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This study focuses on the effects of doping $Zn_2BiVO_6$ and $Co_3O_4$ on the sintering and electrical properties of ZnO; where, ZZ consists of 0.5 mol% $Zn_2BiVO_6$ in ZnO, and ZZCo consists of 1/3 mol% $Co_3O_4$ in ZZ. As ZnO was sintered at about $...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • ZnO를 소결할 때 Zn2BiVO6의 사용은 805℃ 부근에서 액상소결을 가능하게 할 것이며, ZnO 바리스터에서와 같이 천이금속 산화물(Co3O4, Mn3O4, Cr2O3 등)을 소량 첨가하면 바리스터 특성을 개선할 수 있는 가능성이 있을 것으로 판단되었다. 따라서 본 연구에서는 ZnO 바리스터로의 응용을 위하여 아직 연구되지 않은 새로운 액상소결 첨가제인 Zn2BiVO6를 사용하여 ZZ(0.5 mol% Zn2BiVO6-ZnO)계와 여기에 Co3O4를 1/3 mol% 첨가한 ZZCo계를 제조하고 이 두계에 대한 소결과 결함 및 전기적 특성을 살펴봄으로써 Zn2BiVO6의 역할과 계의 바리스터 응용 가능성에 대하여 고찰하였다.
  • 따라서 본 연구에서는 내부전극으로 Ag(100%) 전극을 사용할 수 있는 가능성이 있는 새로운 액상소결 첨 제를 개발하여 ZnO 바리스터에서 필요로 하는 제 특성들을 확인하고자 하였다. 이러한 필요에 따라 우선적으로 확인한 내용은 그림 1의 ZnO-BiVO4(or ZnOBi2O3-V2O5) 상태도이며, 이에 Zn2BiVO6를 선택하게 되었다 [12].
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
다결정성 ZnO 세라믹스란? 다결정성 ZnO 세라믹스는 소량의 첨가물(Bi, Sb, V, Mn, Co, Ni, Cr, Si 산화물 등)을 통하여 다양한 전자기적, 광학적 특성을 제어할 수 있어 투명 전도막(transparent conducting electrode), 스핀트로닉스 소자(spintronic device), 센서(sensor), 촉매(catalyst), 압전 트란스듀서(piezoelectric transducer), 바리스터(varistor) 등과 같이 폭 넓은 응용성을 갖는 재료이다 [1,2]. 이 가운데 ZnO 바리스터는 비선형 전류-전압 특성을 갖는 반도성 세라믹스로서 디스크나 칩 타입으로 제조하여 각종 과전압과 서지(surge)로부터 소자를 보호하는 역할을 수행한다 [2-4].
상용 ZnO 칩 바리스터에 액상 소결첨가제로 V2O5를 사용하지 못하고 있는 이유는? 원가절감 차원에서 내부전극으로 Ag(100%) 전극을 사용하기 위해 ZnO 바리스터의 소결온도를 900℃로 낮추는 연구가 진행되어 왔으나 결함과 입계의 안정성을 제어해야 하는 문제 등으로 인하여 아직까지 상용화되지 못하고 있다 [9]. 또한 액상 소결 첨가제로 V2O5를 사용하는 ZnO 바리스 터 조성계는 다양한 첨가제의 제어 연구가 진행되고 있으나 Bi-계 대비 다소 낮은 전류-전압 비선형성과 안정성 및 높은 누설전류로 인하여 아직 상용화되지 못하고 있는 실정이다 [10,11].
Bi-계가 소결한 후 조직의 변화는? 이 가운데 ZnO 바리스터는 비선형 전류-전압 특성을 갖는 반도성 세라믹스로서 디스크나 칩 타입으로 제조하여 각종 과전압과 서지(surge)로부터 소자를 보호하는 역할을 수행한다 [2-4]. 상용화 된 ZnO 바리스터 조성은 Bi2O3 또는 Pr6O11를 액상 소결 첨가제를 사용하여 소량의 천이금속 산화물(Mn3O4, Co3O4, Cr2O3 등)을 첨가한 두 종류의 계가 있으며, 여기서 Bi-계는 대략 1,000℃에서 소결하되 ZnO의 입성장을 제어하는 Sb2O3를 대부분 포함하고 있어 복잡한 상발달 과정을 포함하여 복잡한 미세구조를 형성하지만, Pr-계는 약 1,200℃에서 소결하되 다소 단순한 미세구조를 형성한다 [4-8]. 상용 ZnO 칩 바리스터를 제조하는 데 있어 내부전극은 Bi-계는 Ag/Pd=8/2 또는 7/3 비율의 전극 페이스트를 사용하고, Pr-계는 소결온도가 Bi-계 보다 높아서 고가의 Pd 또는 Pt(100%) 전극 페이스트를 사용하고 있다.
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참고문헌 (24)

