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NTIS 바로가기한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.51 no.1, 2014년, pp.43 - 50
장기선 (삼성 디스플레이 CAE팀) , 이정우 (서울대학교 공과대학 재료공학부 및 신소재공동연구소) , 김중원 (서울대학교 공과대학 재료공학부 및 신소재공동연구소) , 유상임 (서울대학교 공과대학 재료공학부 및 신소재공동연구소)
We fabricated undoped and Sb-doped
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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TCO의 대표적인 소재는? | TCO의 대표적 소재로는 SnO2, ZnO, In2O3 등이 널리 알려져 있다.2-4) 이 중 광학적 투과율을 고려한 전기전도도 측면에서 Sn이 첨가된 In2O3 (Sn-doped In2O3 : ITO) 박막이 가장 우수하다고 알려져 있으나, 이 ITO 박막은 산이나 염기에 의해 쉽게 부식되고 기계적 강도도 약할 뿐만 아니라, 주성분을 이루는 인듐이 고가라는 단점이 있다. | |
ITO 박막의 단점은? | TCO의 대표적 소재로는 SnO2, ZnO, In2O3 등이 널리 알려져 있다.2-4) 이 중 광학적 투과율을 고려한 전기전도도 측면에서 Sn이 첨가된 In2O3 (Sn-doped In2O3 : ITO) 박막이 가장 우수하다고 알려져 있으나, 이 ITO 박막은 산이나 염기에 의해 쉽게 부식되고 기계적 강도도 약할 뿐만 아니라, 주성분을 이루는 인듐이 고가라는 단점이 있다. 따라서 ITO를 대체할만한 TCO 물질을 찾는 연구가 지속되고 있으며, 이 중 널리 알려진 Al로 도핑된 ZnO(AZO) 박막의 경우, ITO에 비하여 제조원가가 저렴하고, 최적화된 공정조건에서 ITO 박막에 근접하는 우수한 광학적 및 전기적 특성을 나타내지만, 역시 산·염기에 취약하고 기계적 성질이 우수하지 못한 단점이 있다. | |
펄스레이저 증착법의 장점은? | SnO2 박막은 화학증착법 (chemical vapor deposition: CVD),7,9,10) 스프레이 열분해법 (spray pyrolysis),11,12) 스퍼터링 (sputtering),13) 졸-겔법 (sol-gel method),14) 펄스레이저 증착법 (pulsed laser deposition: PLD)15,16) 등의 여러 방법으로 제조되어 왔다. 이 중 PLD법의 경우, 다른 물리증착법 (physical vapor deposition: PVD)에 비해 낮은 온도에서 증착이 가능하며, 조성 제어가 수월하고, 또한 표면이 매끄러운 박막의 증착이 가능하기 때문에 우수한 특성의 막을 제조하는데 유리하다. 하지만 SnO2가 난소결성 소재로서 치밀한 타겟 제조가 매우 어려워, 공기 중 고상반응법으로 SnO2를 소결할 경우, 소결 도중의 Sn 원소 휘발과 비정상입성장 및 SnO2 분말 표면에 흡착되어있는 불순물에 의해서 치밀화가 저해되어17) 통상적으로 이론밀도의 ~ 60% 밖에 얻을 수 없다. |
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