$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

다변량 분석기법을 통한 플라즈마 공정 모니터링 기술
Plasma Monitoring by Multivariate Analysis Techniques 원문보기

진공 이야기 = Vacuum magazine, v.2 no.4, 2015년, pp.27 - 32  

장해규 (성균관대학교 나노과학기술학과) ,  고경범 (성균관대학교 화학공학부) ,  이호녕 (성균관대학교 반도체디스플레이공학과) ,  채희엽 (성균관대학교 화학공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Plasma diagnosis and multivariate analysis techniques for plasma processes are reviewed. The principles and applications of optical emission spectroscopy (OES) and VI probe are discussed briefly. The research results of principal component analysis (PCA), one of the widely used multivariate analysis...

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • 본 기고에서는 양산 공정에서 사용가능한 플라즈마 진단기법을 위주로 설명하기 위해 빛 방출 분석(OES)과 VI probe에 관해 살펴보고, 다변량분석 기법중의 하나인 주성분분석의 적용 예에 관해 살펴보았다. 이 외에도 현재 사용되는 플라즈마 진단 방법들이 여러 가지가 있지만, 비용이나 양산 공정의 적용 문제로 인해 실사용이 어려운 경우가 많아 주로 선행개발을 목적으로 사용하고 있으며, 플라즈마에 대하여 비침습식 실시간 진단기법에 대한 추가적인 연구가 필요하다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
플라즈마의 물리적, 화학적 상태는 어떤 변수들의 영향을 받아 결정되는가? 일반적으로 플라즈마의 물리적, 화학적 상태는 반응기의 형태, 반응기 내의 압력, 주입 가스, 인가된 전압 및 공정 진행 상황 등 다양한 변수들의 영향을 받아 결정된다[5]. 이러한 다양한 변수들로 인하여, 공정 진행이 완료된 기판에 대하여 임의적인 표본을 추출하여 조사하는 것으로는 공정 진행에 최적인 조건을 구하기가 어려운 상황이다.
플라즈마의 실시간 진단에서 침습식은 어떠한 장점이 있는가? Electrostatic probes(정전 탐침) 기법인 Single langmuir probe(단일 탐침)나 Double floating probe(이중 탐침)처럼 상대적으로 큰 교란을 주는 경우 침습식으로 볼 수 있다. 침습식의 경우 플라즈마에 일어나는 교란 때문에 제조현장에서 사용하기에 무리가 있지만, 비침습식에서 얻을 수 없는 정보를 얻을 수 있기 때문에 공정조건 확립에 사용할 수 있다 [5].
플라즈마 공정이란? 플라즈마 공정은 반도체의 집적도가 높아짐에 따른 선폭 미세화에 필요한 공정이며, 현재는 반도체 및 디스플레이 패널 생산에서의 식각 및 증착 공정을 포함하여 각종 표면처리공정 등에 폭넓게 사용되고 있다 [1-3]. 그런데 플라즈마를 이용한 공정의 난이도가 계속 증가함에 따라, 공정 진행 중 반응기의 상태 변화 양상에 대한 정확한 파악이 중요해 졌으며, 또한 공정의 재현성 확보 및 공정조건의 안전성 확보에 대한 필요성이 커지고 있다 [4].
질의응답 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (21)

  1. R. Mohan Sankaran (Ed.), Plasma processing of nanomaterials (CRC Press, Florida, 2012), pp.1-54. 

  2. S. J. Pearton. and D. P. Norton, Plasma Process. Polym. 2, 16 (2005) 

  3. P. Mishra, Harsh and S. S. Islam, Superlattice Microst. 64, 399 (2013) 

  4. J. M. Stilahn, K. J Trevino and E. R. Fisher, Annu. Rev. Anal. Chem. 1, 261 (2008) 

  5. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley-Interscience, New Jersey, 2005), pp. 387-534. 

  6. A. Grill, Cold Plasma in Materials Fabrication: From Fundamentals to Applications (IEEE PRESS, New York, 1994), pp. 114-150. 

  7. G. S. Selwyn, AVS monograph series: Optical diagnostic techniques for plasma processing, edited by Woody weed (AVS Press, New Work, 1993), pp 27-80. 

  8. K. Han, E. S. Yoon, J. Lee, H. Chae, K. H. Han and K. J. Park, Ind. Eng. Chem. Res. 47, 3907 (2008) 

  9. K. Ukai and K. Hanazawa, J. Vac. Sci. Technol. 16, 385 (1979) 

  10. G Fortunato, J. Phys. E Sci. Instrum., 20, 1051 (1987) 

  11. V. Patel, B. Singh and J. H. Thomas III Appl. Phys. Lett. 61, 1912 (1992) 

  12. M. N. A. Dewan, P. J. McNally, T. Perova and P. A. F. Herbert, Microelectron. Eng. 65, 25 (2003) 

  13. P. Dubreuil and D. Belharet, Microelectron. Eng. 87, 2275 (2010) 

  14. H. L. Maynard, E. A. Rietman, J. T. C. Lee and D. E. Ibbotson, J. Electrochem. Soc. 143, 2029 (1996) 

  15. M. Kanoh, M. Yamage and H. Takada, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 1457 (2001) 

  16. M. A, Sobolewski, J. Vac. Sci. Technol. A, 24, 1892 (2006) 

  17. M. A. Sobolewski and D. L. Lahr, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 051303 (2012) 

  18. H. Jang, J. Nam, C. K. Kim and H. Chae, Plasma Process. Polym. 10, 850 (2013) 

  19. K. Han, K. J. Park, H. Chae and E. S. Yoon, Korean J. Chem. Eng. 25, 13 (2008) 

  20. S. J. Qin, J. Chemometr. 17, 480 (2003) 

  21. A. J. Izenman, Modern Multivariate Statistical Techniques (Springer Science + Business Media, New York, 2008), pp. 107-313, 407-504, 597-632 

저자의 다른 논문 :

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

BRONZE

출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로