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루테늄 전극위에 증착된 PZT 박막의 전기적 및 강유전 특성
The Electric and Ferroelectric of Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 Thin Films Deposited on Ruthenium Electrodes 원문보기

전기학회논문지. The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. P, v.63 no.1, 2014년, pp.46 - 49  

황현석 (서일대학교 전기과) ,  유영식 (여주대학 전기과) ,  임윤식 (여주대학 방송제작연예과) ,  강현일 (국립한밭대학교 전기공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3(PZT)$ thin films deposited on $Ru/RuO_2$ bottom electrode that grown for in-situ progress used rf magnetron sputtering method. We investigated the dependence of the crystalline and electrical properties in the way of capacitors PZT thin films. Our res...

주제어

AI 본문요약
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제안 방법

  • PZT 박막은 이중 산화물 하부 전극위에 성장시킨 후 급속 열처리법인 RTA(Rapid Thermal Annealing)를 이용하여 후 열처리 하였다. PZT 박막의 구조적 특성은 XRD(X-ray Diffraction), SEM(Scanning Electron Microscopy)을 통해 분석하였다. 또한 PZT 박막 전기적, 강유전 특성은 누설전류, P-E 이력곡선 등으로 분석하였다.
  • 전극이다. Ru/RuO2 위에 rf magnetron sputtering법을 이용하여 PZT 박막 증착하였고, 이중 산화물 하부전극 중 Ru 금속 전극의 다양한 두께에 따른 PZT 박막 구조적, 전기적, 강유전 특성을 분석하였다. PZT 박막은 이중 산화물 하부 전극위에 성장시킨 후 급속 열처리법인 RTA(Rapid Thermal Annealing)를 이용하여 후 열처리 하였다.
  • PZT 박막의 구조적 특성은 XRD(X-ray Diffraction), SEM(Scanning Electron Microscopy)을 통해 분석하였다. 또한 PZT 박막 전기적, 강유전 특성은 누설전류, P-E 이력곡선 등으로 분석하였다.
  • 본 논문에서는 in-situ 공정으로 아르곤 가스와 산소 가스의 비율에 따라 RuO2 산화물 전극과 Ru 금속 전극으로 이루어진 이중 산화물 전극을 얻을 수 있다. 이중 산화물 전극 중 금속 전극의 두께 변화에 따른 PZT 박막의 특성은 Ru(100 nm)/RuO2 전극에 증착된 PZT 박막의 XRD를 측정한 경우 (110)면 방향으로 우선 성장이 하였으며, 결정성 또한 가장 우수하였다.
  • 이중 산화물 전극의 두께에 따른 PZT 박막의 결정화 여부를 분석하기 위하여 XRD(Mac Science M18XHFSRA, Cu target, 1.54Å, Ni filter)를 사용하여 2θ = 20 ~ 60°의 범위에서 측정하였다.
  • Ru 25 nm에서 보다 Ru 100 nm에서 Ru 금속 전극의 결정성이 향상되었는데, 이는 이중 산화물 전극의 상부에 있는 Ru의 결정성이 하부에 있는 RuO2 산화물 전극 보다 우선 성장된 것으로 사료된다. 증착된 PZT 박막의 미세 구조는 Philips XL30FRG사의 ESEM를 이용하여 후열처리 이후의 PZT 박막의 미세구조를 분석하였다.
  • 9%, Super Conductive사)을 사용하여 rf-sputtering법으로 증착하였다. 하부 이중산화물 전극의 결정화를 위하여 RTA (Rapid Thermal Annealing) 장비를 이용하여 2분간 열처리 하였다.

대상 데이터

  • 제작된 각 하부 이중산화물 전극 위에 기판 온도를 300℃에서 400 nm 두께의 PZT 박막을 성장하였다. PZT target은 Zr/Ti mole 비가 52/48이고 고온성장시 Pb휘발을 보상하기 위하여 Pb가 5 mole% 과잉 첨가된 Pb1.05(Zr0.52Ti0.48)O3 single ceramic target(순도 99.9%, Super Conductive사)을 사용하여 rf-sputtering법으로 증착하였다. 하부 이중산화물 전극의 결정화를 위하여 RTA (Rapid Thermal Annealing) 장비를 이용하여 2분간 열처리 하였다.
  • 본 논문에서 사용된 기판은 thermal oxide가 400 nm 성장된 SiO2 기판이고 아세톤, 메탄올, 증류수 속에서 각각 10분간 organic 세척하였다. 전극 증착에 사용된 Ru(Φ = 2 inch, 99.
  • 본 연구에서 제안한 이중 산화물 하부전극은 단일 Ru target 만을 사용하여 산소분압에 따른 in-situ 공정으로 형성한 Ru/RuO2 전극이다. Ru/RuO2 위에 rf magnetron sputtering법을 이용하여 PZT 박막 증착하였고, 이중 산화물 하부전극 중 Ru 금속 전극의 다양한 두께에 따른 PZT 박막 구조적, 전기적, 강유전 특성을 분석하였다.
  • 전극 증착에 사용된 Ru(Φ = 2 inch, 99.999%, Cerac) 타겟은 rf-Sputtering법으로 SiO2 기판 위에 in situ 공정으로 산화물 전극 RuO2를 400℃에서 150 nm 두께로 증착한 후 상온까지 온도를 낮추었다가 다시 300℃까지 승온하여 25, 50, 75, 100 nm의 두께 금속 전극 Ru를 증착하였다.

