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인가 전류가 구리 도금 피막과 폴리이미드 필름의 접합력에 미치는 영향
Effect of Additional Electrical Current on Adhesion Strength between Copper and Polyimide Films 원문보기

한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.46 no.1, 2013년, pp.9 - 15  

이장훈 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  한윤성 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  이호년 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  허진영 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터) ,  이홍기 (한국생산기술연구원 인천지역본부 열표면기술센터)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The effect of the additionally applied electrical current on the adhesion strength between electroless Cu and polyimide films was investigated. Peel tests were performed after applying electrical current within the range from 0.1 to 100 mA for the duration from 1 to 30 minutes. Sample with more than...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구에서는 인가 전류가 폴리이미드 필름과 무전해 구리 도금 피막 사이의 접합력 특성에 미치는 영향에 관하여 고찰하였다. 샘플에 0.
  • 본 연구에서는 폴리이미드 기판 위에 무전해 및 전해 구리도금막 형성후 시효처리를 수행한 후 추가적으로 인가 된 전류가 접합력에 미치는 효과에 대하여 고찰하였다. 이를 위하여 인가 전류량 및 전류 인가 시간을 변화시키면서 접합력의 변화를 조사하였으며, 이에 대한 해석을 위하여 표면 거칠기, 표면조직 등을 관찰하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
폴리이미드 필름의 특성은? 폴리머(polymer) 금속화 처리는 이동단말기기, 플렉서블 디스플레이(flexible display), 연성회로기판 (flexible printed circuit board) 등의 IT 관련 응용분야에서 주목받고 있다. 이에 적합한 폴리머 물질중, 폴리이미드 필름은 우수한 열적 안정성과 기계적 강도 및 내화학성을 지니며 유전율이 낮아 폴리머 금속화 처리시의 기판으로 유망한 것으로 보고되고 있다1,2). 그러나, 폴리이미드(polyimide)를 구성하고 있는 이미드링(imide ring)의 특성으로 인하여 표면의 극성이 낮아 다른 고분자 물질, 금속 및 세라믹 등과의 접합력이 떨어지는 단점을 지니고 있다1,2)
폴리이미드와 금속의 접합력을 향상시키기 위한 방법은? 폴리이미드와 금속의 접합력을 향상시키기 위하여 플라즈마 처리3,4), 이온빔5), 암모니아 처리6) 등의 건식 방법과 KOH7,8), 아민 수용액9) 등을 이용한 습식처리 방법을 통한 다양한 표면개질 처리에 대한 연구가 활발히 진행되어 왔다. 또한 고온 어닐링 및 고습 분위기 처리 등의 후속 공정에 따른 금속과 폴리이미드 간의 접합력과 화학결합의 변화에 대한 많은 연구10-12)가 진행되어 왔으나, 금속과 폴리이미드 간의 화학결합 메커니즘 및 계면 반응과 접합력과의 관계 등에 대해서는 아직까지 명확 하게 보고되지 않은 상황이다.
폴리이미드 필름의 단점은? 이에 적합한 폴리머 물질중, 폴리이미드 필름은 우수한 열적 안정성과 기계적 강도 및 내화학성을 지니며 유전율이 낮아 폴리머 금속화 처리시의 기판으로 유망한 것으로 보고되고 있다1,2). 그러나, 폴리이미드(polyimide)를 구성하고 있는 이미드링(imide ring)의 특성으로 인하여 표면의 극성이 낮아 다른 고분자 물질, 금속 및 세라믹 등과의 접합력이 떨어지는 단점을 지니고 있다1,2)
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참고문헌 (20)

  1. G. Rabilloud, High Performance Polymers: Polyimides in Electronics, Technip, Paris, 2000. 

  2. M. Crosh, K. Mittal, Polyimides: Fundamentals and Applications, Marcel Dekker, New York, 1996. 

  3. Y.-S. Lin, H.-M. Liu, C.-L. Chen, Surf. Coat. Technol. 200 (2006) 3775. 

  4. S. H. Kim, S. W. Na, N.-E. Lee, Y. W. Nam, Y.-H. Kim, Surf. Coat. Technol. 200 (2005) 2072. 

  5. A. Ebe, E. Takahashi, Y. Iwamoto, N. Kuratani, S. Nishiyama, O. Imai, K. Ogata, Y. Setsuhara, S. Miyake, Thin Solid Films 281-282 (1996) 356. 

  6. S. H. Kim, J. K. Park, K. S. Oh, J. Kor. Fiber Soc. 31 (1994) 57. 

  7. S. Ikeda, H. Yanagimoto, K. Akamatsu, H. Nawafune, Adv. Funct. Mater. 17 (2007) 889. 

  8. L.-S. Son, H.-N. Lee, H. K. Lee, J. Kor. Inst. Surf. Eng. (2012) 8. 

  9. H. K. Yun, K. Cho, J. K. Kim, C. E. Park, S. M. Sim, S. Y. Oh, M. Park, Polymer 38 (1997) 827. 

  10. H. J. Lee, J. Yu, J. Electron. Mater. 37 (2008) 1102. 

  11. B. K. Furman, K. D. Childs, H. Clearfield, R. Davis, S. Purushothaman, J. Vac. Sci. Technol. A 10 (1992) 2913. 

  12. S. A. Chambers, V. A. Loebs, K. K. Chakravorty, J. Vac. Sci. Technol. A 8 (1990) 875. 

  13. H.-N. Lee, Y. Han, J.-H. Lee, J.-Y. Hur, H. K. Lee, submitted. 

  14. K.-J. Min, S.-C. Park, J.-J. Lee, K.-H. Lee, G.-H. Lee, Y.-B. Park, Journal of the Microelectronics & Packaging Society 14 (2007) 49. 

  15. K.-J. Min, S.-C. Park, Y.-B, Park, K. H. Lee, Y. Jeong, J. Korean Phys. Soc. 54 (2009) 1273. 

  16. B.-I. Noh, J.-W. Yoon, J.-H. Choi, S.-B. Jung, Microelectronic Engineering 88 (2011) 718. 

  17. Y. Li, Y. Yang, X. Feng, J. Mater. Sci. Technol. 24 (2008) 410. 

  18. W.-J. Lee, Y.-S. Lee, S.-K. Rha, Y.-J. Lee, K.-Y. Lim, Y.-D. Chung, C.-N. Whang, Appl. Surf. Sci. 205 (2003) 128. 

  19. J.-Y. Park, Y.-S. Jung, J. Cho, W.-K. Choi, Appl. Surf. Sci. 252 (2006) 5877. 

  20. S. Iwamori, T. Miyashita, S. Fukuda, S. Nozaki, N. Fukuda, K. Sudoh, J. Adhesion 63 (1997) 309. 

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