[논문]Monitoring the deposition of Cu thin film using the double exposure holographic interferometry technique

doi:10.1016/S0040-6090(96)09599-5

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[해외논문] Monitoring the deposition of Cu thin film using the double exposure holographic interferometry technique

Thin solid films, v.301 no.1/2, 1997년, pp.62 - 64

Dongre, M.B (Corresponding author.) , Fulari, V.J (Holographic Laboratory, Department of Physics, Shivaji University, Kolhapur 416004, India) , Kulkarni, H.R (Holographic Laboratory, Department of Physics, Shivaji University, Kolhapur 416004, India)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractThe double exposure holographic interferometry (DEHI) technique is used to study the surface deformation of stainless steel plate when Cu is deposited onto it using the electrodeposition method. Cu(NO3)2 solutions of different normalities were used for deposition and the steel plate was exposed for different intervals of time. It is observed that the fringe spacing changes with the concentration of the solution as well as the time of deposition. This effect is due to the increase in thickness of Cu films. An attempt has been made to measure the thickness and mass of deposited films by DEHI technique.

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참고문헌 (7)

10.1063/1.1754388 R.J. Collier, E.T. Dohetry, K.S. Pennigton, Appl. Phys. Lett. 7 (1965) 223.

상세보기
10.1364/AO.5.000595 K.A. Haines, B.P. Hildebrand, Appl. Opt. 5 (1966) 595.

상세보기
10.1016/B978-0-12-181050-4.50022-6 R.J. Collier, C.B. Burckhardt, L.H. Lin, Optical Holography, Academic, New York, 1971, p. 423.
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10.1016/0031-9163(66)90820-1 H. Nassenstein, Phys. Lett. 21 (1966) 290.

상세보기
S.H. Pawar, V.N. Shinde, International Conference on Energy, Environment and Electrochemistry, Karaikudi, 1993.
E. Maron, E. Friesem, A. Weiner-Avnear (Eds.), Applications of Holography and Optical Data Processing, Proceeding of the International Conference, Jerusalem, Avg 2: 26 (1976) Pergamon Press, 1977, p. 287.

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