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This study introduces a new investigation report on the microstructural and electrical property changes of $ZnO-Zn_2BiVO_6-Mn_3O_4$ (ZZMn), where 0.33 mol% of $Mn_3O_4$ and 0.5 mol% of $Zn_2BiVO_6$ were added to ZnO (99.17 mol%) as liquid phase sintering aids. $...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 다만 이러한 기공의 존재가 신뢰성 측면에서 어떠한 영향을 미치는지는 아직 정량적으로 보고된 바가 없어 여기서는 현상학적인 면만 제시하였다. 따라서 ZZMn의 미세구조는 전형적인 Bi-ZnO계와 ZZCo(ZnO-Zn2BiVO6- Co3O4)계 바리스터가 갖는 미세구조와 거의 동일하며, Bi2O3-rich 상의 역할과 동일한 기능을 수행하는 것으로 판단된다 [1-7,9].
  • Bi-계 ZnO 칩 바리스터는 대략 1,000℃에서 소결하기 때문에 Ag/Pd=8/2 또는 7/3 비율의 내부전극을 사용하며 ZnO의 입성장을 제어할 목적으로 Sb2O3를 포함하고 있어 복잡한 상 발달 과정과 함께 복잡한 미세구조를 형성하는 반면, Pr-계는 ~1,200℃에서 소결하므로 100% Pd 내부전극을 사용하며 보다 단순한 미세구조를 형성하고 보다 낮은 항복 전압에서 ESD 내성이 Bi계보다 우수한 장점이 있다 [7,8]. 본 연구진에서는 원가 절감 차원에서 내부전극으로 Ag (100%) 전극을 사용하기 위해 ZnO 바리스터의 소결온도를 900℃로 낮추는 연구를 진행하는 중 새로운 액상소결 조제로 Zn2BiVO6를 합성한 후 이에 대한 연구를 진행하여 기존의 Bi2O3나 Pr6O11 또는 V2O5를 충분히 대체시킬 수 있음을 확인하고 이에 Co3O4를 첨가하여 우수한 바리스터 특성을 확보한 결과를 보고하였다 [9,10]. 일반적으로 ZnO 바리스터에서 전류-전압 비선형성을 높이는 대표적인 첨가제로 Co3O4와 Mn3O4가 있으며, 이에 본 연구에서는 ZnO-Zn2BiVO6에 Mn3O4를 일정량 첨가한 3성분계에 대한 연구를 진행하여 Mn의 첨가효과를 소결과 전기적 특성 측면에서 살펴보았다.
  • 본 연구진에서는 원가 절감 차원에서 내부전극으로 Ag (100%) 전극을 사용하기 위해 ZnO 바리스터의 소결온도를 900℃로 낮추는 연구를 진행하는 중 새로운 액상소결 조제로 Zn2BiVO6를 합성한 후 이에 대한 연구를 진행하여 기존의 Bi2O3나 Pr6O11 또는 V2O5를 충분히 대체시킬 수 있음을 확인하고 이에 Co3O4를 첨가하여 우수한 바리스터 특성을 확보한 결과를 보고하였다 [9,10]. 일반적으로 ZnO 바리스터에서 전류-전압 비선형성을 높이는 대표적인 첨가제로 Co3O4와 Mn3O4가 있으며, 이에 본 연구에서는 ZnO-Zn2BiVO6에 Mn3O4를 일정량 첨가한 3성분계에 대한 연구를 진행하여 Mn의 첨가효과를 소결과 전기적 특성 측면에서 살펴보았다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
ZnO 바리스터가 다양한 분야에서 응용될 수 있는 이유는? 다양한 전자기기의 사용과 더불어 기기를 정전기(ESD)나 과전압 또는 각종 서지(surge)로부터 보호해야 하는 역할이 중요해졌으며, 이를 위한 제품으로 비선형 전류-전압 특성을 가지는 TVS 다이오드나 ZnO 바리스터가 사용되고 있다 [1-6]. 특히 ZnO 바리스터는 0402 mm 칩 크기에서부터 송배전용 디스크까지 다양한 크기로 제조할 수 있을 뿐 아니라 TVS 다이오드보다 제조단가가 낮기 때문에 다양한 분야에서 응용되고 있다 [1-6]. 제품화된 ZnO 바리스터는 Bi2O3 또는 Pr6O11를 액상 소결 조제로 하여 소량의 천이금속 산화물(Mn3O4, Co3O4, NiO, Cr2O3 등)을 첨가한 두 종류의 조성계가 있다.
ZnO 바리스터 중 Bi-계와 비교했을때 Pr-계의 장점은? 제품화된 ZnO 바리스터는 Bi2O3 또는 Pr6O11를 액상 소결 조제로 하여 소량의 천이금속 산화물(Mn3O4, Co3O4, NiO, Cr2O3 등)을 첨가한 두 종류의 조성계가 있다. Bi-계 ZnO 칩 바리스터는 대략 1,000℃에서 소결하기 때문에 Ag/Pd=8/2 또는 7/3 비율의 내부전극을 사용하며 ZnO의 입성장을 제어할 목적으로 Sb2O3를 포함하고 있어 복잡한 상 발달 과정과 함께 복잡한 미세구조를 형성하는 반면, Pr-계는 ~1,200℃에서 소결하므로 100% Pd 내부전극을 사용하며 보다 단순한 미세구조를 형성하고 보다 낮은 항복 전압에서 ESD 내성이 Bi계보다 우수한 장점이 있다 [7,8]. 본 연구진에서는 원가 절감 차원에서 내부전극으로 Ag (100%) 전극을 사용하기 위해 ZnO 바리스터의 소결온도를 900℃로 낮추는 연구를 진행하는 중 새로운 액상소결 조제로 Zn2BiVO6를 합성한 후 이에 대한 연구를 진행하여 기존의 Bi2O3나 Pr6O11 또는 V2O5를 충분히 대체시킬 수 있음을 확인하고 이에 Co3O4를 첨가하여 우수한 바리스터 특성을 확보한 결과를 보고하였다 [9,10].
ZnO 바리스터에 어떤 천이금속 산화물을 첨가하는가? 특히 ZnO 바리스터는 0402 mm 칩 크기에서부터 송배전용 디스크까지 다양한 크기로 제조할 수 있을 뿐 아니라 TVS 다이오드보다 제조단가가 낮기 때문에 다양한 분야에서 응용되고 있다 [1-6]. 제품화된 ZnO 바리스터는 Bi2O3 또는 Pr6O11를 액상 소결 조제로 하여 소량의 천이금속 산화물(Mn3O4, Co3O4, NiO, Cr2O3 등)을 첨가한 두 종류의 조성계가 있다. Bi-계 ZnO 칩 바리스터는 대략 1,000℃에서 소결하기 때문에 Ag/Pd=8/2 또는 7/3 비율의 내부전극을 사용하며 ZnO의 입성장을 제어할 목적으로 Sb2O3를 포함하고 있어 복잡한 상 발달 과정과 함께 복잡한 미세구조를 형성하는 반면, Pr-계는 ~1,200℃에서 소결하므로 100% Pd 내부전극을 사용하며 보다 단순한 미세구조를 형성하고 보다 낮은 항복 전압에서 ESD 내성이 Bi계보다 우수한 장점이 있다 [7,8].
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참고문헌 (16)

