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[국내논문] 입사각에 따른 반사방지막 성능 개선에 관한 연구
The Study on the Improvement of Antireflection Coating Efficiency According to the Angle of Incidence 원문보기

한국산학기술학회논문지 = Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society, v.16 no.6, 2015년, pp.4131 - 4136  

김창봉 (공주대학교 정보통신공학부 전파전공)

초록
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본 논문은 반사방지막의 성능을 더 정확히 비교 및 분석하기 위하여 기존 방법과 달리 반사방지막에 수직입사가 아닌 입사각이 $8^{\circ}$에서 $60^{\circ}$까지 변화한다고 가정하고 단층 구조와 다층 구조의 반사방지막의 평균반사율을 계산하고 비교하였다. 입사파의 파장범위를 400 nm ~ 1200 nm 라고 가정하고, 분석에 사용된 반사방지막의 구조는 두께 180 nm인 1차 및 5차 함수의 굴절률 분포를 갖는 6층 구조와 균일한 굴절률 분포를 갖는 단층구조이다. 분석 결과로써 180 nm 단층구조의 경우 평균반사율이 19.6 % 이고, 같은 두께의 6층 구조의 1차 함수 굴절률 분포에서는 14.2 % 이고, 5차 함수 경우에는 11.6 %의 결과를 얻어 균일한 굴절률 분포의 단층구조 보다 5차 함수 굴절률 분포를 갖는 6층 구조의 경우 약 8%의 반사율 감소 효과를 보았다. 이러한 결과는 향후 광소자 및 광 필터에 적용되는 반사방지막 제작에 용용 될 수 있다고 판단된다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

This paper compares and calculates more precisely the averaged reflectance of antireflection coating with different structure of single and 6 layer assuming the incident angle of light changing from $8^{\circ}$ to $60^{\circ}$ not like normal incidence as usual case. The reflec...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 따라서 본 절에서는 TE와 TM의 경우 임의의 입사각, 즉 8 ° , 18 ° , 28 ° , 38 ° , 48 ° , 60 ° 일 때의 반사율 값의 평균치를 계산하여 단층, 1차 함수, 5차 함수 각각의 경우 반사율을 비교하고자 한다.
  • 기존의 연구에서는 반사율 계산을 단순화하기 위하여 광원의 빛이 수직입사 한다고 가정하였으나, 본 연구에서는 파장을 400 nm에서 1200 nm 까지 변화시킬 수 있는 광원(예를 들면 파장가변 레이저 등)의 빛이 임의의 입사각으로 반사방지막에 입사 된다고 할 때 반사율을 구하고자 한다. 이때 반사방지막은 단층 및 6층 구조이고, 단층 일 때 반사방지막의 굴절률은 1.
  • 본 절에서는 400 nm 에서 1200 nm 파장범위에서 입사각에 따른 평균 반사율 값을 단층, 다층 구조의 반사방지막에서 구하고자 한다. 앞의 결과에서 보듯이 주어진 파장대에서 입사각이 존재할 경우 입사각의 크기에 관계없이 평균적으로 단층, 1차 함수 및 5차 함수 순으로 반사율이 적어지는 것을 볼 수 있었다.

