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온도 변화에 따른 ZnO 박막에 대한 PL 연구
PL Study on the ZnO Thin Film with Temperatures 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.26 no.2, 2013년, pp.83 - 86  

조재원 (광운대학교 전자물리학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The optical properties of ZnO thin film have been studied using photoluminescence(PL) spectroscopy with the change of sample temperatures from 10 K to 290 K. The spectrum at 10 K showed the characteristic emission lines of ZnO which were as follows: free exciton(FX) at 3.369 eV, neutral donor-bound ...

주제어

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문제 정의

  • 다음으로 온도 10 K에서의 스펙트럼 상의 3.289 eV 위치에 나타나는 피크에 대해 살펴보자. 이 피크와 D0X 피크 (3.
  • 먼저 10 K 온도에서 광자 에너지 3.360 eV의 위치에서 나타나는 피크에 대해 살펴보자. 그 위치 (3.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
PL 연구는 무엇을 확인하기에 좋은 방법인가? PL (photoluminescence) 연구는 결정의 질이나 물질 내 존재하는 불순물 등의 확인에 좋은 방법이다. 특히 낮은 온도에서의 PL 스펙트럼 분석은 열효과를 극소화시킴으로써 시료의 물리적 특성에 대한 보다 깊은 이해를 가능하게 한다.
ZnO란? ZnO는 상온에서 3.37eV의 direct bandgap 에너지를 가진 투명한 반도체로서 현재 널리 이용되어지고있는 GaN와 유사한 물리적 특성을 가지고 있다. 자유전자 밀도가 1021/cm3을 초과할 정도의 높은 n-type 도핑이 가능할 뿐만 아니라 [1], p-type 도핑도 가능하다는 것이 점차적으로 보고되어지고 있다[2,3].
ZnO는 어떤 도핑이 가능한가? 37eV의 direct bandgap 에너지를 가진 투명한 반도체로서 현재 널리 이용되어지고있는 GaN와 유사한 물리적 특성을 가지고 있다. 자유전자 밀도가 1021/cm3을 초과할 정도의 높은 n-type 도핑이 가능할 뿐만 아니라 [1], p-type 도핑도 가능하다는 것이 점차적으로 보고되어지고 있다[2,3]. 양 방향으로의 도핑이 가능하다는 점과 더불어 넓은 bandgap 에너지는 투명한 전자 소자를 위한 물질뿐만 아니라 파란색에서 자외선 영역에 이르는 발광 소자로의 가능성을 극대화하고 있다 [4-7].
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참고문헌 (18)

  1. K. Ellmer, J. Phys., D33, R17 (2000). 

  2. D. C. Look, B. Clafin, Y. I. Alivor, and S. J. Park, Phys. Status Soldi., A201, 2203 (2004). 

  3. Y. R. Ryu, S. Zhu, D. C. Look, J. M. Wrobel, H. M. Jeong, and H. W. White, J. Cryst. Growth, 216, 330 (2000). 

  4. Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. Koh, K. Park, K. Hiraga, Z. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys., 84, 3912 (1998). 

  5. W. Y. Liang and A. D. Yoffe, Phys. Rev. Lett., 20, 59 (1968). 

  6. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai, C. W. Litton, G. Cantwell, and W . C. Harsch, Phy. Rev., B60, 2340 (1999). 

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  9. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, M. Y. Shen, Z. Zhu, T. Goto, and T. Yao, J. Cryst. Growth, 184/185, 605 (1998). 

  10. A. Kobayashi, O. F. Sankey, and J. D. Dow, Phys. Rev., B28, 946 (1983). 

  11. A. Teke, U. Ozgur, S. Dogan, X. Gu, and H. Morkoc, Phys. Rev., B70, 195207 (2004). 

  12. H. Alves, D. Pfisterer, A. Zeuner, T. Riemann, J. Christen, D. M. Hofmann, and B. K. Meyer, Opt. Mat., 23, 33 (2007). 

  13. L. Wang and N. C. Giles, J. Appl. Phys., 94, 973 (2003). 

  14. K. Thonke, T. Gruber, N. Teofilov, R. Schonfelder, A. Waag, and R. Sauer, Physica, B308-310, 945 (2001). 

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  16. J. I. Pankove, Optical Processes in Semiconductors, (Dover Publications, New York, 1971) p. 143. 

  17. B. K. Meyer, H. Alves, D. M. Hofmann, W. Kriegseis, D. Foster, F. Bertram, J. Christen, A. Hoffmann, M. Stasshurg, M. Dwurzak, U. Haboeck, and A. V. Rodina, Phys. Stat. Sol., B241, 231 (2004). 

  18. U. Ozgur, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Dogan, V. Avrutin, S. J. Cho, and Morkoc, J. Appl. Phys., 98, 041301 (2005). 

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