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티타늄 금속 표면 양극산화장치 개발
Development of Titanium Metal Surface Anodizing Equipment 원문보기

한국전자통신학회 논문지 = The Journal of the Korea Institute of Electronic Communication Sciences, v.8 no.9, 2013년, pp.1307 - 1312  

양근호 (한려대학교 경영학과) ,  민병운 (한려대학교 임상병리학과)

초록
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본 논문에서는 알칼리성 또는 산성을 띠는 특정 용액 내에서 전기분해 원리를 이용하여 금속 표면을 산화시켜 절연피막을 형성하는 장치를 개발한다. 기존에는 주로 양극에만 펄스 형태로 전압을 인가하는 단극성(unipolar) 방식이지만 본 논문에서는 H-브리지를 이용하여 양극에 양(+)전압과 음(-)전압을 번갈아 가면서 전압을 공급하는 양극성(bipolar) 장치를 제작하였으며, 금속 시편의 특성에 맞는 다양한 전기적인 조건을 가지고 산화피막을 형성할 수 있는 장치를 개발하였다. 공급전류 가변은 PWM 변조를 이용하였으며, (+)와 (-)의 극성변화는 H-브리지를 이용하여 양극성 펄스전압을 공급할 수 있도록 하였다. 그 결과로써 단극성보다 균일한 기공을 갖는 피막이 형성되었다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this paper, alkaline or acidic solution, in particular the principle of electrolysis to oxidize the metal surface to form a device isolation film is developed. In the past, mainly in the form of pulse voltage is applied to the anode only a unipolar method, but in this paper by using the H-bridge ...

주제어

#플라즈마 전해 산화   #양극성 양극산화   #마이크로 아크 산화   #제어정류기   #전해액  

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 논문에서는 치과용 임플랜트에 사용되는 티타늄 금속의 표면처리를 위한 효율적인 양극산화 처리 방법을 제안하고 실험하였다.
  • 본 연구에서는 플라즈마 양극산화장치에 적합한 전원장치를 개발하고자 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
양극산화기술이란? 양극산화(anodization) 기술은 금속표면처리 기술의 하나로써 표면의 부식 반응을 억제하여 금속을 보호하거나 금속 표면에 다양한 종류의 염색을 하기 위해 널리 사용하는 방법이다
플라즈마 전해 산화(PEO)의 피막층 형성 방법이란? 플라즈마 전해 산화(PEO)의 피막층 형성 방법은 전해액 속에서 산화 피막을 성장시키는 양극산화피막처리 방법과 동일한 원리를 이용한다. 전해액과 전류밀도, 전압, 주파수 및 파형 등과 같은 전기적인 조건을 변화 주면서 전해액 내에서 금속 재료의 표면에 미세방전(micro arc)을 시켜 양극산화피막처리 기술 중에서 매우 우수한 내마모, 내식성의 세라믹층을 형성시키는 기술이다.
일반적인 금속의 부식 방지 방법은? 일반적으로 금속은 표면에 기계적 부동태인 산화박막을 만들어 줌으로써 부식을 방지할 수 있다[1]. 산화제가 함유된 수산화나트륨 용액에서 금속을 산화시키면 흑색의 산화피막이 생성되며, 이때 생성된 마그네타이트(Fe3O4)는 흑갈색의 산화층을 이룬다.
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참고문헌 (9)

  1. S.H. Lee, I.H. Cho, "surface characteristics and bioactivity of anodically oxidized titanium surfaces", The Korean Academy of prosthodontics, Vol. 45, No 1, pp. 85-95, 2007. 

  2. J.T. Lim, J.H. chung, Y.H. Kwon, J.B. Park, Ye 다 Herr, "Micromorphometric influence of anodic oxidation surface implant conditioned with tetracycline-HCL", Korean academy of periodontology, Vol. 37, No. 4, pp. 767-777, 2007. 

  3. "Technology trends in fabrication of nonostructures of metal oxides by anodization and their applications", Korean Industrial engineering chemical, Vol. 19, No. 3, pp. 249-258, 2008. 

  4. Y.J. Lim, Y. Oshida, C.J Andres. M.T. Barco, "Surface characterizations of variously treated titanium materials", International journal Oral Maxillofac Implants, Vol. 16, pp. 333-342, 2001. 

  5. W.W. Son, Zhu X, H.I. Shin, Ong J.L, K.H. Kim, "In vivo histological response to anodized and anodized/hydrothermally treated titanium implants", Journal Biomedical Master Res Part B, pp. 520-525, 2003. 

  6. K.H. Yang, "A study on development of bipolar metal surface anodizing equipment using H-bridge", The Korea Institute of Electronic Communication Sciences, Vol. 6, No. 3, pp. 355-362, 2011. 

  7. K.H. Yang, B.W. Min, "The development of detection system of conveyer belt damage using magnetic flux", The Korea Institute of Electronic Communication Sciences, Vol. 8, No. 6, pp. 815-822, 2013. 

    원문보기 상세보기 crossref

  8. B.J. Lee, H.Y. Shin, "Water vapor permeability of $SiO_2$ oxidative thin film by CVD", The Korea Institute of Electronic Communication Sciences, Vol. 5, No. 1, pp. 81-87, 2010. 

  9. B.J. Lee, "Electrical characteristic of PMMA thin film by plasma polymerization method", The Korea Institute of Electronic Communication Sciences, Vol. 6, No. 5, pp. 697-702, 2011. 

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