[논문]Large-area MEMS fabrication with thick SU-8 photoresist applied to an x-ray image sensor array [4174-02]

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[해외논문] Large-area MEMS fabrication with thick SU-8 photoresist applied to an x-ray image sensor array [4174-02]

Proceedings of SPIE--the international society for optical engineering, v.4174, 2000년, pp.40 - 48

Daniel, J. H. , Krusor, B. S. , Apte, R. B. , Street, R. A. , Goredema, A. , McCallum, J. , Boils-Boissier, D. C. , Kazmaier, P. M.

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