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NTIS 바로가기한국분말야금학회지 = Journal of Korean Powder Metallurgy Institute, v.23 no.1, 2016년, pp.1 - 7
장준호 (한국생산기술연구원) , 오익현 (한국생산기술연구원) , 임재원 (전북대학교 금속공학과) , 박현국 (한국생산기술연구원)
Cu-Mn compacts are fabricated by the pulsed current activated sintering method (PCAS) for sputtering target application. For fabricating the compacts, optimized sintering conditions such as the temperature, pulse ratio, pressure, and heating rate are controlled during the sintering process. The fina...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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용해/주조법의 단점은? | 그 중용해/주조법은 금속타겟을 제조하기 위한 가장 일반적인 방법으로써 대량 생산이 용이하여 제조단가를 낮출 수 있는 장점을 가지고 있다. 하지만 주조결함, 결정립 제어, 고 밀도, 미세조직 제어 및 균일물성의 한계가 있어 압연 및 열처리 공정 등의 후처리 다단계 공정이 요구되어 지고 있다. 반면, 분말야금 기술의 경우 균질한 상 분포와 미세한 결정립 제어, 고순도화 및 고융점 소재 제조가 용이하다. | |
배선용 스퍼터 타겟 소재에는 무엇이 있는가? | 이러한 금속 배선은 극미세패턴으로 형성된 소자내부에서 전기적 신호를 전달하는 통로로써 디바이스의 수율 및 신뢰성을 좌우하는 핵심 소재이다. 이와 같은 배선용 스퍼터 타겟의 소재로는 Al, Cu, Al 합금 및 Cu 합금 소재가 있다. 범용 디바이스에서 주로 Al 타겟 및 Al 합금타겟이 사용되어 왔으나, 최근 디바이스의 고집적화가 진행됨에 따라 Al 소재보다 낮은 비 저항을 가지는 Cu 및 Cu계 스퍼터 타겟의 수요가 증가하고 있는 추세이다. | |
분말야금 기술의 재료적 관점에서 조성 및 성분비 조절 외에 또 다른 장점은? | 하지만 주조결함, 결정립 제어, 고 밀도, 미세조직 제어 및 균일물성의 한계가 있어 압연 및 열처리 공정 등의 후처리 다단계 공정이 요구되어 지고 있다. 반면, 분말야금 기술의 경우 균질한 상 분포와 미세한 결정립 제어, 고순도화 및 고융점 소재 제조가 용이하다. 조성 및 성분비의 설계 자유도 범위가 커서 고성능, 고기능성 타겟을 제조할 수 있는 장점이 있어 최근 용해/주 조법의 대체 공정으로 활발히 적용되고 있다[1]. |
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