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NTIS 바로가기한국생산제조시스템학회지 = Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, v.21 no.3, 2012년, pp.473 - 478
석정민 (서울대학교 기계항공공학부) , 김남웅 (동양미래대학교 기계공학부)
In this paper, the air bubble formation mechanism in the rectangular and triangular line-and-space pattern during dispensing UV Nanoimprint Lithography (UV-NIL) at an atmospheric condition is studied. To investigate the air bubble formation, an analytic model based on geometric approach and a numeri...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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NIL 기술의 목표는? | 최근 NIL 기술은 공정의 고속화 및 대면적화를 통한 대량생산 기술로의 전환을 목표로 하고 있다. 그러나 이를 실현하기 위해서는 이형(demolding) 결함, 비진공 환경에서 기포(bubble) 생성에 의한 패턴 결함 문제, 몰드 변형 및 내구성 문제, 다층 레이어 성형의 어려움 등 많은 문제를 기술적으로 해결해야만 한다. | |
나노 임프린트 리소그래피 공정은 어떻게 평가되고 있는가? | 나노 임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography, NIL) 공정은 10nm 이하의 뛰어난 미세 패턴 전사 능력과 단순한 작업 공정으로 인하여 현재 큰 주목을 받고 있는 마이크로/나노 패턴 제조 공정이다. 이 공정은 광학부품, 센서 등 마이크로/나노 일렉트로닉스 분야 혹은 반도체 및 디스플레이 산업에서 기존 고가의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 대체할 주요한 대안으로 평가되고 있다 (1) . | |
나노 임프린트 리소그래피 공정이란? | 나노 임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography, NIL) 공정은 10nm 이하의 뛰어난 미세 패턴 전사 능력과 단순한 작업 공정으로 인하여 현재 큰 주목을 받고 있는 마이크로/나노 패턴 제조 공정이다. 이 공정은 광학부품, 센서 등 마이크로/나노 일렉트로닉스 분야 혹은 반도체 및 디스플레이 산업에서 기존 고가의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 대체할 주요한 대안으로 평가되고 있다 (1) . |
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