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티타늄 다공체에 담지된 Camphene과 화학기상증착법을 이용한 CNT 합성
Synthesis of CNT on a Camphene Impregnated Titanium Porous Body by Thermal Chemical Vapor Deposition 원문보기

한국분말야금학회지 = Journal of Korean Powder Metallurgy Institute, v.22 no.2, 2015년, pp.122 - 128  

김호규 (한양대학교 신소재공학과) ,  최혜림 (한양대학교 신소재공학과) ,  변종민 (한양대학교 신소재공학과) ,  석명진 (강원대학교 재료금속공학과) ,  오승탁 (서울과학기술대학교 신소재공학과) ,  김영도 (한양대학교 신소재공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, titanium(Ti) meshes and porous bodies are employed to synthesize carbon nanotubes(CNTs) using methane($CH_4$) gas and camphene solution, respectively, by chemical vapor deposition. Camphene is impregnated into Ti porous bodies prior to heating in a furnace. Various microsco...

주제어

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문제 정의

  • 탄화수소 가스는 평면 기판이나 메쉬(mesh)와 같이 CNT 합성위치에 가스 공급이 원활한 비교적 단순한 형태의 기판에는 효과적이나, 내부에 작고 불규칙한 기공 구조를 가진 다공체와 같이 복잡한 구조의 기판 내부에는 충분한 양의 탄화수소 가스를 공급하기 어렵다. 따라서 본 연구에서는 티타늄 다공체 내부에 CNT를 합성하기 위하여 탄화 수소 가스 공급방법과 더불어 탄소 전구체 용액을 사용한 새로운 합성방법을 적용하였다.
  • 본 연구에서는 티타늄 메쉬와 티타늄 다공체에 보다 조밀하고 균일하게 분포된 CNT를 얻기 위하여 메탄가스와 더불어 camphene 담지 방법을 이용하여 화학기상증착법 으로 CNT를 합성하였다. 티타늄 메쉬에 메탄가스를 이용한 CNT 합성은 조밀하고 균일하게 분포한 CNT를 형성하였으나, 티타늄 다공체 내에는 비교적 낮은 밀도의 불균일 하게 분포된 CNT를 형성하였고, 이러한 결과는 다공체 내부에 공급되는 불충분한 메탄가스의 유량에 기인한 것으로 해석된다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
CNT 합성에 촉매 화학기상증착법을 많이 사용하는 이유는 무엇인가? CNT를 합성하기 위한 방법은 레이저증착법(Laser ablation), 전기방전법(Electric-arc discharge), 촉매 화학기 상증착법(catalytic chemical vapor deposition) 등이 있으나 [6], 낮은 생산비용, 대량 생산의 용이성과 양질의 CNT 합성 가능성 등의 이점을 가진 촉매 화학기상증착법이 많이 사용되고 있다. 촉매 화학기상증착법을 통한 CNT 합성에는 고온에서 높은 탄소 용해도와 탄소 확산속도를 가진철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co) 등의 전이 금속을 촉매로 주로 사용한다[7].
촉매 화학기상증착법을 통한 CNT 합성에 주로 사용하는 촉매는 무엇인가? CNT를 합성하기 위한 방법은 레이저증착법(Laser ablation), 전기방전법(Electric-arc discharge), 촉매 화학기 상증착법(catalytic chemical vapor deposition) 등이 있으나 [6], 낮은 생산비용, 대량 생산의 용이성과 양질의 CNT 합성 가능성 등의 이점을 가진 촉매 화학기상증착법이 많이 사용되고 있다. 촉매 화학기상증착법을 통한 CNT 합성에는 고온에서 높은 탄소 용해도와 탄소 확산속도를 가진철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co) 등의 전이 금속을 촉매로 주로 사용한다[7]. 또한 CNT를 합성하기 위한 기판 (substrates)은 TiO 2 , MgO, SiC, Al2O3 , CaCO3 등 다양한 종류의 세라믹이 사용되었으나, 최근에는 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 스테인리스 강 등의 필름이나 얇은 판재(sheet)가 사용되었다[8-12].
CNT를 합성하기 위한 금속 기판으로 무엇이 사용되는가? 촉매 화학기상증착법을 통한 CNT 합성에는 고온에서 높은 탄소 용해도와 탄소 확산속도를 가진철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co) 등의 전이 금속을 촉매로 주로 사용한다[7]. 또한 CNT를 합성하기 위한 기판 (substrates)은 TiO 2 , MgO, SiC, Al2O3 , CaCO3 등 다양한 종류의 세라믹이 사용되었으나, 최근에는 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 스테인리스 강 등의 필름이나 얇은 판재(sheet)가 사용되었다[8-12]. 이러한 금속 기판은 CNT와의 양호한 전기적 접촉(electrical contact)이 요구되는 전극, 센서, 디스플레이, 변환장치나 촉매필터 등에 적용하는데 바람직한 것으로 알려져있다[12, 13].
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참고문헌 (23)

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  6. M. Paradise and T. Goswami: Mater. Design, 28 (2007) 1477. 

  7. M. Kumar and Y. Ando: J. Nanosci. Nanotechnol., 10 (2010) 3739. 

  8. S. Dorfler, I. Felhosi, I. Kek, T. Marek, H. Althues, S. Kaskel and L. Nyikos: J. Power Sour., 208 (2012) 426. 

  9. S. Y. Kwak, H. G. Kim, J. M. Byun, J. H. Park, M-J. Suk, S-T. Oh and Y. D. Kim: J. Korean Powder Metall. Inst., 21 (2014) 28. 

  10. J. H. Park, J. M. Byun, H. S. Kim, M-J. Suk, S-T. Oh and Y. D. Kim: J. Korean Powder Metall. Inst., 21 (2014) 371. 

  11. M. Hashempour, A. Vicenzo, F. Zhao and M. Bestetti: Carbon, 63 (2013) 330. 

  12. H. Sharma, A. K. Shukla and V. D. Vankar: J. Appl. Phys., 110 (2011) 033726. 

  13. M. S. Kabir, R. E. Morjan, O. A. Nerushev, P. Lundgren, S. Bengtsson, P. Enokson and E. E. B. Campbell: Nanotechnol., 16 (2005) 458. 

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  20. W-W. Liu, S-P. Chai, A. R. Mohamed and U. Hashim: J. Ind. Eng. Chem., 20 (2014) 1171. 

  21. Y. I. Lee, M. H. Park, J. H. Bae, S. E. Lee, K. W. Song, T. H. Kim, Y. H. Lee and C.W. Yang: J. Nanosci. Nanotechnol., 11 (2011) 479. 

  22. F. Doustan, A. A. Hosseini and M. A. Pasha: J. Nanostructures, 3 (2013) 333. 

  23. L. Gan, R. Lv, H. Du, B. Li and F. Kang: Carbon, 47 (2009) 183. 

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