가설 설정

  • 이때 왼쪽 매질부터 영역 1은 공기n0 = 1)이고, 6층 구조의 반사방지막의 굴절률은 각 각 n1 , n2 , … 등으로 표시하고, 기판의 굴절률은 ns = 3.8 이라고 가정한다.
  • 굴절률 분포를 단순화하기 위하여 반사방지막의 총 두께 t = 1 μm 로 가정하고, 1차, 5차 함수 굴절률 분포인 경우 굴절률은 기판 쪽으로 갈수록 증가한다고 가정한다.
  • 분석하고자 하는 코팅구조는 아래의 그림 1과 같이 기판 위의 다층의 AR 코팅 영역으로 이루진다. AR 코팅은 6개의 층으로 이루어지며 각층의 두께는 30 nm 이고 코팅의 전체 두께는 180 nm로 가정한다. 빛이 입사각 θi 로 코팅표면에 입사할 때 각층의 투과각을 각각 θt1 , θt2, .
  • 로 주어지고 입사되는 매질은 공기이며 굴절률 n0 = 1라고 가정한다. 만약 코팅이 N-다층의 구조를 갖는다면,
  • 기존의 연구에서는 반사율 계산을 단순화하기 위하여 광원의 빛이 수직입사 한다고 가정하였으나, 본 연구에서는 파장을 400 nm에서 1200 nm 까지 변화시킬 수 있는 광원(예를 들면 파장가변 레이저 등)의 빛이 임의의 입사각으로 반사방지막에 입사 된다고 할 때 반사율을 구하고자 한다. 이때 반사방지막은 단층 및 6층 구조이고, 단층 일 때 반사방지막의 굴절률은 1.6 이라고 가정하며, 6층 구조일 때의 굴절률 분포는 그림 2와 3의 1차 및 5차 함수의 분포를 갖는다고 가정한다. 이때 입사되는 빛은 TE 와 TM 성분의 경우 각각의 반사율이 틀려지는데, 아래 그림 4는 입사각 θi가 8 ° 로 그림 5는 60 ° 로 고정했을 때의 TE 경우 반사율 값을 나타낸다.
  • 여기에서 반사방지막의 성능은 반사율이 클수록 낮아지는 반비례 관계이다. 그리고 입사하는 광원의 빛은 일반적인 경우인 무편광 상태라고 가정한다. 그림 8은 400 nm ~ 1200 nm 파장에서 입사각에 따른 반사율을 보여준다.
  • 기존의 원자증착법등의 연구에서는 반사방지막에 수직으로 빛이 입사하는 가정 하에 반사방지막의 성능 분석이 이루어 졌으나 본 연구에서는 보다 실제의 일반적인 경우로서 입사각 8 °∼ 60 ° 범위에서 400 nm ∼ 1200 nm의 무편광 빛이 입사한다고 가정하였다.
  • 빛이 입사각 θi 로 코팅표면에 입사할 때 각층의 투과각을 각각 θt1 , θt2, ...θt6 이고, 기판에서의 투과각을 θt7 라고 가정한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
반사방지막(Antireflection(AR) coating) 기술은 어떻게 적용되고 있는가? 반사방지막(Antireflection(AR) coating) 기술은 광산업에 다양하게 이용되고 있으며, 특히 광소자, 광 필터 및 태양 전지 제작 공정 등에 광범위하게 적용되고 있다. 반사방지막은 기판 위에 얇은 투과막을 코팅하여 빛의 간섭(Interference) 현상을 이용하여 반사를 방지한다.
반사방지막은 어떤 현상을 이용하여 빛의 반사를 방지하는가? 반사방지막(Antireflection(AR) coating) 기술은 광산업에 다양하게 이용되고 있으며, 특히 광소자, 광 필터 및 태양 전지 제작 공정 등에 광범위하게 적용되고 있다. 반사방지막은 기판 위에 얇은 투과막을 코팅하여 빛의 간섭(Interference) 현상을 이용하여 반사를 방지한다. 반사방지막은 빛의 간섭현상을 이용하여 반사율을 제어하므로 기판위에 증착되는 코팅물질의 굴절률 및 두께가 반사막의 반사방지의 정도를 결정하는 가장 중요한 요소이다.
반사방지막(Antireflection(AR) coating) 기술 중 다층의 반사방지막엔 어떤 방법이 있는가? 그리고 우수한 반사방지막을 얻기 위해서는 보다 넓은 파장대에 걸쳐서 낮은 반사율을 얻는 기술이 중요하며 이를 구현하기 위하여 다층의 반사방지막 구조를 적용한다. 이때 다층의 반사방지막은 각 층의 두께 및 구조를 적절하게 변화시키는 방법이 있고[1], 각층의 일정한 두께 내에서 굴절률을 변화시키는 방법이 있다. 이 방법은 공기에서 기판 방향으로 굴절률을 증가하는 방식이며, 이때 굴절률의 변화는 1차, 또는 고차함수 등으로 굴절률 분포를 변화시켜 가능한 넓은 파장대에 걸쳐서 낮은 반사율을 갖도록 하는 것이다[2].
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참고문헌 (7)

  1. A. Mouldi and M. Kanzari, "Broad Multilayer Antireflection Coating by Apodized and Chirped Photonic Crystal", Optics Communications, vol. 284, pp. 4124-4128, Aug., 2011. DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.optcom.2011.05.005 

  2. S.Y. Lee and J.W. Lim, "Improvement of Optical Efficiency in Silicon Thin-Film Solar Cell", Current issues in Journal of IITP, no.1488, pp. 1-13, Mar., 2011. 

  3. J. W. Lim, S. H. Lee, J. K. Kim, and S. J. Yun, "Antireflection Properties of $Al_2O_3$ and $Al_xTi_{1-x}Oy$ Films on ZnO:Ga Coated Si Wafer for Thin-Film Solar Cell", Electrochemical and Solid-State Letters, vol. 13, G17, Aug., 2010. DOI: http://dx.doi.org/10.1149/1.3269612 

  4. W.H. Southwell, "Gradient-index Antireflection Coatings", Optics Letters, vol. 8, no. 11, pp. 584-586, Nov., 1983. DOI: http://dx.doi.org/10.1364/OL.8.000584 

  5. C. B. Kim, "The Study on the Antireflection Coating Design Scheme According to the Index Profile in the Thin-Film silicon Solar Cell", Journal of The Korea Academia-Industrial cooperation Society, vol. 13, no. 9, pp. 4139-4145, Sept,, 2012. DOI: http://dx.doi.org/10.5762/KAIS.2012.13.9.4139 

  6. Filiz Karaomeriloglu, "Reflectance Profile of BaTiO3 on Multilayer Antireflection Coating Systems", The Japan Society of Applied Physics,, vol. 50, pp. 05FH05-05FH06, May, 2011. DOI: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.50.05FH05 

  7. Frank L. Pedrotti, S.J., L. M. Pedrotti, L.S. Pedrotti, "Introduction to Optics", pp. 476-481, Pearson International Edition, Publication, 3rd edition, 2007. 

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