  1. C. J. Jagadish and S. J. Pearton, Zinc Oxide Bulk, Thin Films and Nanostructures (Elsevier, Amsterdam, 2006) p. 17. 

  2. D. R. Clarke, J. Am. Ceram. Soc., 82, 485 (1999). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1999.tb01793.x] 

  3. T. K. Gupta, J. Am. Ceram. Soc., 73, 1817 (1990). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1990.tb05232.x] 

  4. S. Hirose, Y. Yamamoto, and H. Niimi, J. Appl. Phys., 104, 013701 (2008). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.2949262] 

  5. K. Eda, IEEE Elec. Insulation. Mag., 5, 28 (1989). [DOI: https://doi.org/10.1109/57.44606] 

  6. R. Einzinger, Ann. Rev. Mater. Sci., 17, 299 (1987). [DOI: https://doi.org/10.1146/annurev.ms.17.080187.001503] 

  7. M. Inada and M. Matsuoka, Advances in Ceramics (American Ceramic Society, Columbus, 1984) p. 91. 

  8. J. Kim, T. K. Kimura, and T. Yamaguchi, J. Am. Ceram. Soc., 72, 1390 (1989). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1989.tb07659.x] 

  9. Y. W. Hong, H. S. Shin, D. H. Yeo, and J. H. Kim, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 24, 876 (2011). 

  10. M. Mirzayi and M. H. Hekmatshoar, Physica B, 414, 50 (2013). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.physb.2013.01.020] 

  11. C. W. Nahm, J. Am. Ceram. Soc., 94, 3227 (2011). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1551-2916.2011.04812.x] 

  12. ACerS-NIST Phase Equilibria Diagrams CD-ROM Database Version 3.3, Fig. 13290 $ZnO-Bi_2O_3-V_2O_5$ phase diagram (2010). 

  13. M. Bosacka, M. Kurzawa, I. R. Himmel, and I. Szkoda, Thermochimica Acta, 428, 51 (2005). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.tca.2004.09.025] 

  14. F. Greuter and G. Blatter, Semicond. Sci. Technol., 5, 111 (1990). [DOI: https://doi.org/10.1088/0268-1242/5/2/001] 

  15. Y. W. Hong, H. S. Shin, D. H. Yeo, and J. H. Kim, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 24, 882 (2011). 

  16. K. Mukae, K. Tsuda, and I. Nagasawa, J. Appl. Phys., 50, 4475 (1979). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.326411] 

  17. L. F. Luo, Appl. Phys. Lett., 36, 570 (1980). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.91549] 

  18. A. Smith, J. F. Baumard, and P. Abelard, J. Appl. Phys., 65, 5119 (1989). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.343190] 

  19. Y. W. Hong, Y. J. Lee, S. K. Kim, J. H. Paik, and J. H. Kim, Electron. Mater. Lett., 10, 903 (2014). [DOI: https://doi.org/10.1007/s13391-014-3331-3] 

  20. F. Greuter and G. Blatter, Semicond. Sci. Technol., 5, 111 (1990). [DOI: https://doi.org/10.1088/0268-1242/5/2/001] 

  21. L. M. Levinson and H. R. Philipp, J. Appl. Phys., 47, 3116 (1976). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.323059] 

  22. H. R. Philipp, Materials Science Research, Tailoring Multiphase and Composite Ceramics (eds. R. E. Tressler, G. L. Messing, C. G. Pantano, and R. E. Newnham) (Prenum Press, New York/London, 1987) p. 481. 

  23. B. S. Chiou and M. C. Chung, J. Electron. Mater., 20, 885 (1991). [DOI: https://doi.org/10.1007/BF02665979] 

  24. Y. W. Hong, Y. J. Lee, S. K. Kim, and J. H. Kim, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 26, 38 (2013). 

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