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NTIS 바로가기한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.31 no.3, 2014년, pp.207 - 213
백승엽 (인덕대학교 기계설계과) , 장성민 (조선이공대학교 선박해양 기계과)
A study was carried out to fabricate the cutting tool geometry with micro/nanoscale on the single crystal diamond tool by using the FIB. The FIB technique is an ideal tool for TEM sample preparation that allows for the fabrication of electron-transparent foils. The FIB is appropriate techniques to s...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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이온빔의 특징은 무엇인가? | 이에 관련 기술 및 장비산업은 활용 범위를 확대하고 있고 급속하게 성장하고 있다.1 이온빔은 전자 및 광자빔과는 다른 물리적 특성으로 인하여 특별한 사용 영역을 가지고 있다. 특히 이온빔은 이온원(Ion source)에서 나온 이온들을 가속하고 원하는 모재 (Substrate) 위에 집속하여 충돌시키는 운동량 전달을 통한 스퍼터링(Sputtering)이 가공 원리이므로 모재 위에 포토레지스트(Photoresist) 없이 직접 가공이 가능하다.2,3 대칭 원통형 마이크로 부품의 제작은 시제품 제조측면에서 아주 중요한 과제이다. | |
집속이온빔 가공 시 사용되는 레스터 스캔 방식과 벡터 스캔 방식은 무엇인가? | 7은 집속이온빔 가공을 할 때 레스터 스캔 (raster scan) 방식과 벡터 스캔(vector scan) 방식에 대한 원리를 보여주고 있다. 레스터 스캔(raster scan) 방식은 일정한 간격으로 한 방향으로 빔을 이동시키면서 가공하는 공정이고, 벡터 스캔(vector scan) 방식은 이동 경로의 시작점과 끝점을 정의해서 연속적으로 빔이 이동하면서 가공하는 방식이다.19-22 본 연구에서는 가공시간을 고려하여 빔의 전류(beam current)를 높여서 벡터 스캔(vector scan) 방식으로 가공을 수행하고 난 후 이온빔을 정밀하게 제어하기 위해서 빔 전류(beam current)를 낮추고 레스터 스캔(raster scan) 방식으로 FIB 밀링가공을 수행하였다. | |
몰드 및 마스터의 제작에는 어떠한 방법이 사용되는가? | 4후처리 전착 공정을 갖는 원통 표면에 미세 접촉 인쇄술은 서브마이크로급의 해상도를 가지는 소형 3D형상을 생성하고,5 초기의 원통형 형상으로부터 설계가 시작된다.6 몰드 및 마스터(master)의 제작에는 charged particle lithography, deep reactive etching, micro machining 등의 여러 가지 방법이 사용되고 있다.7-10 회절광학 소자, 홀로그램, 3차원 디스플레이는 광정보처리 연구 분야의 근간을 이루는 구성요소들이다. |
Ivor, I. and Julius, J. M., "The Physics of Micro/Nano-fabrication," Plenum Press, 1992.
Kaesmaier, R. and Loschner, H., "Ion Projection Lithography: Progress of European MEDEA & International Program," Microelectron. Eng., Vol. 53, No. 1, pp. 37-45, 2000.
Frey, L., Lehrer, C., and Ryssel, H., "Nanoscale Effects in Focused Ion Beam Processing," Appl. Phys. A, Vol. 76, No. 7, pp. 1017-1023, 2003.
Jackman, R. J., Brittain, S. T., Adams, A., Whitesides, G. M., and Prentiss, M. G., "Design and Fabrication of Topologically Complex, Three-Dimensional Micro- Structures," Science, Vol. 280, pp. 2089-2091, 1998.
Brittain, S. T., Schueller, O. J. A., Wu, H. K., Whitesides, S., and Whitesides, G. M., "Microorigami: Fabrication of Small, Three-Dimensional, Metallic Structures," J. Phys. Chem. B, Vol. 105, No. 2, pp. 347-350, 2001.
