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NTIS 바로가기Applied surface science, v.168 no.1/4, 2000년, pp.312 - 315
Zhang, Jun-Ying (Corresponding author. Tel.: +44-207-419-3196) , Boyd, Ian W. (fax: +44-207-388-9325)
AbstractIn this paper, the effects of ultraviolet (UV) annealing on films deposited by photo-induced chemical vapour deposition (photo-CVD) have been investigated using ellipsometry and Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) measurements. It was found that SiO2 could be formed at UV annealin...
Appl. Phys. Lett. Laviale 65 2021 1994 10.1063/1.112781
Appl. Phys. Lett. Zhang 73 2299 1998 10.1063/1.121803
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J. Electron. Mater. Park 21 635 1992 10.1007/BF02655432
J. Phys. D: Appl. Phys. Zhang 32 L91 1999 10.1088/0022-3727/32/19/101
Appl. Surf. Sci. Zhang 154/155 17 2000 10.1016/S0169-4332(99)00406-7
Appl. Surf. Sci. Zhang 154/155 382 2000 10.1016/S0169-4332(99)00387-6
Nucl. Instr. Methods Phys. Res. Boyd B121 349 1997 10.1016/S0168-583X(96)00538-1
Thin Solid Films Zhang 336 340 1998 10.1016/S0040-6090(98)01303-0
Appl. Phys. Lett. Zhang 71 2964 1997 10.1063/1.120230
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