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사파이어 웨이퍼 DMP에서 마찰력 모니터링을 통한 재료 제거 특성에 관한 연구
A Study of Material Removal Characteristics by Friction Monitoring System of Sapphire Wafer in Single Side DMP 원문보기

윤활학회지 = Journal of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers, v.32 no.2, 2016년, pp.56 - 60  

조원석 (한국생산기술연구원 정밀가공제어그룹) ,  이상직 (한국생산기술연구원 정밀가공제어그룹) ,  김형재 (한국생산기술연구원 정밀가공제어그룹) ,  이태경 (한국생산기술연구원 정밀가공제어그룹) ,  이성범 (인제대학교 고안전차량핵심기술연구소)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Sapphire has a high hardness and strength and chemical stability as a superior material. It is used mainly as a material for a semiconductor as well as LED. Recently, the cover glass industry used by a sapphire is getting a lot of attention. The sapphire substrate is manufactured through ingot sawin...

주제어

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문제 정의

  • DMP 공정에서 압력과 속도가 재료제거와 마찰 특성에 미치는 영향을 분석하기 위한 실험을 진행 하였다. 실험에는 Fig.
  • DMP 공정에서 연마 정반의 피치 변화가 재료 제거율에 미치는 영향을 알아보고 제안된 재료제거 방정식의 유효성을 확보하기 위한 실험을 실시하였다. 실험은 정반의 형상을 피치에 대한 그루브의 형상과 크기는 고정하고, 피치를 4, 5, 6.
  • 그리고 이때의 마찰력을 측정하여 재료 제거 특성에 대한 관계를 확인하고, 이를 통해 재료 제거와 관련된 실험적 모델을 제안하고자 하였다.
  • 본 연구에서는 사파이어 웨이퍼의 DMP 공정에서 재료 제거 특성을 살펴보기 위해 Preston 방정식에 기초한 가공 압력과 속도에 대한 실험을 진행하였다. 그리고 이때의 마찰력을 측정하여 재료 제거 특성에 대한 관계를 확인하고, 이를 통해 재료 제거와 관련된 실험적 모델을 제안하고자 하였다.
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참고문헌 (4)

  1. Toshiro K. Doi, Toshio Kasai, Hans K. Tonshoff, “Lapping and Polishing”, Handbook of Ceramic Grinding & Polishing, 1999, pp. 354-442. 

  2. S. W. Hwang, G. S. Shing, K. J. Kim, N. S. Suh, “A Study on the Micro-Lapping Process of Sapphire Wafers for Optoelectronic Devices”, Journal of Korean Society of Precision Engineering, Vol. 21, No. 2, 2004. 

  3. Yoshio Homma, “Effects of Mechanical Parameters on CMP characteristics Analyzed by Two-Dimensional Frictional-Force Measurement”, Journal of The Electrochemical Society, 2003, pp. 751-757. 

  4. F. W. Preston, “The Theory and Design of Plate Glass Polishing Machine”, Journal of The Society of Glass Technology, Vol. 11, 1927, pp. 214-256. 

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