로 사용하면 경화 후 나노 패턴의 강도를 증가하여 형태를 유지하는데 도움이 되지만, 실리카 양이 7 wt% 이상이 되면 오히려 광반응 전환율이 떨어져 임프린트 공정에 의한 나노 패턴의 전사가 어려운 것을 알 수 있다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

The effects of silica content were studied on UV curing characteristics and defect formations in imprinted patterns of hundreads nanometer size for the photo-curable imprinting composites with silica particles. An increase in elasticity and a decrease in shrinkage were observed with an increase in s...

주제어

#acrylate resin   #silica nanoparticles   #mechanical strength   #imprinting   #nano-pattern  

참고문헌 (18)

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  18. J. A. Rogers and H. H. Lee, Unconventional Nanopatterning Techniques and Applications, John Willey & Sons, United States, 2009. 

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