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ITO 박막 형성을 위한 나노초 레이저 소결 공정
Nanosecond Laser Sintering Process for Fabricating ITO film 원문보기

한국레이저가공학회지 = Journal of korean society of laser processing, v.17 no.1, 2014년, pp.13 - 16  

박태순 (포항공과대학교 기계공학과) ,  김동식 (포항공과대학교 기계공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Indium Tin Oxide (ITO) has been used widely for transparent conducting thin films. In this work, the feasibility of a laser sintering process to fabricate ITO thin films on flexible substrates is examined. Nanoparticles of ~10 nm were spin coated on a Si wafer and then sintered by a KrF excimer lase...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 나노초 펄스레이저를 이용한 ITO 박막 소결 공정을 분석하였다. 실험 결과 얻은 표면저항의 최소값은 약 1.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
유연기판 위에 ITO 박막을 형성 하기 위한 저온 공정에는 어떤 것이 있는가? 2,3 ITO 박막 형성에는 다양한 공정이 이용되고 있으나4,5,6 보다 단순하고 비용 부담이 적은 공정의 개발이 필요하다. 특히, 근래에는 유연기판 위에 ITO 박막을 형성 하기 위한 저온 공정의 필요성이 대두되었고 그러한 공정의 하나로서 ITO 용액을 잉크젯 분사나 dip coating 방법으로 표면에 증착시키고 후처리를 하는 방법이 제안되었다.7 이 방법은 보다 간편하고 쉽게 박막을 형성할 수 있다는 장점이 있으나 별다른 후처리를 하지 않는 경우 높은 전도성을 기대하기 어렵다.
ITO 용액을 잉크젯 분사나 dip coating 방법으로 표면에 증착시키고 후처리를 하는 방법의 장단점은? 특히, 근래에는 유연기판 위에 ITO 박막을 형성 하기 위한 저온 공정의 필요성이 대두되었고 그러한 공정의 하나로서 ITO 용액을 잉크젯 분사나 dip coating 방법으로 표면에 증착시키고 후처리를 하는 방법이 제안되었다.7 이 방법은 보다 간편하고 쉽게 박막을 형성할 수 있다는 장점이 있으나 별다른 후처리를 하지 않는 경우 높은 전도성을 기대하기 어렵다. 따라서 다양한 박막 형성 조건에 대한 연구와 더불어 액상 도포된 박막의 후처리 공정에 대한 연구가 수행되고 있다.
ITO의 장점은? 근래 다양한 디스플레이 기기와 모바일 기기들이 개발되면서 이에 이용될 수 있는 고투명성, 고 전기전도성 투명전극 재료에 대한 연구가 이어지고 있다.1 그 중 ITO(Indium Tin Oxide) 는 가장 널리 이용되는 재료의 하나로서, 가시광선 영역에서 매우 높은 투명성을 지니기 때문에 재료의 물성, 가공방법, 응용 등에 대한 다양한 연구가 수행되고 있다.2,3 ITO 박막 형성에는 다양한 공정이 이용되고 있으나4,5,6 보다 단순하고 비용 부담이 적은 공정의 개발이 필요하다.
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