[논문]Control of the radio-frequency wave form at the chuck of an industrial oxide-etch reactor

Berry, Lee; Maynard, Helen; Miller, Paul; Moore, Tony; Pendley, Michael; Resta, Victoria; Sparks, Dennis; Yang, Qingyun

doi:10.1116/1.1319819

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[해외논문] Control of the radio-frequency wave form at the chuck of an industrial oxide-etch reactor

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, v.18 no.6, 2000년, pp.2806 - 2814

Berry, Lee (Oak Ridge National Laboratory, Box 2009, Oak Ridge, Tennessee 37831) , Maynard, Helen (Bell Laboratories, Lucent Technologies, 700 Mountain Avenue, Murray Hill, New Jersey 07974) , Miller, Paul (Sandia National Laboratories, Box 5800, Albuquerque, New Mexico 87185-1423) , Moore, Tony (Oak Ridge National Laboratory, Box 2009, Oak Ridge, Tennessee 37831) , Pendley, Michael (International SEMATECH, 2706 Montopolis Drive, Austin, Texas 78741) , Resta, Victoria (International SEMATECH, 2706 Montopolis Drive, Austin, Texas 78741) , Sparks, Dennis (Oak Ridge National Laboratory, Box 2009, Oak Ridge, Tennessee 37831) , Yang, Qingyun (International SEMATECH, 2706 Montopolis Drive, Austin, Texas 78741)

Abstract ▼ AI-Helper

Radio frequency (rf) power is commonly applied to the chuck of a high-density plasma reactor in order to extract ions and to control the energy of the ions used for the fabrication of microelectronic devices. In many cases, the temporal shape of the rf wave form largely determines the shape of the spectrum of those extracted ions, thereby strongly affecting feature evolution. Using auxiliary rf circuits, we successfully made major changes to the rf-potential wave form at the chuck of an Applied Materials 5300 HDP Omega reactor without affecting the normal functioning of the reactor’s control systems. This work established the practical feasibility of techniques for modifying the ion energy distribution functions of industrial reactors.

참고문헌 (11)

J. Appl. Phys. 85 3966 1999 10.1063/1.370298

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J. Vac. Sci. Technol. A 15 1881 1997 10.1116/1.580655

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J. Vac. Sci. Technol. A 17 26 1999 10.1116/1.582108

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J. Appl. Phys. 82 3689 1997 10.1063/1.365732

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J. Appl. Phys. 88 643 2000 10.1063/1.373715

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Proc. SPIE 1594 179 1992 10.1117/12.56631
J. Appl. Phys. 71 1171 1992 10.1063/1.351283

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J. Vac. Sci. Technol. A 12 323 1994 10.1116/1.578876

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Appl. Phys. Lett. 68 10 1996 10.1063/1.116772

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