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NTIS 바로가기Journal of welding and joining = 대한용접·접합학회지, v.33 no.2, 2015년, pp.14 - 17
조정호 (충북대학교 기계공학부) , 이중재 (충북대학교 기계공학부) , 배승환 (충북대학교 기계공학부) , 이용기 (충북대학교 기계공학부) , 박경배 (충북대학교 기계공학부) , 김용준 (충북대학교 기계공학부) , 이준경 (현대자동차 생산개발본부)
Cleaning effect is well known mechanism of oxide layer removal in DCEP polarity. It is also known that DCEN has higher heat input efficiency than DCEP in GTAW process. Based on these two renowned arc theories, conventional variable polarity arc for aluminum welding was set up to have minimum DCEP an...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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음극점의 랜덤 워크의 원인은 무엇인가? | 이는 진공 아크와 가스 아크에서 공통적으로 관찰 되는 현상으로, 불규칙적인 위치 이동을 특징삼아 이를 음극점의 랜덤 워크(random walk)로 부르기도 한다. 음극점이 계속해서 이동하는 메카니즘은 아직 뚜렷이 밝혀지지는 않았으나9,10), 표면의 불순물 결함이나 형상적 불균일에 따른 일함수(work function)의 차이를 주요 원인으로 보고 있다. 가변 극성 아크 알루미늄 용접에서도, 마찬가지로 역극성 기간 동안 알루미늄 음극에서 음극점 이동 현상이 관찰된다. | |
알루미늄 소재를 별도의 산화막 제거 공정을 거치지 않고 용접하기 위해 무엇을 이용해야 하는가? | 고온의 융점과 강도를 갖고, 밀도가 모재보다 높은 산화막을 가지고 있는 알루미늄 소재의 아크 용접성은 낮은 편지이만, 역극성(DCEP, reverse polarity)의 GMA를 이용하거나, 부분적으로 역극성을 사용하는 가변 극성 GTA를 이용하면 별도의 산화막 제거 공정을 거치지 않아도 용접이 가능하다. 이는 역극성에서 청정 효과로 알려진 산화막 제거 특성 덕분으로, 아크 플라즈마의 양이온이 모재 표면에 충돌하는 운동에너지에 의해 산화막이 파괴되는 메카니즘으로 지금까지 설명되 어져 왔다1-3). | |
알루미늄 산화막의 양자 터널 효과는 어떻게 나타나는가? | 알루미늄 산화막은 통전이 불가능한 부도체이지만, 전압이 인가되면 박막의 산화막을 통해 극도로 높은 전기장이 유도되어 오히려 산화막을 통해 전자 방출이 더 쉽게 이루어진다. 이와 같은 현상을 양자 터널 효과8) 라고 하며, 텅스텐 전극의 열전자 방출(thermionic emission) 메카니즘과 달리 상대적으로 낮은 온도에서 전자 방출이 일어나므로 비열전자 방출(nonthermionic emission)이라고 하기도 하고, 전기장에 의한 유도 전자 방출이므로 필드 방출(field emission)이라고도 한다. |
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