[논문]디스플레이용 유리의 눈부심 현상 억제를 위한 표면 에칭 및 돌기 형성에 관한 연구

우희수; 강승구

doi:10.6111/jkcgct.2020.30.6.251

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디스플레이용 유리를 통해 문자나 이미지를 뚜렷하고 빠르게 인식하기 위해서는 유리의 눈부심 현상(glare)을 억제해야 한다. 본 연구 연구에서는 에칭공정을 통해 유리 표면 형상 및 광학 특성 변화를 분석하여 눈부심 현상을 낮추고자 하였다. 에칭 공정은 에칭 용액인 BOE 및 HF의 농도를 변수로 수행하였다. 에칭과정에서 유리 표면에 F 이온이 포함된 화합물이 생성되어 돌기(projection) 형태로 불규칙한 패턴을 형성되었고, 이로 인해 유리의 광학적 특성이 변화되었다; 반사율은 2.5~4.6 %, 탁도는 4.5~6.6 %, 투과율은 77~9 2 %, 그리고 광택도는 82~107 GU 범위. 그 결과 유리의 눈부심 현상을 억제하면서도 다른 광학적 특성의 손실을 최소화하는 에칭 조건을 확보하였다.

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In order to quickly and clearly recognize characters or images through display glass, glare of the glass must be suppressed. In this study, we tried to reduce glare by analyzing changes in glass surface shape and optical properties through etching process. The etching process was performed as a func...

In order to quickly and clearly recognize characters or images through display glass, glare of the glass must be suppressed. In this study, we tried to reduce glare by analyzing changes in glass surface shape and optical properties through etching process. The etching process was performed as a function of concentrations of the etching solutions, BOE and HF. During the etching process, a compound containing F ion was generated on the surface of the glass, forming an irregular pattern in the form of a projection, and thus various optical properties of the glass were changed; reflectance of 2.5~4.6 %, haze of 4.5~6.6 %, transmittance of 77~92 %, and gloss of 82~107 GU. As a result, optimum etching condition was obtained to minimize the loss of other optical properties while suppressing glare of the glass.

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표 Table 1 Result of XRF for glass substrate
표 Table 2 Etching process parameters for 2 methods
그림 Fig. 1. Optical properties of glass etched by "Method I" as a function of BOE solution concentrations in pre-etching process: (a) reflectance (b) haze (c) transmittance, and (d) gloss.
그림 Fig. 2. Optical properties of glass etched by "Method II" as a function of HF solution concentrations in post-etching process: (a) reflectance (b) haze (c) transmittance, and (d) gloss.
그림 Fig. 3. Optical microscope analysis of glass surface etched by "Method I" as a function of BOE solution concentrations in pre-etching process (x200).
그림 Fig. 4. Optical microscope analysis of glass surface etched by "Method II" as a function of HF solution concentrations: (a) 1 %, (b) 3%, and (c) 5%. SEM image of 5% specimen is shown in (d). Magnification rate is 200 times for (a)~(c), and is 1,000 times for (d).
그림 Fig. 5. XRD analysis of glass etched by "Method I" as a function of BOE solution concentrations.
그림 Fig. 6. XRD analysis of glass etched by "Method II" as a function of HF solution concentrations.

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