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SnO2 박막의 열처리 온도에 따른 CO2가스 반응성
CO2 Gas Responsibility of SnO5 Thin Film Depending on the Annealing Temperature 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.16 no.4, 2017년, pp.75 - 78  

오데레사 (청주대학교 반도체공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The $CO_2$ gas responsibility of $SnO_2$ thin films was researched with various annealing temperatures. $SnO_2$ was prepared on n-type Si substrate by RF magnetron sputtering system and annealed in a vacuum condition. The bonding structure of $SnO_2$ was c...

주제어

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문제 정의

  • CO2 가스에 대하여 반응하는 수용체로서 SnO2 박막은 RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 증착하고, SnO2 박막의 결정구조를 다양하게 바꾸기 위하여 열처리를 하였으며, 열처리에 의하여 산소공공의 함량비와 결정구조가 달라진 SnO2 박막의 전기적인 특성을 서로 비교하였다. I-V 특성 곡선에 의한 SnO2 박막의 계면특성을 통하여 SnO2 박막과 기판 사이의 접촉저항이 달라짐에 따른 반도체 접합특성과 결정구조 사이의 관계를 조사하고 CO2 가스유량에 따른 전기적인 특성을 연구하였다.
  • 본 논문에서는 SnO2 박막을 이용하여 산소공공에 의한 산화물반도체의 전기적인 특성이 CO2 가스에 대하여 어떻게 반응하는지를 알아보았다. CO2 가스에 대하여 반응하는 수용체로서 SnO2 박막은 RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 증착하고, SnO2 박막의 결정구조를 다양하게 바꾸기 위하여 열처리를 하였으며, 열처리에 의하여 산소공공의 함량비와 결정구조가 달라진 SnO2 박막의 전기적인 특성을 서로 비교하였다.

가설 설정

  • 하지만 Fig. 5(b)는 CO2 가스 유량이 증가할수록 음의 방향 전압영역에서 전류가 점점 감소하고 있다. 변화량을 뚜렷하게 구분할 수 있다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
60도 열처리를 한 경우 SnO2 박막에 음의 전류가 증가하는 이유는? 60도 열처리를 한 경우 SnO2 박막은 CO2 가스의 유량이 증가할수록 음의 전류가 증가하는 것을 확인하였다. 음의 전류가 증가하는 것은 비정질 구조의 SnO2 박막의 표면에서 가스와 반응하는 성분이 많기 때문이며, 이러한 SnO2 박막의 CO2 가스에 대한 반응성에 대한 균일성이 60도에서 열처리를 할 경우 가장 좋고, CO2 가스센서를 만들 경우 가장 우수해 질 수 있다는 의미이기도 하다.
금속 산화물 반도체식 가스 센서는 무엇인가? 최근에 많이 연구되고 있는 가스 센서는 주로 금속 산화물 반도체식 가스 센서가 있다. 금속 산화물 반도체식 가스 센서는 금속 산화물 표면에 흡착되어 있는 산소와 검출 가스의 반응을 통해 나타나는 반도체의 저항변화를 측정하는 센서이다. 인체에 유해한 환경물질인 휘발성유기화합물 VOCs (Volatile Organic Compounds)들의 가스반응 감지시스템으로 반도체식 가스 센서가 주목을 받고 있다[1-4].
반도체소자로 가스반응을 일으키는 수용체로 사용되는 물질들은 어떤 것들이 있는가? 인체에 유해한 환경물질인 휘발성유기화합물 VOCs (Volatile Organic Compounds)들의 가스반응 감지시스템으로 반도체식 가스 센서가 주목을 받고 있다[1-4]. 반도체소자로 가스반응을 일으키는 수용체로 사용되는 물질들로 SnO2, ZnO, WO3, In2O3, CuO 등이 알려져 있다. 금속산화물 반도체물질은 계면접합 특성에 의하여 발생하는 산소공공의 이온화 효과에 따라서 가스와 반응하는 화학적 특성이 달라지고 저항이 달라져서 전기신호로 바꾸어 신호처리를 하기 쉽게 되므로 의료용 기기, 광 센서 등에서 이용되고 있다[5-9].
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참고문헌 (16)

  1. Teresa Oh, "Ohmic Contact Effect and Electrical Characteristics of ITO Thin Film Depending on SiOC Insulator," Korean J. Mater. Res., Vol. 25, No. 7, pp. 1149-1154, (2015). 

