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[해외논문] Feasibility of very low k1(= 0.31) KrF lithography [4181-05]
Proceedings of SPIE--the international society for optical engineering, v.4181, 2000년, pp.17 - 24
Kim, I.-S. , Kim, B.-S. , Lee, J.-H. , Cho, H.-K. , Moon, J.-T.
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