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NTIS 바로가기청정기술 = Clean technology, v.24 no.3, 2018년, pp.175 - 182
이기성 (서울과학기술대학교 나노IT융합대학원) , 이재원 (중원대학교 항공재료 공학과) , 김용성 (서울과학기술대학교 나노IT융합대학원)
In this research, we investigated the cleanliness by optimizing the water content of the aqueous stripper in fluidic strip process. The stripping properties of the photoresist with optimized aqueous stripper were compared with the commercial organic stripper. The stripping performance was evaluated ...
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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유기화합물을 박리하기위해 쓰이는 유기용매로 어떤 박리제를 사용하는가? | 감광액은 대부분 페놀(크레졸)-포름알데히드 수지, 폴리스티렌수지 등의 수지성분과 용매로 아세테이트, 케톤, 방향족 화합물 등의 유기화합물로 이루어져 있다[3]. 이러한 유기화합물을 박리하기 위해 유기용매로서 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피로리톤, 이에틸렌글리콜 모노부틸에테르, N,N-디메틸아세트아미드, 디프로필렌글리콜 모노부틸에테르 및 디프로필렌글리코 모노 메틸에테르 등이 함유된 박리제가 사용된다. 하지만 이러한 박리제의 성분들은 환경에 매우 유해하다[4]. | |
감광액은 무엇으로 이루어져 있는가? | 박리액의 박리 능력은 감광액과 박리제의 화학적 관계에 매우 밀접한 관련이 있다. 감광액은 대부분 페놀(크레졸)-포름알데히드 수지, 폴리스티렌수지 등의 수지성분과 용매로 아세테이트, 케톤, 방향족 화합물 등의 유기화합물로 이루어져 있다[3]. 이러한 유기화합물을 박리하기 위해 유기용매로서 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피로리톤, 이에틸렌글리콜 모노부틸에테르, N,N-디메틸아세트아미드, 디프로필렌글리콜 모노부틸에테르 및 디프로필렌글리코 모노 메틸에테르 등이 함유된 박리제가 사용된다. | |
포토리소그래피(Photo-lithography) 공정에서 주로 사용되는 재료는 무엇인가? | 특히 포토리소그래피(Photo-lithography) 공정은 디스플레이 소자 제작에서 기판위에 원하는 방식의 패턴을 형성하기 위해 필수적이다[2]. 이 공정에서 가장 많이 사용되는 재료는 감광제(photoresist, PR)와 이 감광제를 박리하기 위해 사용되는 박리액이다. 특히 감광제를 박리하기 위해 사용되는 박리액의 사용량은 감광제에 비해 체적비로 수천배 이상으로 많이 사용 된다. |
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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