[논문]Characterisation of thin amorphous silicon films with multiple internal reflectance spectroscopy

Fameli, G.; Della Sala, D.; Roca, F.; Gerardi, C.

doi:10.1016/0022-3093(95)00660-5

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[해외논문] Characterisation of thin amorphous silicon films with multiple internal reflectance spectroscopy

Journal of non-crystalline solids, v.198/200 pt.1, 1996년, pp.69 - 72

Fameli, G. (Centro Ricerche ENEA, Località) , Della Sala, D. (Granatello, 80055 Portici, Italy) , Roca, F. (Corresponding author. Tel.: + 39-81 772 3232) , Gerardi, C. (fax: + 39-81 776 6902)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractInfrared multiple internal reflection spectroscopy has been applied to the characterisation (ex situ) of thin amorphous silicon layers on crystalline silicon substrates. The specimens are tightly clamped against a Ge-prism with a 45° bevel angle for the entrance and exit sides, allowing for 25 multiple internal reflections. The stretching bands of SiHn bonds in amorphous Si are detected over a range of film thickness from 3 to 600 nm. Very thin films (with thickness less than 50 nm) exhibit different hydrogen bonding compared to the thicker ones, due to sublayers with different bonding configurations.

참고문헌 (11)

Appl. Phys. Lett. Blayo 57 786 1990 10.1063/1.103420

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Philos. Mag. Hasegawa B46 239 1982 10.1080/13642818208246437

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Philos. Mag. Hasegawa B49 511 1984 10.1080/13642818408227659

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Appl. Phys. Lett. Toyoshima 56 1540 1990 10.1063/1.103168

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J. Non-Cryst. Solids Collins 114 160 1989 10.1016/0022-3093(89)90099-9

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Appl. Phys. Lett. Higashi 56 656 1990 10.1063/1.102728

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Phys. Rev. Brodsky B16 3556 1977 10.1103/PhysRevB.16.3556

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Solid State Commun. Lucovsky 29 571 1979 10.1016/0038-1098(79)90666-5

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Phys. Status Solidi (a) Shi 74 329 1982 10.1002/pssa.2210740140

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J. Non-Cryst. Solids Maley 114 163 1989 10.1016/0022-3093(89)90100-2

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Semicond. Int. Kember 29 1985

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