Maxwell, J., Larsson, K., Boman, M., Hooge, P., Williams, K., and Coane, P., "Rapid Prototyping of Functional Three Dimensional Microsolenoids and Electromagnets by High-Pressure Laser Chemical Vapor Deposition," Proc. Solid Freeform Fabrication Symp., pp. 529-536, 1998.
Tseng, A. A., "Recent Developments in Micromilling using Focused Ion Beam Technology," J. Micromech. Microeng, Vol. 14, No. 4, pp. R15-R34, 2004.
Orloff, J., "Handbook of Charged Particle Optics," CRC Press, Boca Raton, pp. 129-160, 2009.
Kim, H. B., Hobler, G., Steiger, A., Lugstein, A., and Bertagnolli, E., "Level Set Approach for the Simulation of Focused Ion Beam Processing on the Micro/Nano Scale," Nanotechnology, Vol. 18, No. 26, pp. 265307-265313, 2007.
Kim, H. B., Hobler, G., Steiger, A., Lugstein, A., and Bertagnolli, E., "Full Three-Dimensional Simulation of Focused Ion Beam Micro/Nanofabrication," Nanotechnolgoy, Vol. 18, No. 24, pp. 245303-245311, 2007.
Reyntjens, S. and Puers, R., "A Review of Focused Ion Beam Applications in Microsystem Technology," J. Micromech. Microeng., Vol. 11, No. 4, pp. 287-300, 2001.
Sugiyama, M. and Sigesato, G., "A review of Focused Ion Beam Technology and its Applications in Transmission Electron Microscopy," J. Elec. Microscopy, Vol. 53, No. 5, pp. 527-536, 2004.
Tseng, A. A., "Recent Developments in Nanofabrication using Focused Ion Beams," Small, Vol. 1, No. 10, pp. 924-939, 2005.
Adams, D. P. and Vasile, M. J., "Accurate Focused Ion Beam Sculpting of Silicon using a Variable Pixel Dwell Time Approach," J. Vac, Sci. Technol. B, Vol. 24, No. 2, pp. 836-843, 2006.
Adams, D. P., Vasile, M. J., and Mayer, T. M., "Focused Ion Beam Sculpting Curved Shape Cavities in Crystalline and Amorphous Targets," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 24, No. 4, pp. 1766-1775, 2006.
Vasile, M. J., Niu, Z., Nassar, R., Zhang, W., and Liu, S., "Focused Ion Beam Milling: Depth Control for Three-Dimensional Micro Fabrication," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 15, No. 6, pp. 2350-2354, 1997.
Nassar, R., Vasile, M. J., and Zhang, W., "Mathematical Modeling of Focused Ion Beam Microfabrication," J. Vac. Sci. Tehcnol. B, Vol. 16, No. 1, pp. 109-115, 1997.
Fu, Y. and Bryan, N. K. A., "Fabrication of Three-Dimensional Microstructures by Two Dimensional Slice by Slice Approaching via Focused Ion Beam Milling," J. Vac. Sci. Tehcnol. B, Vol. 22, No. 4, pp. 1672-1678, 2004.
Ward, J. W., Utlaut, M. W., and Kubena, R. L., "Computer Simulation of Current Density Profiles in Focused Ion Beams," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 5, No. 1, pp. 169-1743, 2007.
Harriott, L. R., "Beam-size Measurement in Focused Ion Beam Systems," J. Vac. Sci. Technol. A, Vol. 8, No. 2, pp. 899-901, 1990.
Ben Assaya, G., Vieu, C., Gierak, J., Sudraud, P., and Corbin, A., "New Characterization Method of Ion Current-Density Profile Based on Damage Distribution of Ga+ Focused-Ion Beam Implantation in GaAs," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 11, No. 6, pp. 2420-2426, 1993.
Park, J. J. and Kim, S. D., "The Effects of Fib Scan Method on Au Etching Profile," Proc. of KSPE Spring Conference, pp. 367-368, 2008.
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