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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.29 no.12, 2019년, pp.804 - 811
최홍균 (공주대학교 신소재공학부)
As the importance of three-dimensiona (3D) nano patterns and structures has recently emerged, interest in the study of 3D structures of block copolymers has increased. However, most existing studies on block copolymer 3D patterns on substrates are limited to simple 3D structures such as a multi-laye...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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directed self-assembly(DSA)기술이란? | 특히 블록공중합체는 경제적인 비용으로 기존 포토리소그라피 방법으로는 달성하기 어려운 미세 나노패턴의 제작이 가능하기 때문에 미세 패턴을 잘 제어한다면 기존의 포토리소그라피 방법의 해상도 한계를 극복하는 차세대 리소그라피로 활용 가능성이 있다.9) 이에 따라 주형(template)를 이용한 블록공중합체 미세 패턴의 제어 방법인 directed self-assembly(DSA)기술이 제시되어 최근 십여 년간 이 분야에 집중적인 연구가 이루어져왔다. 4,9–11) 그 동안 DSA를 이용한 블록 공중합체 나노패턴에 관한 연구는 반도체 소자의 패턴 형상에 맞게 평면(기판)에서의 라인, 닷 패턴 등 2차원 패턴 형성에 초점을 맞추어 이루어져왔다. | |
블록공중합체의 장점은? | 블록공중합체는 미세 상분리를 통해 다양한 형태의 나노패턴 및 나노 구조를 제조할 수 있는 장점으로 인해 그 동안 에너지 소자,1,2) 전자 소자,3,4) 플라즈모닉 센서5,6) 및 멤브레인 필터7,8) 등 여러 분야에 다양하게 적용되어 연구되어왔다. 특히 블록공중합체는 경제적인 비용으로 기존 포토리소그라피 방법으로는 달성하기 어려운 미세 나노패턴의 제작이 가능하기 때문에 미세 패턴을 잘 제어한다면 기존의 포토리소그라피 방법의 해상도 한계를 극복하는 차세대 리소그라피로 활용 가능성이 있다. | |
DSA를 이용한 블록 공중합체 나노패턴에 관한 연구는 반도체 소자의 패턴 형상에 맞게 평면(기판)에서의 라인, 닷 패턴 등 2차원 패턴 형성에 초점을 맞추었지만 물리적 한계가 가까워짐에 따라 이를 극복하기 위한 방법으로 무엇이 도입되었나?? | 4,9–11) 그 동안 DSA를 이용한 블록 공중합체 나노패턴에 관한 연구는 반도체 소자의 패턴 형상에 맞게 평면(기판)에서의 라인, 닷 패턴 등 2차원 패턴 형성에 초점을 맞추어 이루어져왔다. 하지만 선폭을 줄이는 방법을 통한 2차원 패턴의 집적도 향상이 물리적 한계에 가까워짐에 따라 반도체 업체에서는 이를 극복하기 위해 3D NAND, FinFET 등 3차원 구조를 소자 공정에 응용하여 집적도를 높이는 3차원 설계를 도입하였고 향후 3차원 구조의 소자는 더욱 다양하게 응용 및 발전될 것이다. 이에 따라 DSA 의 차세대 리소그라피 공정으로써 응용가능성을 높이기 위해서 블록공중합체의 3차원 패턴에 관련 연구의 필요성이 크게 대두되고 있다. |
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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