[논문]Influence of sputtering power and the substrate–target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering

doi:10.1016/S0040-6090(00)01291-8

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[해외논문] Influence of sputtering power and the substrate–target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering

Thin solid films, v.377/378, 2000년, pp.557 - 561

Gao, Pengtao (Departamento de Fisica, Universidade do Minho, 4710 Braga, Portugal) , Meng, L.J (Departamento de Fisica, Instituto Superior de Engenharia do Porto, Rua de Sã) , dos Santos, M.P (o Tomé) , Teixeira, V (, 4200 Porto, Portugal) , Andritschky, M (Departamento de Fisica, Universidade do Minho, 4710 Braga, Portugal)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractZrO2 films have been prepared by RF reactive sputtering using different substrate–target distances and RF powers. The films have been characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and optical spectroscopy. Both monoclinic and tetragonal phases have been found in the films. All the films show a random orientation. The crystallite size increases as the substrate–target distance decreases and the RF power increases. It has been found that the residual stress of the films is mainly caused by the intrinsic stress. Also, the influence of substrate–target distance and RF power on the optical properties of the films has been discussed.

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참고문헌 (24)

Thin Solid Films Lubig 217 1992 10.1016/0040-6090(92)90617-K

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Mater. Sci. Eng. B Ben Amora 57 30 1998
Thin Solid Films Kim 254 33 1995 10.1016/0040-6090(94)06274-O

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Thin Solid Films Guinebretiere 319 197 1998 10.1016/S0040-6090(97)01121-8

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Thin Solid Films Iwamoto 153 233 1987 10.1016/0040-6090(87)90185-4

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Thin Solid Films Ghanashy Krishna 193/194 690 1990 10.1016/0040-6090(90)90220-8

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Thin Solid Films Bonlonz 323 946 1998
Phys. Rev. E Ronnow 54 4021 1996 10.1103/PhysRevE.54.4021

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Thin Solid Films Krishna 207 248 1992 10.1016/0040-6090(92)90132-U

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Nucl. Instr. Methods Phys. Res. B Sikola 1/4 673 1999
Surf. Coat. Technol. Gottmann 100/101 411 1998 10.1016/S0257-8972(97)00661-0

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Thin Solid Films Meher 308/309 673 1997
Thin Slid Films Brenier 338 136 1999 10.1016/S0040-6090(98)01092-X

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P.T. Gao, L.J. Meng, M.P. Santos, V. Teixeira, M. Andritschky, Vacuum, in press.
Cullity 1978 Elements of X-Ray Diffraction
Noyan 1978 Residual Stress
High Temp. High Pressures Teixeira 25 213 1993
Vacuum Andritschky 45 1047 1994 10.1016/0042-207X(94)90019-1

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J. Phys. E Swanepoel 16 1214 1983 10.1088/0022-3735/16/12/023

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Teixeira 1993 Master thesis
Stevens 1986 Zirconia and Zirconia Ceramics
Phys. Rev. B Balzaretti 52 9266 1995 10.1103/PhysRevB.52.9266

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Thin Solid Films Cameron 348 90 1999 10.1016/S0040-6090(99)00022-X

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Thin Solid Films Heitmann 5 61 1970 10.1016/0040-6090(70)90052-0

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