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OLED 디스플레이용 산화물 반도체 기술 원문보기

전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers, v.26 no.8, 2013년, pp.7 - 14  

신홍재 (LG디스플레이(주) OLED TV 화소설계1팀) ,  강창수 (유한대학교 전자정보과)

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문제 정의

  • 현재 실용화되고 있는 a-Si:H TFT, LTPS TFT, 다결정 Si TFT 등은 대형 FPD에 필요한 제 8세대 이후의 제조 기술에는 한계가 있는 것으로 나타나고 있다. 본고에서는 산화물 반도체의 기본적인 원리, 개발 역사, 기술 개발 동향과 주요 업체의 전시품에 대해서 살펴보았다. 산화물 반도체 TFT는 짧은몇 년 사이에 눈부신 발전을 이루었음을 알수 있었다.
  • 특히, 2013년 SID에서는 a-IGZO (Amorphous - indium galliumzinc oxide) TFT 기판을 적용한 55" OLED TV 패널이 소개되어 많은 관심을 받았다. 본고에서는 차세대 디스플레이의 핵심기술로 떠오르고 있는 산화물반도체의 개발 현황을 최근 개최된 국제 디스플레이 학회와 전시회의 발표 사례를 중심으로 살펴보고, 동향 분석을 통해 ZnO 및 a-IGZO 산화물반도체의 발전 가능성을 살펴본다.
  • AMOLED의 경우와 유사하게, 산화물 반도체 기초 기술 개발을 주도한 나라는 일본과 미국이나, 실제 온전히 구동되는 패널 형태의 시제품을 계속 전시하면서 상용화에 근접한 수준의 기술로 끌어올리는 나라는 한국이다. 본고에서는, 국제적으로 유명한 디스플레이 관련 학회 및 전시회를 분석 대상으로 정하여 최근 4년간 산화물 반도체 TFT 개발 추세의 변화를 간략히 살펴본다. 대형 패널 업체가 많이 참가하는 국제 디스 플레이 전시회의 동향 분석은 산화물 반도체 TFT의 상업적인 성공 가능성 파악에 도움이될 것이다 [11,12].
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