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투명 유연 박막 트랜지스터의 구현을 위한 열처리된 산화아연 박막의 전사방법 개발
Transfer of Heat-treated ZnO Thin-film Plastic Substrates for Transparent and Flexible Thin-film Transistors 원문보기

Journal of sensor science and technology = 센서학회지, v.27 no.3, 2018년, pp.182 - 185  

권순열 (경북대학교 전자공학부) ,  정동건 (경북대학교 전자공학부) ,  최영찬 (경북대학교 전자공학부) ,  이재용 (경북대학교 전자공학부) ,  공성호 (경북대학교 전자공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Zinc oxide (ZnO) thin films have the advantages of growing at a low temperature and obtaining high charge mobility (carrier mobility) [1]. Furthermore, the zinc oxide thin film can be used to control application resistance depending on its oxygen content. ZnO has the desired physical properties, a t...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구에서는 연마된 구리 기판 용액에 용액공정을 통해 산화아연 박막을 제작 한 후 열처리 과정을 통해 결정성을 향상시키고, 열처리가 끝난 후에 유연 기판 위로 전사 하는 연구를 진행 하였다.
  • 본 연구에서는 연마된 구리 기판 위에 용액공정을 통해 산화아연 박막을 제작한 후 열처리 과정을 통해 결정성을 향상시키고, 열처리가 끝난 후에 유연 기판 위로 전사하는 연구를 진행하였다. 실험은 용액공정을 이용하여 산화 아연 박막을 제작하였고, 열처리에 따른 구조적 변화를 확인 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
용액공정을 통해 제작된 박막 트랜지스터의 문제점은? 이러한 투명 유연 박막 트랜지스터는 다양한 방법으로 제작이 가능하지만 용액공정을 통한 제작은 저비용에 대면적의 제작이 용이하며 낮은 온도에서 공정이 가능하다는 장점으로 인해 유연한 기판에 적용 가능한 방법으로 각광받고 있다. 하지만 용액공정을 통해 제작된 박막 트랜지스터의 경우 전하 이동도가 낮다고 보고되고 있다[7,8]. 이를 개선하기 위해서 열처리를 통해 결정성을 향상시키고 전자 이동도를 증가시키는 방법이 보고 된 바 있지만 열처리 온도가 500oC 로 비교적 높기 때문에 유연 기판에 적용하기에는 적합하지 않다.
산화아연(ZnO)박막의 장점은? 유연하고 투명한 플라스틱 기판의 전자소자에 대한 산화아연 박막 트랜지스터는 최근 경량화, 저비용, 고효율, 투명성 및 유연성을 위해 많은 주목을 받고 있다[1]. 산화아연(ZnO)박막은 낮은온도에서성장이가능하며높은전하이동도 (carrier mobility)를 얻을 수 있는 장점을 가지고 있다. 또한, 산화아연박막은 산소함량에 따라 저항을 제어 할 수 있기 때문에 원하는 물성을 얻기에 매우 용이하게 사용되며 투명한 성질은 투명 유연 디스플레이의 박막 트랜지스터로 응용을 할 수 있다는 장점을 지닌다[2,3].
산화아연박막의 단점은? 또한, 산화아연박막은 산소함량에 따라 저항을 제어 할 수 있기 때문에 원하는 물성을 얻기에 매우 용이하게 사용되며 투명한 성질은 투명 유연 디스플레이의 박막 트랜지스터로 응용을 할 수 있다는 장점을 지닌다[2,3]. 그러나 용액 처리 ZnO thin film transistors (TFTs)의 병목 현상은 낮은 캐리어 이동성이라는 것이 널리 알려져 있다. 이 문제를 극복하기 위해 다양한 금속으로 금속 산화물을 도핑하는 것과 관련된 막대한 노력과 연구가 진행 되어 왔고 진행되고 있다[4-6].
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참고문헌 (9)

  1. K. Song, J. Noh, T. Jun, Y. Jung, H.-Y. Kang, and J. Moon, "Flexible solution-deposited ZnO thin-film transistors", Adv. Mater., Vol. 22(38), pp. 4308-4312, 2010. 

  2. A. R. Brown, C. P. Jarrett, D. M. de Leeuw, M. Matters, "Field-effect Transistors made from solution-process organic semiconductors", Synth. Met., Vol. 88(1), pp. 37-55, 1997. 

  3. C. R. Kagan, D. B. Mitzi, C. D. Dimitrakopoulos, "Organic-inorganic hybrid materials as semiconducting channels in thin-film field-effect transistors", Science., Vol. 286(5441), pp. 945-947, 1999. 

  4. G. Adamopoulos, A. Bashir, S. Thomas, W. P. Gillin, S. Georgakopoulos, M. Shkunov, M. A. Baklar, N. Stingelin, R. C. Maher, L. F. Cohen, D. D. C. Bradley, and T. D. Anthopoulos, "High-mobility low-voltage ZnO and Li-doped ZnO transistors based on ZrO2 high-k dielectric grown by spray pyrolysis in ambient air", Adv. Mater., Vol. 23(16), pp. 1894-1898, 2011. 

  5. G. Adamopoulos, S. Thomas, P. H. Wobkenberg, D. D. C. Bradley, M. A. McLachlan, and T. D. Anthopoulos, "High-mobility low-voltage ZnO and Li-doped ZnO transistors based on ZrO2 high-k dielectric grown by spray pyrolysis in ambient air", Adv. Mater., Vol. 23(16), pp. 1894-1898, 2011. 

  6. S. Y. Park, K. Kim, K.-H. Lim, B. J. Kim, E. Lee, J. H. Cho, and Y. S. Kim, "The structural, optical, and electrical characterization of highperformance, low- temperature and solution-processed alkali metal-doped ZnO TFTs", J. Mater. Chem. C, Vol. 1(7), pp. 1383-1391, 2013. 

  7. R. R. Nair, P. Blake, A. N. Grigorenko, K. S. Novoselov, T. J. Booth, T. Stauber, N. M. R. Pere, and A. K. Geim, "Fine structure constant defines visual transparency of graphene", Science, Vol. 320(5881), pp. 1308-1308, 2008. 

  8. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, and B. H. Hong, "Large-scale pattern growth of graphene films for stretchable transparent electrodes", Nature, Vol. 457(7230), pp. 706-710, 2009. 

  9. Yutaca Ohya, Tsukas Niwa, Takayuki Ban , and Yasutaka Takahashi, "Thin film transistor of ZnO fabricated by chemical solution deposition", Jpn.J.Appl.Phys., Vol. 40(1), pp. 297-298, 2001. 

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