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수열합성법으로 제조한 흑색 자성안료의 Fe2+/Fe3+ 몰비에 따른 특성
Effect of Fe2+/Fe3+ Molar Ratio on the Synthesized Magnetic Black Pigment by Hydrothermal Method 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.30 no.12, 2017년, pp.812 - 816  

정명호 (충북대학교 재료공학과) ,  장건익 (충북대학교 재료공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$Fe_3O_4$ was prepared on the $TiO_2-coated$ natural mica substrate. The natural mica has an average particle size of $22{\mu}m$. The substrate was coated on $TiO_2$ thin films using hydrothermal synthesis at pH 1.5-2.5 at $75^{\circ}C$. The Fe ...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 진주안료 소재 중 하나인 산화철(Fe3O4) 나노 입자는 우수한 전자기적 성질로 주목을 많이 받고 있는 자성재료 [2,3] 로, 전자파 흡수 [4], 높은 전기 비저항 [5], 높은 투자율 [6] 등 자기기록매체, 물리화학적 특성을 이용한 다양한 분야에 적용되고 있다. 본 연구에서는 산화철(Fe3O4) 나노 입자와 진주안료의 특성을 접목시킨 기능성의 안정한 흑색을 띠는 안료를 만들고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
진주안료란 무엇인가? 진주안료란 천연진주나 전복의 껍질 안쪽 등의 무지갯빛 광채를 띤 광택안료로, 자동차, 화장품, 도료, 인쇄잉크, 플라스틱 산업 등 광범위한 분야에서 사용되고 있다 [1]. 진주안료 소재 중 하나인 산화철(Fe3O4) 나노 입자는 우수한 전자기적 성질로 주목을 많이 받고 있는 자성재료 [2,3] 로, 전자파 흡수 [4], 높은 전기 비저항 [5], 높은 투자율 [6] 등 자기기록매체, 물리화학적 특성을 이용한 다양한 분야에 적용되고 있다.
수열합성법을 이용한 기질 위 Fe3O4의 제조 공정에서 전처리 공정이 필요한 이유는 무엇인가? 먼저 기질 물질로 천연 마이카(KAl2(AlSi3)O10(F, OH)2)를 사용하였으며, 마이카의 크기는 약 22 ㎛이었다. 이때 기판 위에 금속산화물로 전처리 공정을 거치지 않을 시, Fe3O4는 부착이 어려워, 금속산화물 전 처리 물질로 TiCl4 용액을 이용하였다. TiCl4는 기질 100 g당 100 ml 를 75℃, pH 1.
진주안료 소재 중 하나인 산화철(Fe3O4) 나노 입자는 어떤 분야에 적용되고 있는가? 진주안료란 천연진주나 전복의 껍질 안쪽 등의 무지갯빛 광채를 띤 광택안료로, 자동차, 화장품, 도료, 인쇄잉크, 플라스틱 산업 등 광범위한 분야에서 사용되고 있다 [1]. 진주안료 소재 중 하나인 산화철(Fe3O4) 나노 입자는 우수한 전자기적 성질로 주목을 많이 받고 있는 자성재료 [2,3] 로, 전자파 흡수 [4], 높은 전기 비저항 [5], 높은 투자율 [6] 등 자기기록매체, 물리화학적 특성을 이용한 다양한 분야에 적용되고 있다. 본 연구에서는 산화철(Fe3O4) 나노 입자와 진주안료의 특성을 접목시킨 기능성의 안정한 흑색을 띠는 안료를 만들고자 하였다.
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참고문헌 (6)

  1. S. Wang, J. Wu, and C. Zhou, Dyes. Pigm., 29, 161 (1995). 

  2. W. Pei, H. Kumada, T. Natusme, H. Saito, and S. Ishio, J. Magn. Magn. Mater., 310, 2375 (2007). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2006.10.837] 

  3. W. L. Wang, J. Y. Park, and H. B. Gu, Trans. Electr. Electron. Mater., 15, 338 (2014). [DOI: https://doi.org/10.4313/TEEM.2014.15.6.338] 

  4. J. R. Liu, M. Itoh, and K. Machida, Appl. Phys. Lett., 83, 4017 (2003). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.1623934] 

  5. A. Vermaa, T. C. Goel, R. G. Mendiratta, and R. G. Gupta, J. Magn. Magn. Mater., 192, 271 (1999). [DOI: https://doi.org/10.1016/S0304-8853(98)00592-7] 

  6. T. Nakamura, J. Appl. Phys., 88, 348 (2000). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.373666] 

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