  1. P. R. Bueno, J. A. Varela, and E. Longo, J. Eur. Ceram. Soc., 28, 505 (2008). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc. 2007.06.011] 

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  3. T. K. Gupta, J. Am. Ceram. Soc., 73, 1817 (1990). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1990.tb05232.x] 

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  9. Y. W. Hong, Y. B. Kim, J. H. Paik, J. H. Cho, Y. H. Jeong, J. S. Yun, and W. I. Park, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 30, 74 (2017). [DOI: https://doi.org/10.4313/JKEM. 2017.30.2.74] 

  10. Y. W. Hong, Y. B. Kim, J. H. Paik, J. H. Cho, Y. H. Jeong, J. S. Yun, and W. I. Park, J. Sens. Sci. Technol., 25, 440 (2016). [DOI: https://doi.org/10.5369/JSST.2016.25.6.440] 

  11. M. I. Mendelson, J. Am. Ceram. Soc., 52, 443 (1969). [DOI: https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1969.tb11975.x] 

  12. A. R. West and M. Andres-Verges, J. Electroceram., 1, 125 (1997). [DOI: https://doi.org/10.1023/A:1009906315725] 

  13. F. Greuter and G. Blatter, Semicond. Sci. Technol., 5, 111 (1990). [DOI: https://doi.org/10.1088/0268-1242/5/2/001] 

  14. Y. W. Hong, H. S. Shin, D. H. Yeo, J. H. Kim, and J. H. Kim, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 21, 738 (2008). [DOI: https://doi.org/10.4313/JKEM.2008.21.8.738] 

  15. X. Zhao, J. Li, H. Li, and S. Li, J. Appl. Phys., 111, 124106 (2012). [DOI: https://doi.org/10.1063/1.4729804] 

  16. Y. W. Hong and J. H. Kim, Ceram. Int., 30, 1307 (2004). [DOI: https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2003.12.026] 

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