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로이 응용을 위한 비정질 In-Si-O 다층구조 특성 평가
Characterization of Amorphous In-Si-O Multilayer for Low Emissivity Applications 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.27 no.8, 2014년, pp.483 - 485  

이영선 (청주대학교 전자공학과) ,  이상렬 (청주대학교 반도체공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Transparent amorphous In-Si-O (ISO)/Ag/In-Si-O (ISO) has been reported for low emissivity (low-e) applications. Effective Si doping into the $In_2O_3$ matrix led to a completely amorphous ISO film as well as a low resistivity and a high optical transmittance. The optical and electrical pe...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구는 비정질 산화물인 ISO를 이용하여 투명한 다층 박막을 증착하여 로이 유리로서 응용에 대한 연구를 진행하였다. 상온에서 증착한 ISO/Ag(15 nm)/ISO 다층 박막의 분석 결과 550 nm 파장 대에서 약 78%의 높은 투과율을 나타냈으며 1,000 nm 파장 대에서 약 22%의 낮은 투과율을 나타내었다.
  • 본 연구에서는 비정질 In-Si-O (ISO) 박막을 이용하여 로이 유리의 특성에 대하여 확인하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
로이 유리란? 이 문제에 대응하기 위하여 화석연료의 사용을 줄이고, 에너지 효율을 높이는 방안을 강구하고 있는데 건물의 에너지 손실을 줄이기 위해서 로이 유리 (low emissivity glass)의 이용이 확대되고 있다 [1,2]. 로이 유리는 산화물/금속/산화물 다층으로 이루어진 구조로서 가시광선 영역에서는 높은 투과율을 가지며 적외선 영역에서는 낮은 방사율 특성으로 인해 열을 차단하는 역할을 한다 [3,4]. 기존의 단일 구조로 이루어진 투명 전도막과는 달리 얇은 두께의 금속층이 투명 전도막 산화물 사이에 삽입한 구조로 적층되었을 때 반사 억제 (antireflection)효과로 인하여 광투과 특성이 특정 파장 대역에서 투과도가 큰 현상을 보이는 보고가 있다 [5,6].
로이 유리에 비정질 박막을 형성할 경우 결정질 박막에 비해 어떤 장점이 있는가? 기존에 연구되어진 로이 유리는 Al 또는 Ga이 도핑된 ZnO 박막을 이용하여 결정질에 따른 grain boundary, roughness, defect 등으로 Ag층 형성에 영향을 주었다. 하지만, 비정질 박막을 이용할 경우 기존의 결정질 박막일 때 보다 더 얇은 두께에서도 높은 전도성 및 저 방사율을 갖는 로이 유리를 제작할 수 있다. 본 연구에서는 비정질 In-Si-O (ISO) 박막을 이용하여 로이 유리의 특성에 대하여 확인하였다.
로이 유리에서 광투과 특성이 특정 파장 대역에서 투과도가 큰 현상을 보이는 이유는? 로이 유리는 산화물/금속/산화물 다층으로 이루어진 구조로서 가시광선 영역에서는 높은 투과율을 가지며 적외선 영역에서는 낮은 방사율 특성으로 인해 열을 차단하는 역할을 한다 [3,4]. 기존의 단일 구조로 이루어진 투명 전도막과는 달리 얇은 두께의 금속층이 투명 전도막 산화물 사이에 삽입한 구조로 적층되었을 때 반사 억제 (antireflection)효과로 인하여 광투과 특성이 특정 파장 대역에서 투과도가 큰 현상을 보이는 보고가 있다 [5,6]. 뿐만 아니라 비저항이 매우 낮은 금속인 Ag를 삽입하였기 때문에 투명 전극 분야에 응용되고 있다.
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참고문헌 (6)

  1. E. Hammarberg and A. Roos, Thin Solid Films, 442, 222 (2003). 

  2. M. Del Re, R. Gouttebaron, J. P. Dauchot, and M. Hecq, Surf. Coat. Techno., 180, 488 (2004). 

  3. J.C.C. Fan and F. J. Backner, Appl. Opt., 15, 1012 (1976). 

  4. J. H. Lee, S. H. Lee, K. L. Yoo, N. Y. Kim, and C. K. Hwangbo, Appl. Opt., 41, 3061 (2002). 

  5. J. J. Finley, 44th Annual Technical Conference Proceedings (Society of Vacuum Coaters, Philadelphia, USA, 2001) p. 193. 

  6. P. H. Berning, Appl. Opt., 22, 4127 (1983). 

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