[논문]Influence of sputtering power and the substrate–target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering

doi:10.1016/S0040-6090(00)01291-8

[해외논문] Influence of sputtering power and the substrate–target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering

Thin solid films, v.377/378, 2000년, pp.557 - 561

Gao, Pengtao (Departamento de Fisica, Universidade do Minho, 4710 Braga, Portugal) , Meng, L.J (Departamento de Fisica, Instituto Superior de Engenharia do Porto, Rua de Sã) , dos Santos, M.P (o Tomé) , Teixeira, V (, 4200 Porto, Portugal) , Andritschky, M (Departamento de Fisica, Universidade do Minho, 4710 Braga, Portugal)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractZrO2 films have been prepared by RF reactive sputtering using different substrate–target distances and RF powers. The films have been characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and optical spectroscopy. Both monoclinic and tetragonal phases have been found in the films. All the films show a random orientation. The crystallite size increases as the substrate–target distance decreases and the RF power increases. It has been found that the residual stress of the films is mainly caused by the intrinsic stress. Also, the influence of substrate–target distance and RF power on the optical properties of the films has been discussed.

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참고문헌 (24)

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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