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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.31 no.3, 2018년, pp.177 - 181
이차란 (청주대학교 에너지융합학과) , 김제하 (청주대학교 에너지융합학과)
We prepared ZnS thin films via chemical bath deposition (CBD) in an aqueous solution of ammonia (
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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ZnS 박막이 여러 가지 광전소자 응용에 활용되고 있는 이유는 무엇인가? | ZnS 박막은 큰 직접천이 밴드갭과 n-형 전도성을 갖고 있기 때문에 태양전지 [1], light emitting diodes [2] 등 여러 가지 광전소자 응용에 다양하게 활용되고있다. 그 제작 방법으로는 스퍼터링 [3], atomic layer deposition (ALD) [4], spray pyrolysis [5], chemical bath deposition (CBD) [6-8], 등 다양한 방법이 이용되고 있다. | |
CBD 방법의 특징은 무엇인가? | 그 제작 방법으로는 스퍼터링 [3], atomic layer deposition (ALD) [4], spray pyrolysis [5], chemical bath deposition (CBD) [6-8], 등 다양한 방법이 이용되고 있다. 이 중 CBD 방법은 일반적으로 대면적에반도체를 성막할 수 있는 저온에서 용액 성막할 수 있는 가장 단순하고 경제적인 기술로서 널리 알려져 있다. 박막 성장은 기판을 금속이온(metal ions)과 칼코젠원료(chalcogenide source)가 포함된 착화제(complex agent) 수용액 (aqueous solution) 속에서 이루어진다. | |
ZnS 박막의 제작 방법에는 무엇이 있는가? | ZnS 박막은 큰 직접천이 밴드갭과 n-형 전도성을 갖고 있기 때문에 태양전지 [1], light emitting diodes [2] 등 여러 가지 광전소자 응용에 다양하게 활용되고있다. 그 제작 방법으로는 스퍼터링 [3], atomic layer deposition (ALD) [4], spray pyrolysis [5], chemical bath deposition (CBD) [6-8], 등 다양한 방법이 이용되고 있다. 이 중 CBD 방법은 일반적으로 대면적에반도체를 성막할 수 있는 저온에서 용액 성막할 수 있는 가장 단순하고 경제적인 기술로서 널리 알려져 있다. |
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