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NTIS 바로가기한국환경과학회지 = Journal of the environmental sciences, v.22 no.1, 2013년, pp.83 - 89
Silicon carbide with aluminium oxide was used to remove the sulphur hexafluoride (
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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PFC는 어느 공정에서 주로 발생하는가? | SF6를 비롯하여 CF4, CHF3, NF3, C2F6 등의 PFC(Perfluorocarbon)는 LCD, 반도체 및 전자산업공정에서 주요 발생 된다. PFC중 SF6은 지구온난화지수 (GWP100=23,900)가 가장 높은 온실가스로 대기 중 평균수명이 3200년이 되며 기후변화에 관한 정부 간 패널인 IPCC에서는 21세기 후반에 지구의 평균온도는 1. | |
PFC에는 어떤 물질들이 있는가? | SF6를 비롯하여 CF4, CHF3, NF3, C2F6 등의 PFC(Perfluorocarbon)는 LCD, 반도체 및 전자산업공정에서 주요 발생 된다. PFC중 SF6은 지구온난화지수 (GWP100=23,900)가 가장 높은 온실가스로 대기 중 평균수명이 3200년이 되며 기후변화에 관한 정부 간 패널인 IPCC에서는 21세기 후반에 지구의 평균온도는 1. | |
SF6을 분해하는 기술 중 연소, 열분해, 플라즈마를 이용하는 장치를 사용할 경우 발생하는 문제점은 무엇인가? | 또한 Cho 등(2001)과 Chang 등(2001)은 마이크로파 플라즈마와 촉매를 이용하여 VOCs 제거 연구 결과를 보고하였으며 Sun 등(2003)은 CF4 분해 연구, Radoiu와 Hussain(2009)은 SF6 분해 연구를 수행하였으며 Ryu 등(2012)은 육불화황의 분해 효율 향상을 위해 수소를 첨가한 연구를 실시하였다. 특히 SF6 제거를 위해 연소, 열분해, 플라즈마를 이용하는 장치를 이용할 경우 공통적인 문제점은 에너지사용량이 매우 높으며 일부 공정에서는 연소에 의해 대기오염물질을 재 배출 한다는 점이다. 마이크로파는 에너지 사용량이 열분해에 이용되는 에너지 사용량에 비해 상대적으로 작으며 유전가열 시 사용되는 발열체를 이용하여 단 시간 내에 반응기의 내부온도를 1000℃이상 올릴 수 있어 에너지 효율성이 매우 뛰어난 공정이다. |
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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