이론/모형

  • Ru/RuO2 위에 rf magnetron sputtering법을 이용하여 PZT 박막 증착하였고, 이중 산화물 하부전극 중 Ru 금속 전극의 다양한 두께에 따른 PZT 박막 구조적, 전기적, 강유전 특성을 분석하였다. PZT 박막은 이중 산화물 하부 전극위에 성장시킨 후 급속 열처리법인 RTA(Rapid Thermal Annealing)를 이용하여 후 열처리 하였다. PZT 박막의 구조적 특성은 XRD(X-ray Diffraction), SEM(Scanning Electron Microscopy)을 통해 분석하였다.
  • XRD 분석 시, 고정된 X-ray beam에 대하여 2θ 각도로 detector를 회전하여 측정하는 BraggBrentano 방법을 이용 XRD pattern을 얻었다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
강유전체 박막이란? 강유전체 박막은 영구 쌍극자 모멘트에 의해 자발 분극이 형성되면, 외부 전계에 의해 분극 방향을 반전시킬 수 있는 물질이다. 특히 PZT는 Pb계 페로브스카이트 구조의 강유전체는 강유전성, 압전성, 초전성 및 전기광학 특성이 우수하여 휘발성 및 비휘발성 메모리 소자, 엑츄에이터, IR 센서, SAW(Surface Acoustic Wave) filter, 적외선 감지소자 및 각종 전자부품 재료로서 주목받고 있다[1-3].
PZT는 Pb계 페로브스카이트 구조의 강유전체의 특징은? 강유전체 박막은 영구 쌍극자 모멘트에 의해 자발 분극이 형성되면, 외부 전계에 의해 분극 방향을 반전시킬 수 있는 물질이다. 특히 PZT는 Pb계 페로브스카이트 구조의 강유전체는 강유전성, 압전성, 초전성 및 전기광학 특성이 우수하여 휘발성 및 비휘발성 메모리 소자, 엑츄에이터, IR 센서, SAW(Surface Acoustic Wave) filter, 적외선 감지소자 및 각종 전자부품 재료로서 주목받고 있다[1-3]. 현재 연구되는 PZT 박막의 제조 방법으로는 DC/RF magnetron sputtering 법 MOCVD법, laser ablation법과 sol-gel법 등이 있다[4,5].
PZT 박막의 제조 방법 중 RF magnetron sputtering법의 장점은? 현재 연구되는 PZT 박막의 제조 방법으로는 DC/RF magnetron sputtering 법 MOCVD법, laser ablation법과 sol-gel법 등이 있다[4,5]. 이러한 방법 중에 RF magnetron sputtering법은 플라즈마를 target에 국한시켜 플라즈마 밀도를 높여서 방전전압이 낮아도 큰 전류를 얻을 수 있으므로 비교적 불순물이 적고, 높은 에너지의 원자들이 기판에 증착 되어 결정성이 좋으며, 증착 조건의 조절이 용이하여 양질의 박막을 쉽게 제작할 수 있다는 이점이 있다. PZT의 전극 재료로는 pervoskite상 형성이 용이하고 낮은 누설 전류 특성을 갖는 장점이 있는 Pt(Platinum), Ir(Iridium) 또는 Ru(Ruthenium) 같은 금속전극이 사용되고 있다[6].
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참고문헌 (7)

  1. Yi Yin, Hui Ye, Wenbo Zhan, Liang Hong, Haimin Ma, and Jian Xu, "Preparation and characterization of unimorph actuators based on piezoelectric $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3 $ materials", Sensors and Actuators A: Physical, Vol. 171, Issue 2, pp. 332-339, 2011. 

  2. A. I. Mardare, C. C. Mardare, and E. Joanni, "Bottom electrode crystallization of PZT thin films for ferroelectric capacitors", Journal of the European Ceramic Society, Vol. 25, pp. 735-741, 2005. 

  3. C. Manke, O. Boissiere, U. Weber, G. Barbar, P.K. Baumann, J. Lindner, M. Tapajna, and K. Fro¨hlich, "Growth of Ru/ $RuO_2$ layers with atomic vapor deposition on plain wafers and into trench structures", Microelectronic Engineering, Vol. 83, pp. 2277-2281, 2006. 

  4. A. Huang, and S.R. Shannigrahi, "Effect of bottom electrode and resistive layer on the dielectric and ferroelectric properties of sol-gel derived $BiFeO_3$ thin films", Journal of Alloys and Compounds, Vol. 39, Issue 1, pp. 219-225, 2013. 

  5. L.W. Martin, Y.-H. Chu, and R. Ramesh, "Advances in the growth and characterization of magnetic, ferroelectric, and multiferroic oxide thin films", Materials Science and Engineering: R: Reports, Vol. 68, Issues 4-6, pp. 89-133, 2010. 

  6. Kyubong Jung, Takeshi Momose, and Yukihiro Shimogaki, "Strontium ruthenium oxide deposition in supercritical carbon dioxide using a closed reactor system", The Journal of Supercritical Fluids, Vol. 79, pp. 244-250, 2013. 

  7. E Bouyssou, P Leduc, G Guegan and R Jerisian, "Leakage current conduction in $IrO_2$ /PZT/Pt structures", Journal of Physics: Conference Series, Vol. 10, pp. 317-320, 2005. 

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