  2. Sang-Heon Lee, Keon-Tae Park, and Young-Guk Son, "Electrochemical Characteristics of Silicon-Doped Tin Oxide Thin Films," Korean Journal of Materials Research, Vol. 12, pp. 240-247, (2002). 

  3. Z. M. Jarzebski and J. P. Marton, "Physical Properties of $SnO_2$ Materials Preparation and Defect Structure," Journal of the electrochemical Society, Vol. 123, pp. 199-203, (1976). 

  4. Oh. T., Tunneling Condition at High Schottky Barrier and Ambipolar Transfer Characteristics in Zinc Oxide Semiconductor Thin Film Transistor, Materials Research Bulletin, Vol. 77, pp. 1-7, (2016). 

  5. Paranjape MA, Mane AU, Raychaudhuri AK, Shalini K, Shivashankar SA, Chakravarty BR, "Metal-organic chemical vapour deposition of thin films of cobalt on different substrates: study of microstructure," Thin Solid Films, Vol. 413(1-2), pp. 8-15, (2002). 

  6. V. Vasu and A. Subrahmanyam, "Electrical and optical properties of sprayed $SnO_2$ films," Thin Solid Film, Vol. 193/194, pp. 973-980, (1990). 

  7. Randhawa. H.S, Matthews. M.D, Bunshah, R.F, " $SnO_2$ films prepared by activated reactive evaporation," Thin Solid Films, Vol. 83, pp. 267-271, (1967). 

  8. Teresa Oh, "Electrical Characteristics of Thin Film Transistor According to the Schottky Contacts," Korean Journal of Materials Research, Vol. 24, pp. 135-139, (2014). 

  9. J . Maserjian, "Tunneling in thin MOS structures," J. Vac. Sci. Technol., Vol. 11, pp. 996-1003, (1974). 

  10. S. D. Ganichev, et al. "Distinction between the Poole-Frenkel and tunneling models of electric-field-stimulated carrier emission from deep levels in semiconductors," Phys. Rev B, Vol. 61(15), pp. 10361-10365, (2000). 

  11. Yoo Duk-yean, Kim Hyoung-ju, Kim Jun-yeong, Jo Jung-yol, "Current Variation in ZnO Thin-Film Transistor under Different Annealing Conditions," Journal of the Semiconductor & Display Technology, Vol. 13, No. 1, pp. 63-66, (2014). 

  12. Chang, S. P. et al., "Efficient suppression of charge trapping in ZnO-based transparent thin film transistors with novel Al2O3/HfO2/Al2O3 structure," Appl. Phys. Lett., Vol. 92, pp. 192104, (2008). 

  13. S. Akasaka, K. Tamura, K. Nakahara, T. Tanabe, A. Kamisawa, and M. Kawasaki1, "Transparent polymer Schottky contact for a high performance visible-blind ultraviolet photodiode based on ZnO," Appl. Phys. Lett., Vol. 93, pp. 123309, (2008). 

  14. Jung wan Ko, Bo Young Jung, Teresa Oh, "Annealing Effect with Various Ambient Conditions of ITO Thin Film," J. of The Korean Society of Semiconductor & Display Technology, Vol. 14, pp. 20-24, (2015). 

  15. Jeffrey C. K. et al.Evidence of ultra-low-k dielectric material degradation and nanostructure alteration of the Cu/ultra-low-k interconnects in time-dependent dielectric breakdown failure, Appl. Phys. Lett., Vol. 102, pp. 022908, (2013). 

  16. Sayah Lee, Yoon Seog Song, Hyun Kim, and Sang Ouk Ryu, "Characterization of ALD Processed $Al_2O_3$ / $TiO_2$ / $Al_2O_3$ Multilayer Films for Encapsulation and Barrier of OLEDs," J. of The Korean Society of Semiconductor & Display Technology, Vol. 16, pp. 1-5, (2017). 

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