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NTIS 바로가기진공 이야기 = Vacuum magazine, v.2 no.4, 2015년, pp.27 - 32
장해규 (성균관대학교 나노과학기술학과) , 고경범 (성균관대학교 화학공학부) , 이호녕 (성균관대학교 반도체디스플레이공학과) , 채희엽 (성균관대학교 화학공학부)
Plasma diagnosis and multivariate analysis techniques for plasma processes are reviewed. The principles and applications of optical emission spectroscopy (OES) and VI probe are discussed briefly. The research results of principal component analysis (PCA), one of the widely used multivariate analysis...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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플라즈마의 물리적, 화학적 상태는 어떤 변수들의 영향을 받아 결정되는가? | 일반적으로 플라즈마의 물리적, 화학적 상태는 반응기의 형태, 반응기 내의 압력, 주입 가스, 인가된 전압 및 공정 진행 상황 등 다양한 변수들의 영향을 받아 결정된다[5]. 이러한 다양한 변수들로 인하여, 공정 진행이 완료된 기판에 대하여 임의적인 표본을 추출하여 조사하는 것으로는 공정 진행에 최적인 조건을 구하기가 어려운 상황이다. | |
플라즈마의 실시간 진단에서 침습식은 어떠한 장점이 있는가? | Electrostatic probes(정전 탐침) 기법인 Single langmuir probe(단일 탐침)나 Double floating probe(이중 탐침)처럼 상대적으로 큰 교란을 주는 경우 침습식으로 볼 수 있다. 침습식의 경우 플라즈마에 일어나는 교란 때문에 제조현장에서 사용하기에 무리가 있지만, 비침습식에서 얻을 수 없는 정보를 얻을 수 있기 때문에 공정조건 확립에 사용할 수 있다 [5]. | |
플라즈마 공정이란? | 플라즈마 공정은 반도체의 집적도가 높아짐에 따른 선폭 미세화에 필요한 공정이며, 현재는 반도체 및 디스플레이 패널 생산에서의 식각 및 증착 공정을 포함하여 각종 표면처리공정 등에 폭넓게 사용되고 있다 [1-3]. 그런데 플라즈마를 이용한 공정의 난이도가 계속 증가함에 따라, 공정 진행 중 반응기의 상태 변화 양상에 대한 정확한 파악이 중요해 졌으며, 또한 공정의 재현성 확보 및 공정조건의 안전성 확보에 대한 필요성이 커지고 있다 [4]. |
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